JPH045969A - 照射野限定装置 - Google Patents
照射野限定装置Info
- Publication number
- JPH045969A JPH045969A JP10545790A JP10545790A JPH045969A JP H045969 A JPH045969 A JP H045969A JP 10545790 A JP10545790 A JP 10545790A JP 10545790 A JP10545790 A JP 10545790A JP H045969 A JPH045969 A JP H045969A
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- JP
- Japan
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- shielding
- radiation
- opposed
- bodies
- projecting
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、放射線治療装置における放射線照射野や電
子線等の粒子線の照射野を限定するための照射野限定装
置に関するものである。
子線等の粒子線の照射野を限定するための照射野限定装
置に関するものである。
第7図は、例えば特公昭62−71.0号公報に記載さ
れた従来の照射野限定装置を示し、図において、放射線
源(1)を中心としてこれを含む中心線を有する仮想の
円筒体の周側面上を移動するように駆動される遮蔽体(
2a)、 (2b)が設けられている。遮蔽体(2a)
、 (2b)はそれぞれ遮蔽面(3a) 、 、 (4
a)を有する。(5a)、 (5b)は遮蔽体(2a)
、 (2b)の放射線源(1)側の端面、(6a)、
(6b)は遮蔽体(2a)、 <21))の照射野側端
面である。(7)は最大照射野を限定するための円錐状
の開口部(7a)をもつ絞りである。
れた従来の照射野限定装置を示し、図において、放射線
源(1)を中心としてこれを含む中心線を有する仮想の
円筒体の周側面上を移動するように駆動される遮蔽体(
2a)、 (2b)が設けられている。遮蔽体(2a)
、 (2b)はそれぞれ遮蔽面(3a) 、 、 (4
a)を有する。(5a)、 (5b)は遮蔽体(2a)
、 (2b)の放射線源(1)側の端面、(6a)、
(6b)は遮蔽体(2a)、 <21))の照射野側端
面である。(7)は最大照射野を限定するための円錐状
の開口部(7a)をもつ絞りである。
ここでは放射線治療の場合で遮蔽体を1対のみ記す。
遮蔽体(2a)の端面ADは放射線源(1)から拡散放
射される仮想面を当該位置で切り取った形状をしている
。また、遮蔽体(2a)の端面DE、AFは、放射線源
(1)を中心とする仮想円筒体の周側面上をそれぞれ当
該位置で切り取った形状になっている。遮蔽体(2b)
の端面GJ、JK、GLもそれぞれ遮蔽体(2a)にお
けるAD、DE、APと同様に構成されている。
射される仮想面を当該位置で切り取った形状をしている
。また、遮蔽体(2a)の端面DE、AFは、放射線源
(1)を中心とする仮想円筒体の周側面上をそれぞれ当
該位置で切り取った形状になっている。遮蔽体(2b)
の端面GJ、JK、GLもそれぞれ遮蔽体(2a)にお
けるAD、DE、APと同様に構成されている。
遮蔽体(2a)、 (2b)は紙面と直角方向に複数枚
配置され、それぞれ矢印で示すED、JK力方向開閉駆
動される。
配置され、それぞれ矢印で示すED、JK力方向開閉駆
動される。
最大照射野は絞り(7)で限定されているが、被照射野
が最大照射野より小さい場合には、遮蔽体(2a)、
(2b)を移動させ対向する端面AD、GJで形成され
る開口部を制御して被照射野を所定の大きさに制限する
。なお、紙面に垂直方向に配置された遮蔽体も当該照射
野に合わせて同様に制御される。
が最大照射野より小さい場合には、遮蔽体(2a)、
(2b)を移動させ対向する端面AD、GJで形成され
る開口部を制御して被照射野を所定の大きさに制限する
。なお、紙面に垂直方向に配置された遮蔽体も当該照射
野に合わせて同様に制御される。
従来の照射野限定装置は以上のように構成されているの
で、放射線を遮断する場合には遮蔽体(2a)、 (2
b)の対向する端面AD、GJを密着さぜねばならず、
放射線を急激に遮断する場合に対向する遮蔽体が衝突し
ないように制御する必要がある。そのうえ、遮蔽体の対
向面を密着させても僅かながら隙間が生じ、その隙間か
ら放射線が洩れて正確な放射線治療ができないという問
題点があった。
で、放射線を遮断する場合には遮蔽体(2a)、 (2
b)の対向する端面AD、GJを密着さぜねばならず、
放射線を急激に遮断する場合に対向する遮蔽体が衝突し
ないように制御する必要がある。そのうえ、遮蔽体の対
向面を密着させても僅かながら隙間が生じ、その隙間か
ら放射線が洩れて正確な放射線治療ができないという問
題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、放射線の遮断が確実にして正確な放射線治療
のできる照射野限定装置を得ることを目的とする。
たもので、放射線の遮断が確実にして正確な放射線治療
のできる照射野限定装置を得ることを目的とする。
この発明に係る照射野限定装置は、放射線を遮蔽する対
向した遮蔽体の対向面が互いに段違い係合するように、
それぞれ凸状面、凹状面を設けた。
向した遮蔽体の対向面が互いに段違い係合するように、
それぞれ凸状面、凹状面を設けた。
この発明においては、放射線の遮断は、対向した遮蔽体
の対向面の互いに段違い係合する凸状面、凹状面を放射
線が通過しないように放射線透過方向に係合させること
により、効果的に放射線を遮断する。
の対向面の互いに段違い係合する凸状面、凹状面を放射
線が通過しないように放射線透過方向に係合させること
により、効果的に放射線を遮断する。
第1図はこの発明の一実施例を示し、図において、放射
線源(1)を中心としてこれを含む中心線を有する仮想
の円筒体の周側面上を移動するように駆動される遮蔽体
(2a)、 (2b)が設けられており、遮蔽体(2a
)には凸状遮蔽面(3a)と凹状面(3c)、遮蔽体(
2b)には凸状遮蔽面(4a)と凹状面(4C)がそれ
ぞれ凸、凹対向して形成されている。(5a)、 (5
b)は遮蔽体(2a)、 (2b)の放射線源(1)側
の端面、(6a)、 (6b)は遮蔽体(2a)、 (
2b)の照射野側端面、(7)は最大照射野を限定する
とともに不要部分への放射線照射を阻止するための円錐
状の開口部(7a)をもつ絞りである。
線源(1)を中心としてこれを含む中心線を有する仮想
の円筒体の周側面上を移動するように駆動される遮蔽体
(2a)、 (2b)が設けられており、遮蔽体(2a
)には凸状遮蔽面(3a)と凹状面(3c)、遮蔽体(
2b)には凸状遮蔽面(4a)と凹状面(4C)がそれ
ぞれ凸、凹対向して形成されている。(5a)、 (5
b)は遮蔽体(2a)、 (2b)の放射線源(1)側
の端面、(6a)、 (6b)は遮蔽体(2a)、 (
2b)の照射野側端面、(7)は最大照射野を限定する
とともに不要部分への放射線照射を阻止するための円錐
状の開口部(7a)をもつ絞りである。
この実施例は放射線治療装置で、点状の放射線発生源を
有する場合である。なお、遮蔽体は対向する1対のみを
示したが、実際には紙面に垂直方向に複数枚配置され、
遮蔽体群を構成している。
有する場合である。なお、遮蔽体は対向する1対のみを
示したが、実際には紙面に垂直方向に複数枚配置され、
遮蔽体群を構成している。
また、遮蔽体(2a)の凸状面(3a)と遮蔽体(2b
)の凹状面(4c)および遮蔽体(2a)の凹状面(3
c)と遮蔽体(2b)の凸状面(4a)とがそれぞれ互
いに係合する場合で遮蔽体(2a)、 (2b)がそれ
ぞれ1対の凸状面、凹状面を有する場合を示す。
)の凹状面(4c)および遮蔽体(2a)の凹状面(3
c)と遮蔽体(2b)の凸状面(4a)とがそれぞれ互
いに係合する場合で遮蔽体(2a)、 (2b)がそれ
ぞれ1対の凸状面、凹状面を有する場合を示す。
遮蔽面(3a>、 (4a)は放射線の拡散放射仮想面
を当該位置で切り取った形状をしている。
を当該位置で切り取った形状をしている。
以上の構成により、最大照射野は絞り(ア)で限定され
ているが、被照射野が最大照射野より小さい場合には、
遮蔽体(2a)、 (2b)を移動させ、対向する端面
(3a)、 (4a)で形成される開口部を制御して、
被照射野を所定の大きさに制限する。遮蔽体(2a)の
遮蔽面(3a)は放射線源(1)から放射される放射線
の仮想進行面IABであり、同様に遮蔽体(4a)は放
射線源(1)から放射される放射線の仮想進行面IIJ
であるので、半影による照射野の不正確さは発生しない
。遮蔽体(2a)、 (2b)の遮蔽厚さAB、IJは
遮蔽体(2a)、 (2b)の材質と放射線の種類、遮
蔽したい程度によって十分な厚みを決定することができ
る。
ているが、被照射野が最大照射野より小さい場合には、
遮蔽体(2a)、 (2b)を移動させ、対向する端面
(3a)、 (4a)で形成される開口部を制御して、
被照射野を所定の大きさに制限する。遮蔽体(2a)の
遮蔽面(3a)は放射線源(1)から放射される放射線
の仮想進行面IABであり、同様に遮蔽体(4a)は放
射線源(1)から放射される放射線の仮想進行面IIJ
であるので、半影による照射野の不正確さは発生しない
。遮蔽体(2a)、 (2b)の遮蔽厚さAB、IJは
遮蔽体(2a)、 (2b)の材質と放射線の種類、遮
蔽したい程度によって十分な厚みを決定することができ
る。
また、放射線を遮断したい場合には、第2図に示すよう
に、対向する遮蔽体(2a)、 (2b)それぞれの遮
蔽面(3a)、 (4a)がIABIJが同一仮想進行
面になるように制御すれば達成できるが、散乱放射線や
遮蔽面(3a)、 (4a)の幾何学的不完全性等によ
る放射線の洩れが生じる可能性がある。そこで、放射線
遮断を完全にするには、第3図に示すように、対向する
遮蔽体(2a)、 (2b)をそれぞれABとGH,C
DとIJが接触する程度まで近ずける。
に、対向する遮蔽体(2a)、 (2b)それぞれの遮
蔽面(3a)、 (4a)がIABIJが同一仮想進行
面になるように制御すれば達成できるが、散乱放射線や
遮蔽面(3a)、 (4a)の幾何学的不完全性等によ
る放射線の洩れが生じる可能性がある。そこで、放射線
遮断を完全にするには、第3図に示すように、対向する
遮蔽体(2a)、 (2b)をそれぞれABとGH,C
DとIJが接触する程度まで近ずける。
これは互いの凸状面、凹状面が係合するので容易に実現
てきる。BC,HIの長さは、放射線の洩れがないよう
に決定することができる。尚、第2図、第3図の制御手
順の一例を第4図に示す。
てきる。BC,HIの長さは、放射線の洩れがないよう
に決定することができる。尚、第2図、第3図の制御手
順の一例を第4図に示す。
なお、上記実施例では遮蔽面が凸状面、凹状面各1個合
計2個で構成されたものを示したが、他の実施例として
第5図に示すように、3個以上の面で構成し、遮蔽体(
2a)、 (2b)それぞれの凹状面(3c)、 (3
d)と凸状面(4a)、 (4b)が1〜(3d)〜(
3c)。
計2個で構成されたものを示したが、他の実施例として
第5図に示すように、3個以上の面で構成し、遮蔽体(
2a)、 (2b)それぞれの凹状面(3c)、 (3
d)と凸状面(4a)、 (4b)が1〜(3d)〜(
3c)。
1〜(4a)〜(4b)がそれぞれ同一仮想面を構成す
るようにしてもよい。
るようにしてもよい。
また、上記実施例では1対の遮蔽体について述べたが、
紙面に垂直方向全てのものが同様の構成になっているの
はいうまでもない。
紙面に垂直方向全てのものが同様の構成になっているの
はいうまでもない。
また、上記実施例では点から放射される放射線の場合に
ついて述べたが、平行に照射される放射線の場合でも遮
蔽体を放射線の軸に直交する方向に移動させ、遮蔽面を
放射線の軸に平行に構成すれば同様の効果を有する。
ついて述べたが、平行に照射される放射線の場合でも遮
蔽体を放射線の軸に直交する方向に移動させ、遮蔽面を
放射線の軸に平行に構成すれば同様の効果を有する。
また、上記、実施例では放射線の場合について述べたが
、一般にどんな電磁波および粒子線に対しても同様の効
果を奏する。また、上記実施例では放射線遮蔽面を放射
線の通過する仮想断面を当該遮蔽体の位置で切り取った
形状としたが、遮蔽体の厚さが薄ければ平面で構成され
てもよく、同様の効果を奏する。
、一般にどんな電磁波および粒子線に対しても同様の効
果を奏する。また、上記実施例では放射線遮蔽面を放射
線の通過する仮想断面を当該遮蔽体の位置で切り取った
形状としたが、遮蔽体の厚さが薄ければ平面で構成され
てもよく、同様の効果を奏する。
また、放射線治療の都合で放射線を高速で遮断しなけれ
ばならないような場合には遮蔽体を高速て閉じる必要が
ある。このときの手順を第6図に示す。すなわち、放射
線を遮断する情報がきた場合、遮蔽体の対向する遮蔽面
それぞれの凸状面が一致する制御情報を作り、遮蔽体を
制御する。まず、遮蔽体の凸状面同志が一致するように
遮蔽体を移動させる。遮蔽体の凸状面同志が一致したら
遮蔽体の停止信号を送る。遮蔽体が慣性で互いにさらに
接近するように移動する。遮蔽体の遮蔽面の凸状面と凹
状面とが互いに係合するように構成されているので、対
向する遮蔽体は衝突することなく停止する。
ばならないような場合には遮蔽体を高速て閉じる必要が
ある。このときの手順を第6図に示す。すなわち、放射
線を遮断する情報がきた場合、遮蔽体の対向する遮蔽面
それぞれの凸状面が一致する制御情報を作り、遮蔽体を
制御する。まず、遮蔽体の凸状面同志が一致するように
遮蔽体を移動させる。遮蔽体の凸状面同志が一致したら
遮蔽体の停止信号を送る。遮蔽体が慣性で互いにさらに
接近するように移動する。遮蔽体の遮蔽面の凸状面と凹
状面とが互いに係合するように構成されているので、対
向する遮蔽体は衝突することなく停止する。
なお、以上の例は、対向する遮蔽面の凸状面が一致する
制御信号を出したが、放射線の遮断情報に対して、対向
する遮蔽面の凸状面が互いに対向する遮蔽体の凸状面の
作る領域の内部にはいるように制御信号を出しても同じ
効果を奏する。また、放射線治療の場合について述べた
が、一般の電磁波及び粒子線に対しても同様の効果を奏
する。
制御信号を出したが、放射線の遮断情報に対して、対向
する遮蔽面の凸状面が互いに対向する遮蔽体の凸状面の
作る領域の内部にはいるように制御信号を出しても同じ
効果を奏する。また、放射線治療の場合について述べた
が、一般の電磁波及び粒子線に対しても同様の効果を奏
する。
以上のように、この発明によれば、遮蔽体の対向する遮
蔽面に互いに段違い係合するように凸状面、凹状面を設
けたので、対向する遮蔽体を閉したとき、遮蔽体の対向
する遮蔽面を通って放射線の洩れがなくなり、精度の高
い放射線治療が可能になる。加えて、放射線を遮断して
対向する遮蔽体が衝突するまで余裕があるので、放射線
遮断制御が容易になる。
蔽面に互いに段違い係合するように凸状面、凹状面を設
けたので、対向する遮蔽体を閉したとき、遮蔽体の対向
する遮蔽面を通って放射線の洩れがなくなり、精度の高
い放射線治療が可能になる。加えて、放射線を遮断して
対向する遮蔽体が衝突するまで余裕があるので、放射線
遮断制御が容易になる。
第1図はこの発明の一実施例の要部断面図、第2図、第
3図は第1図のものの動作説明のための要部断面図、第
4図は同じく遮蔽体の制御のフローチャート図、第5図
は別の実施例の要部断面図、第6図は同じく遮蔽体の制
御のフローチャート図、第7図は従来の照射野限定装置
の要部断面図である。 (1)・・放射線源、(2a)、 (2b)・・遮蔽体
、(3a)〜(3d)、 (4a)〜(4c) −−遮
蔽面。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
3図は第1図のものの動作説明のための要部断面図、第
4図は同じく遮蔽体の制御のフローチャート図、第5図
は別の実施例の要部断面図、第6図は同じく遮蔽体の制
御のフローチャート図、第7図は従来の照射野限定装置
の要部断面図である。 (1)・・放射線源、(2a)、 (2b)・・遮蔽体
、(3a)〜(3d)、 (4a)〜(4c) −−遮
蔽面。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 電極波または粒子線の中心軸に対し直交する1つの仮
想面上に複数の遮蔽体を隣接し配列してなる電極波また
は粒子線の遮蔽体群を、前記電極波または粒子線束を挟
んで2群を対向配置し、前記電極波または粒子線の照射
範囲を所望の大きさ、形状に限定する照射野限定装置に
おいて、前記対向した2つの遮蔽体群の各遮蔽体の対向
面に互いに段違い係合する凸状面と凹状面をそれぞれ設
けたことを特徴とする照射野限定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10545790A JPH045969A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 照射野限定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10545790A JPH045969A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 照射野限定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH045969A true JPH045969A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14408117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10545790A Pending JPH045969A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 照射野限定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH045969A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008068092A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Siemens Ag | マルチリーフコリメータ |
| CN113546327A (zh) * | 2020-04-26 | 2021-10-26 | 西安大医集团股份有限公司 | 放射治疗设备 |
-
1990
- 1990-04-23 JP JP10545790A patent/JPH045969A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008068092A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Siemens Ag | マルチリーフコリメータ |
| CN113546327A (zh) * | 2020-04-26 | 2021-10-26 | 西安大医集团股份有限公司 | 放射治疗设备 |
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