JPH046214B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH046214B2 JPH046214B2 JP59274332A JP27433284A JPH046214B2 JP H046214 B2 JPH046214 B2 JP H046214B2 JP 59274332 A JP59274332 A JP 59274332A JP 27433284 A JP27433284 A JP 27433284A JP H046214 B2 JPH046214 B2 JP H046214B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- gas
- processing chamber
- injection port
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液体注入口を有する高分子材料製容
器の内面と外面とを夫々異なるプラズマガスにて
処理する方法に関する。
器の内面と外面とを夫々異なるプラズマガスにて
処理する方法に関する。
高分子材料等の表面改質法の一つとしてプラズ
マ処理を施こす方法が知られている。
マ処理を施こす方法が知られている。
プラズマ処理方法は、反応ガスのプラズマ化を
プラズマ処理室内で行う方法と、プラズマ処理室
外で行う方法との２つの方法に大別することがで
きる。
プラズマ処理室内で行う方法と、プラズマ処理室
外で行う方法との２つの方法に大別することがで
きる。
これらのプラズマ処理方法を第６図及び第７図
に基いて説明する。
に基いて説明する。
第６図はガスのプラズマ化を処理室内で行うタ
イプの装置を、第７図はガスのプラズマ化を処理
室外で行い、プラズマ化したガスを処理室内に導
入するタイプの装置を示し、夫々の装置において
符号１はガスボンベ、２は減圧弁、３は流量調整
弁、４は処理室、４′は処理室のとびら、５は真
空ポンプ、６は反応ガス用バルブ、７はパージ用
バルブ、８は真空排気用バルブ、９はリーク用バ
ルブ、１０はパツキン、１１はジエネレーター、
１５は被処理物を示し、第６図において１２はコ
イル、第７図において１３は導波管、１４はプラ
ズマシヤワー管を示す。
イプの装置を、第７図はガスのプラズマ化を処理
室外で行い、プラズマ化したガスを処理室内に導
入するタイプの装置を示し、夫々の装置において
符号１はガスボンベ、２は減圧弁、３は流量調整
弁、４は処理室、４′は処理室のとびら、５は真
空ポンプ、６は反応ガス用バルブ、７はパージ用
バルブ、８は真空排気用バルブ、９はリーク用バ
ルブ、１０はパツキン、１１はジエネレーター、
１５は被処理物を示し、第６図において１２はコ
イル、第７図において１３は導波管、１４はプラ
ズマシヤワー管を示す。
被処理物をプラズマ処理する場合、先づ被処理
物１５をプラズマ処理室４の所定の位置に入れと
びら4′を閉じると共にバルブ６，７及び９を閉
じ、バルブ８を開とした後真空ポンプ５をonと
してプラズマ処理室内を排気する。プラズマ処理
室内が所定の圧力に達したらバルブ６を開き、処
理室内を所定の圧力に保ちながらガスボンベ１か
ら反応ガスを供給しつゝジエネレーター１１を
onにし、処理室内でガスをプラズマ化するか、
プラズマ化されたガスをプラズマシヤワー管１４
により処理室内に導入することにより所定の時間
被処理物のプラズマ化処理を行う。被処理物のプ
ラズマ化処理が終つたらジエネレーター１１を
offとし、バルブ６及び８を閉とした後バルブ７
を開として処理室内を大気圧に戻し、とびら４′
を開いて被処理物１５を取り出す。
物１５をプラズマ処理室４の所定の位置に入れと
びら4′を閉じると共にバルブ６，７及び９を閉
じ、バルブ８を開とした後真空ポンプ５をonと
してプラズマ処理室内を排気する。プラズマ処理
室内が所定の圧力に達したらバルブ６を開き、処
理室内を所定の圧力に保ちながらガスボンベ１か
ら反応ガスを供給しつゝジエネレーター１１を
onにし、処理室内でガスをプラズマ化するか、
プラズマ化されたガスをプラズマシヤワー管１４
により処理室内に導入することにより所定の時間
被処理物のプラズマ化処理を行う。被処理物のプ
ラズマ化処理が終つたらジエネレーター１１を
offとし、バルブ６及び８を閉とした後バルブ７
を開として処理室内を大気圧に戻し、とびら４′
を開いて被処理物１５を取り出す。
また、プラズマ処理を行う場合、使用する反応
ガス（プラズマ化ガス）の種類により被処理物表
面の改質効果が異なることが知られている。そし
て、一つの部品に対して２種類以上のガスを用い
て順次プラズマ処理を施す方法、或いは２種類以
上の混合ガスを用いてプラズマ処理をする方法も
知られているが、一つの部品の部位によるガスの
種類を異にするプラズマ処理に関しては、先ずマ
スキングして第１のガスによるプラズマ処理を行
つた後該マスキングをはがし、ついで第１のガス
によるプラズマ処理を行つた部分をマスキング
し、第２のガスによるプラズマ処理を行うという
方法しかなく、面倒な操作を必要とする。
ガス（プラズマ化ガス）の種類により被処理物表
面の改質効果が異なることが知られている。そし
て、一つの部品に対して２種類以上のガスを用い
て順次プラズマ処理を施す方法、或いは２種類以
上の混合ガスを用いてプラズマ処理をする方法も
知られているが、一つの部品の部位によるガスの
種類を異にするプラズマ処理に関しては、先ずマ
スキングして第１のガスによるプラズマ処理を行
つた後該マスキングをはがし、ついで第１のガス
によるプラズマ処理を行つた部分をマスキング
し、第２のガスによるプラズマ処理を行うという
方法しかなく、面倒な操作を必要とする。
本発明は、プラズマ処理室内において、液体注
入口を有する高分子材料製容器の内面と外面とを
夫々異なるプラズマガスで同時に処理することに
より内面に液透過性を防止する性質を与え、外面
に塗装性あるいは接着性を向上せしめる性質を与
える方法を提供するものである。
入口を有する高分子材料製容器の内面と外面とを
夫々異なるプラズマガスで同時に処理することに
より内面に液透過性を防止する性質を与え、外面
に塗装性あるいは接着性を向上せしめる性質を与
える方法を提供するものである。
本発明は、プラズマ処理室内において、液体注
入口を有する高分子材料製容器の内側に、液体注
入口に挿入したプラズマガスシヤワー管より液透
過性を防止する性質を付与しうるプラズマガス
を、外側に塗装・接着性を向上せしめる性質を付
与しうるプラズマガスを同時に供給することを特
徴とする液体注入口を有する高分子材料製容器の
プラズマ処理方法である。
入口を有する高分子材料製容器の内側に、液体注
入口に挿入したプラズマガスシヤワー管より液透
過性を防止する性質を付与しうるプラズマガス
を、外側に塗装・接着性を向上せしめる性質を付
与しうるプラズマガスを同時に供給することを特
徴とする液体注入口を有する高分子材料製容器の
プラズマ処理方法である。
以下、本発明方法を詳しく説明する。
処理室内の圧力、プラズマ化ガスの流量、ジエ
ネレーターの出力、処理時間等は、処理室の大き
さ、被処理物の材質とガスの組み合わせ、或いは
希望するプラズマ処理の程度により適宜決定する
ことができる。
ネレーターの出力、処理時間等は、処理室の大き
さ、被処理物の材質とガスの組み合わせ、或いは
希望するプラズマ処理の程度により適宜決定する
ことができる。
ジエネレーターの高周波としては、13.56MHz
のラジオ波、約2450MHzのマイクロ波等を使用す
ることができ、また反応ガスとしてはO2，N2，
He，Ar，H2，CO，CF4，CCl2F2等プラズマ処
理に使用可能なあらゆるガスの中から目的に応じ
て適当なものを選んで使用することができる。
のラジオ波、約2450MHzのマイクロ波等を使用す
ることができ、また反応ガスとしてはO2，N2，
He，Ar，H2，CO，CF4，CCl2F2等プラズマ処
理に使用可能なあらゆるガスの中から目的に応じ
て適当なものを選んで使用することができる。
つぎに図面に基いて具体例を説明するが、本発
明は以下に説明する具体例に限定されるものでは
ない。
明は以下に説明する具体例に限定されるものでは
ない。
実施例 １
第１図に示す装置に用いてポリオレフイン樹脂
製燃料タンクの外面はO2ガスにより、内面はフ
ツ化炭化水素系ガスによりプラズマ処理を行つ
た。第１図において、符号１，１′はガスボンベ、
２，２′は減圧弁、３，３′は流量調整弁、４は処
理室、４′は処理室のとびら、５は真空ポンプ、
６，６′は反応用ガスバルブ、７はパージ用バル
ブ、８は真空排気用バルブ、９はリーク用バル
ブ、１０はパツキン、１１，１１′はジエネレー
ター、１３，１３′は導波管、１４，１４′はプラ
ズマシヤワー管、１５はポリオレフイン樹脂製燃
料タンクを示す。
製燃料タンクの外面はO2ガスにより、内面はフ
ツ化炭化水素系ガスによりプラズマ処理を行つ
た。第１図において、符号１，１′はガスボンベ、
２，２′は減圧弁、３，３′は流量調整弁、４は処
理室、４′は処理室のとびら、５は真空ポンプ、
６，６′は反応用ガスバルブ、７はパージ用バル
ブ、８は真空排気用バルブ、９はリーク用バル
ブ、１０はパツキン、１１，１１′はジエネレー
ター、１３，１３′は導波管、１４，１４′はプラ
ズマシヤワー管、１５はポリオレフイン樹脂製燃
料タンクを示す。
処理室４内に、ポリオレフインン樹脂製燃料タ
ンクの内部にプラズマシヤワー管１４′を挿入し、
外部にプラズマシヤワー管１４が位置するように
タンクを配置した後、前に説明したのと同様に処
理室内を減圧し、所定の圧力に達したとき、プラ
ズマシヤワー管１４′よりフツ化炭化水素系プラ
ズマガスを供給し、プラズマシヤワー管１４によ
りO2プラズマガスを供給した。その結果、タン
ク内面にはＣ−Ｆ供給が生じ、塗装・接着等は困
難になるが、燃料の透過性を防止する性質が付与
され、一方、タンク外面には＞Ｃ＝０結合或いは
−COOH結合等の極性基が形成され、塗装・接
着等の二次加工性が向上した。
ンクの内部にプラズマシヤワー管１４′を挿入し、
外部にプラズマシヤワー管１４が位置するように
タンクを配置した後、前に説明したのと同様に処
理室内を減圧し、所定の圧力に達したとき、プラ
ズマシヤワー管１４′よりフツ化炭化水素系プラ
ズマガスを供給し、プラズマシヤワー管１４によ
りO2プラズマガスを供給した。その結果、タン
ク内面にはＣ−Ｆ供給が生じ、塗装・接着等は困
難になるが、燃料の透過性を防止する性質が付与
され、一方、タンク外面には＞Ｃ＝０結合或いは
−COOH結合等の極性基が形成され、塗装・接
着等の二次加工性が向上した。
第１図に示す装置の場合、第２図及び第３図に
示すように、仕切り板１８を設けて２種以上のガ
スがお互に接触しないようにするのが好ましい。
示すように、仕切り板１８を設けて２種以上のガ
スがお互に接触しないようにするのが好ましい。
第３図は第２図のＡ−Ａ線における断面図を示
し、両図面において１６は台車、１７はレール、
１８は仕切板、１９はジヤツキ、８′は真空排気
用バルブを示し、他の符号は、第１図で説明した
符号と同一の意味を有し、且つ第２図及び該第３
図において処理室の部分のみの断面図を示す。
し、両図面において１６は台車、１７はレール、
１８は仕切板、１９はジヤツキ、８′は真空排気
用バルブを示し、他の符号は、第１図で説明した
符号と同一の意味を有し、且つ第２図及び該第３
図において処理室の部分のみの断面図を示す。
第２図及び第３図に示す装置を用いて被処理物
のプラズマ処理を行う場合には、処理装置内に設
置したレール１７上を台車に乗せて被処理物を移
動させ、タンクの開口部と仕切り板１８に設けた
穴の位置があつた時点で、台車に設けたジヤツキ
１９を上げることにより、穴の部分にタンクの開
口部が挿入されるようにタンクを位置せしめた後
プラズマ処理を行う。
のプラズマ処理を行う場合には、処理装置内に設
置したレール１７上を台車に乗せて被処理物を移
動させ、タンクの開口部と仕切り板１８に設けた
穴の位置があつた時点で、台車に設けたジヤツキ
１９を上げることにより、穴の部分にタンクの開
口部が挿入されるようにタンクを位置せしめた後
プラズマ処理を行う。
板１８の穴と被処理物の開口部との間の隙間
は、ゴムシール等によりほゞ完全にシールしても
よいが、第４図に示すように、シール代１８′を
設け、この部分を大きくすれば、プラズマ化した
ガスは隙間を通過する際に失活するため、完全に
シールする必要はない。
は、ゴムシール等によりほゞ完全にシールしても
よいが、第４図に示すように、シール代１８′を
設け、この部分を大きくすれば、プラズマ化した
ガスは隙間を通過する際に失活するため、完全に
シールする必要はない。
またプラズマ化したガスが失活する距離が判明
している場合には、プラズマ化ガスシヤワー管と
仕切り部との距離を前記距離に合わせることによ
り、仕切りを省略することができる。
している場合には、プラズマ化ガスシヤワー管と
仕切り部との距離を前記距離に合わせることによ
り、仕切りを省略することができる。
また、仕切り板を設ける代りに、第５図に示す
ように板状の仕切り用治具１８″に被処理物１５
の開口部にはめこみうる接合部２０を設けた板を
開口部にはめ込んだ後、処理室に入れるようにし
てもよい。
ように板状の仕切り用治具１８″に被処理物１５
の開口部にはめこみうる接合部２０を設けた板を
開口部にはめ込んだ後、処理室に入れるようにし
てもよい。
なお、２種類のガスの混合を少なくするために
は、真空排気用管とシヤワー管との相対位置を工
夫し各々のガスがまざらないようなガスの流れと
することが望ましい。
は、真空排気用管とシヤワー管との相対位置を工
夫し各々のガスがまざらないようなガスの流れと
することが望ましい。
以上説明した方法により被処理物をプラズマ処
理する場合において、夫々のプラズマ化ガスによ
る処理時間が異なる場合、一方のプラズマガスの
みを長時間導入し、他方は短時間導入するように
してもよい。
理する場合において、夫々のプラズマ化ガスによ
る処理時間が異なる場合、一方のプラズマガスの
みを長時間導入し、他方は短時間導入するように
してもよい。
なお、この場合、短時間導入するプラズマガス
の導入を停止し、一方のプラズマガスのみを送り
続ける場合、処理室内の圧力が変動し、処理効果
のバランスがくずれる恐れがあるので、短時間導
入するプラズマガスは、処理が終つた段階でジエ
ネレーターのみを停止しプラズマ化しないガスを
送り続けるのが好ましい。
の導入を停止し、一方のプラズマガスのみを送り
続ける場合、処理室内の圧力が変動し、処理効果
のバランスがくずれる恐れがあるので、短時間導
入するプラズマガスは、処理が終つた段階でジエ
ネレーターのみを停止しプラズマ化しないガスを
送り続けるのが好ましい。
また、前記装置を使用して部分的に表面処理し
たい場合、処理したい面に面した方のみにプラズ
マ化したガスを導入し、処理を欲しない側にはプ
ラズマ化してないガスを導入することにより、処
理したい面のみを効率よくプラズマ処理すること
ができる。
たい場合、処理したい面に面した方のみにプラズ
マ化したガスを導入し、処理を欲しない側にはプ
ラズマ化してないガスを導入することにより、処
理したい面のみを効率よくプラズマ処理すること
ができる。
第１図、第２図は本発明方法を説明するための
概略図、第３図は第２図のＡ−Ａ線における断面
図、第４図及び第５図は仕切板と開口部の接合状
態を示す図、第６図及び第７図は従来方法を説明
するための図である。 １，１′……ガスボンベ、４……処理室、５，
５′……真空ポンプ、１１，１１′……ジエネレー
ター、１３，１３′……導波管、１４，１４′……
プラズマガスシヤワー管、１５，１５′……被処
理物、１６……台車、１７……レール、１８……
仕切り板、１９……ジヤツキ。
概略図、第３図は第２図のＡ−Ａ線における断面
図、第４図及び第５図は仕切板と開口部の接合状
態を示す図、第６図及び第７図は従来方法を説明
するための図である。 １，１′……ガスボンベ、４……処理室、５，
５′……真空ポンプ、１１，１１′……ジエネレー
ター、１３，１３′……導波管、１４，１４′……
プラズマガスシヤワー管、１５，１５′……被処
理物、１６……台車、１７……レール、１８……
仕切り板、１９……ジヤツキ。
Claims (1)
- １ プラズマ処理室内において、液体注入口を有
する高分子材料製容器の内側に、液体注入口に挿
入したプラズマガスシヤワー管から液透過性を防
止する性質を付与しうるプラズマガスを、外側に
塗装・接着性を向上せしめる性質を付与しうるプ
ラズマガスを同時に供給することを特徴とする液
体注入口を有する高分子材料製容器のプラズマ処
理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27433284A JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27433284A JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61155430A JPS61155430A (ja) | 1986-07-15 |
| JPH046214B2 true JPH046214B2 (ja) | 1992-02-05 |
Family
ID=17540177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27433284A Granted JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61155430A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3844151B2 (ja) * | 1997-05-14 | 2006-11-08 | 凸版印刷株式会社 | 表面処理装置 |
| DE102005029360B4 (de) * | 2005-06-24 | 2011-11-10 | Softal Corona & Plasma Gmbh | Zwei Verfahren zur kontinuierlichen Atmosphärendruck Plasmabehandlung von Werkstücken, insbesondere Materialplatten oder -bahnen |
| JP6224139B2 (ja) * | 2016-01-22 | 2017-11-01 | 沖野 晃俊 | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS515869A (en) * | 1974-07-02 | 1976-01-19 | Torao Tobisu | Ekitaino seidenjokasochi |
| JPS59126437A (ja) * | 1983-01-07 | 1984-07-21 | Unitika Ltd | シ−ト状物の低温プラズマ処理方法 |
-
1984
- 1984-12-28 JP JP27433284A patent/JPS61155430A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61155430A (ja) | 1986-07-15 |
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