JPH0462304B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、アミド類の存在下、アルデヒドを触
媒を用いてアミドカルボニル化し、Ｎ−アシル−
α−アミノ酸類を製造する方法に関する。 更に詳しくは、本発明は、トリブチルホスフイ
ン又はニトリル促進剤と溶媒とにより所定の量比
で錯形成されたコバルト含有化合物の存在下、少
なくとも25℃の温度と少なくとも3.5MPa
（500psi）の圧力でパラホルムアルデヒドをアミ
ド及び一酸化炭素（CO）と１〜10時間反応させ、
フエニルアラニン合成又はＬ−DOPA合成ある
いはグリシン製造に有用な中間体であるＮ−アセ
チルグリシンの製造方法の改良に関する。 当初、シツフ塩基又はニトリルを一酸化炭素及
び水素と反応させることによりα−アミノ酸又は
その誘導体を合成しようとする試みは成功しなか
つた［ブル・ケム・ソサイエテイ・ジヤパン
（Bull.Chem.Soc.Japan）33、160（1978）］。 ワカマツによる米国特許第3766266号には、ア
ルデヒド、カルボン酸アミド及び一酸化炭素を、
カルボニル化触媒の存在下、10〜300℃の温度と
少なくとも500気圧の圧力にＮ−アシル−α−ア
ミノ酸が生成するまで保持することからなるＮ−
アシル−α−アミノ酸の製造方法が開示されてい
る。そして触媒としてはジコバルトオクタカルボ
ニルが使用されている。 ケミカル・コミニユケーシヨン（Chem.
Comm.）1540（1971）において、アルデヒド、ア
ミド及び一酸化炭素から種々のＮ−アシルアミノ
酸類を生成するコバルト触媒反応がワカマツらに
より最初に開示された。即ち、コバルトオクタカ
ルボニル触媒を使用するとパラホルムアルデヒド
から低収率ながらＮ−アセチルグリシンが製造さ
れた。 アルデヒド、CO及びアミドをジコバルトオク
タカルボニルの存在下反応させるとＮ−アシル−
α−アミノ酸類が生成する合成反応についての動
力学及び触媒機構は、パーナウド（Parnaud）ら
により、ジヤーナル・オブ・モルキユラー・キヤ
タリシス（Journal of Molecular Catalysis）、
６（1979）341〜350で検討されている。 アミドカルボニル化においては、アルデヒド
は、アリルアルコール、ハロゲン化アルキル、オ
キシラン類、アルコール類、及びオレフイン類か
ら“in situ”で発生させることができ、次いで、
アミド及び一酸化炭素と反応させることにより、
Ｎ−アシル−α−アミノ酸を生成する。 関連する特許としては米国特許第3996288号が
ある。かかる特許には、アルコール又はある種の
アルコールエステル誘導体を、水素、一酸化炭
素、カルボン酸アミド、及びカルボニル化触媒を
存在させて50〜200℃の温度及び10〜500気圧の圧
力に保持するとアルコール又はエステルよりも炭
素数が１個以上多いアルデヒドが好収率で生成す
ることが開示されている。アミドがそのアミド窒
素に少なくとも１個の活性水素を有すれば、この
アミドは更にアルデヒド及び一酸化炭素と反応
し、Ｎ−アシルアミノ酸を生成する。 ヒライらは、アリルアルコールを遷移金属触媒
で異性化させてアルデヒドとし更にコバルト触媒
でアミドカルボニル化することによりアリルアル
コール類からＮ−アシル−α−アミノ酸類を製造
する合成経路について検討している。テトラヘド
ロン・レターズ（Tetrahedron Letters）、第23
巻、第24号、2491〜2494頁、（1982）参照のこと。 米国特許第4264515号には、アルデヒドをオレ
フイン類とCO／H₂混合物とから“in situ”で生
成させコバルトカルボニル化触媒によつて接触さ
れる反応により、末端Ｎ−アシル−α−アミノ酸
を得る方法が開示されている。即ち、不飽和植物
油又はC₈〜C₃₀のモノオレフイン化合物を、コバ
ルト触媒の存在下、アミド、一酸化炭素及び水素
と反応させる。かかる方法は一工程で行われ、選
択率が高くなる。 特開昭58−69853号には、アリルアルコール、
アセトアミド、一酸化炭素及び水素をCo及び第
族の金属化合物並びに溶媒の存在下で反応させ
Ｎ−アシルアミノ酸類を製造する方法が開示され
ている。 西独特許公開公報第3242374号には、第族〜
第族の金属含有化合物を促進剤として用い、オ
キシラン類を、一酸化炭素、水素及びコバルト含
有触媒の存在下でアミド類と接触させることによ
りアセチルアミノ酸類を製造する方法が教示され
ている。 これら上述した開示にあつては、活性触媒とし
て、一般に、ジコバルトオクタカルボニルが用い
られていた。パラホルムアルデヒド、アセトアミ
ド及び一酸化炭素を反応させる場合には、生成物
であるＮ−アセチルグリシン（アミノ酸族にあつ
て分子量が最小）がコバルト触媒に対する錯形成
剤として作用する。その結果、コバルト触媒が不
活性化され、一酸化炭素及び水素を高圧にする必
要があつた。 コバルト触媒のリガンドを例えばホスフイン、
アミン又はニトリルに変更することもこれまでに
報告されている。合成ガス反応、例えばヒドロホ
ルミル化又はメタノールホモロゲイシヨンについ
ては、コバルトとの錯形成にトリアルキルホスフ
インを用いることができることが公知である。例
えば、オランダ国特許第7606138号においては、
シエル社（Shell）は、メタノール及びCO／H₂
混合物から選択的にエタノールを合成するために
コバルトと第三級（tertiary）のホスフインとの
組合わせを特許請求した。またセラニーズ社
（Celanese）は、メタノールと一酸化炭素及び水
素との反応について、ニトリル類も含めて有機窒
素リガンドと錯形成したコバルトカルボニルから
なる触媒を用いており、このことは、米国特許第
4201868号及び同第4168391号に開示されている。 米国特許第4209467号、同第4092188号及び同第
3996164号においては、ピリジン、２−ヒドロキ
シピリジン及び脂環式アミン類も含めて、アミン
リガンドが、オレフイン類のヒドロホルミル化又
はカルボニル化について、ジコバルトオクタカル
ボニルとともに用いられた。リガンドの機能は、
触媒を安定化しかつ生成物の選択率を高めること
であつた。 米国特許第3931332号においては、コバルト及
びジアミン促進剤の比が重要であることが示され
ている。添加されるジアミン安定剤の添加量が増
大するとヒドロホルミル化の反応速度が著しく減
少し、コバルトに対するリガンドの量が少ない方
が反応速度に関しては好ましい。 エルドール及びコール・エルドガス（Exdol
and Erdgas）によるペトロケミツク
（Petrochemic）35(1)、36、1982及びジヤーナ
ル・オブ・モルキユラー・キヤタリシス（J.Mol.
Cat.）12（1981）113〜119においては、アミノ酸
類及びそれらの誘導体が遷移金属に対するリガン
ドとして作用するという証拠が提示されている。 ジヤーナル・オブ・オルガノメタリツク・ケミ
ストリー、279、（1985）、203〜214においては、 (1) アリルアルコールの異性化−アミドカルボニ
ル化、 (2) オキシラン類の異性化−アミドカルボニル化
及び (3) トリフルオルプロペンのヒドロホルミル化−
アミドカルボニル化 を経由するＮ−アシル−α−アミノ酸類の合成に
対する均一二成分系がオジマにより開示されてい
る。トリフルオルプロペンの反応の場合において
は、それぞれCo₂（CO）₈−Rh₆（CO）₁₆及びCo₂
（CO）₈を触媒として用いれば、Ｎ−アセチルトリ
フルオルバリン及びＮ−アセチルトリフルオルノ
ルバリンが高収率で高レジオ選択的に合成され
る。 アルデヒド、アミド及び一酸化炭素からアミド
酸を形成するアミドカルボニル化反応において
は、コバルト接触ヒドロホルミル化又はカルボニ
ル化に比較して著しく温和な反応温度（約120℃）
でアルデヒド−アセトアミド付加体のヨウ素が関
与しないコバルト接触カルボニル化が起こる。本
発明における例においては、種々のリガンドが重
要であることが示された。対照的なことにサクシ
ノニトリルやトリ−ｎ−ブチルホスフインリガン
ドはコバルトの回収率や生成物の選択性を高める
補助となるが、ジアミンやアセトニトリルは溶媒
として多量に使用すると逆に反応を妨げる。これ
らリガンドの効果については定かであるとはいえ
ないが、コバルト錯体に対するリガンドの強度及
び用いるリガンドの量を考慮してリガンドを選択
すればよいものと我々は信じる。本発明の方法に
おいては、リガンドは、アミド酸生成物よりも強
くコバルトと錯形成するものかあるいは錯形成能
が弱くて不活性がないものによつた。 本発明に従えば、次式 R⁴−CHO で示されるアルデヒドと次式 R⁵NH・CO・R⁶ で示されるアミドとを、コバルト触媒の存在下
に、少なくとも25℃の温度と少なくとも3.5MPa
の圧力とで一酸化炭素と水素とともに反応させる
ことにより、次式 〔式中、R⁴、R⁵及びR⁶は、同一であつてもある
いは異なつていてもよく、それぞれ、水素原子又
は直鎖、分岐若しくは環式の有機基である。〕 で示されるＮ−アシル−α−アミノ酸類の製造方
法であつて、 コバルト触媒が不活性溶媒中ニトリル又は第三
級のホスフインによつて促進される方法が提供さ
れるものである。 本発明の好ましい態様においては、アルデヒド
例えばパラホルムアルデヒド、一酸化炭素、水素
及びアミドを、ニトリル促進剤と錯形成したコバ
ルト含有化合物又はトリアルキルホスフインリガ
ンドで促進されたコバルト含有化合物とともに溶
媒に溶解し、低圧又は中圧でかつ少なくとも25℃
の温度で、約１〜10時間接触させる。 アミドカルボニル化にコバルトと錯形成したニ
トリルを作用することは新規であり、またアミド
酸合成にトリアルキルホスフインを使用すること
も新規である。特に後者の場合には、7MPa
（1000psi）以下の圧力で極めて効果的に反応を行
なうことができる。 本発明の更に好ましい態様においては、Ｎ−ア
シルグリシンは、ニトリル促進剤又はトリアルキ
ルホスフインと所定のモル比で錯形成したコバル
ト含有化合物と実質的に不活性な溶媒とからなる
触媒系を少なくとも25℃の温度と少なくとも
3.5MPa（500psi）の圧力で所望のＮ−アセチルグ
リシンの実質的な形成が達成されるまでパラホル
ムアルデヒド、アミド及び合成ガス（一酸化炭素
及び水素）の混合物と接触させる改良方法によつ
て前記混合物から製造される。 ニトリル又はトリアルキルホスフイン錯体を用
いる合成は、次式１ によつて最もよく表わすことができる。 Ｎ−アセチルグリシンを反応生成物から回収す
るには、蒸留、抽出、過、晶析等の便利な又は
慣用的方法に従えばよい。 本発明の第１の実施態様を実施するために好適
な触媒系は、実質的に不活性な溶媒中ニトリルと
錯形成したコバルト含有化合物からなる。 本発明の触媒系において、コバルト含有化合物
及びサクシノニトリルは、アミドカルボニル化に
対し極めて高活性な触媒系となる錯体を形成し合
成ガスを高圧とする必要がない。 コバルト含有化合物は数多くの種々の形態をと
ることができる。例えば、コバルトは、種々の無
機又は有機のコバルト塩又はコバルトカルボニル
の形態で反応混合物に加えることができる。コバ
ルトは、例えば、ハロゲン化コバルト例えば臭化
コバルト又は塩化コバルトとして加えることがで
き、また、脂肪族又は芳香族カルボン酸の塩例え
ばギ酸コバルト、酢酸コバルト、酪酸コバルト、
コバルトナフエネート（cobalt naphenate）及
びステアリン酸コバルトとして加えることもでき
る。コバルトカルボニルはテトラコバルトドデカ
カルボニル又はジコバルトオクタカルボニルであ
つてもよい。好ましくは、コバルト含有化合物は
ジコバルトオクタカルボニルがよい。 本発明の方法の第１の実施態様においては、ニ
トリルはコバルト含有化合物を活性化あるいは安
定化するために用いられる。比較のための例及
びにあつては、サクシノニトリルを用いなけれ
ば、コバルト化合物それ自身では、Ｎ−アセチル
グリシンへの選択率ははるかに低いことが示して
ある。 ニトリルは、構造式(A) NC−R₁−CN (A) 〔式中、R₁はアルキル基例えば−（CH₂）ｘ又は
芳香続基を表わす。〕 で示される形態で加えることができる。好ましい
形態としては、アジポニトリル、サクシノニトリ
ル、グルタロニトリル及びｏ−フエニレンジアセ
トニトリルがある。モノニトリル化合物例えばア
セトニトリル、ブチロニトリル及びベンゾニトリ
ルも用いることができるが、効果は劣つている
（例参照）。 第三級ホスフインは、本発明の方法の第２の実
施態様において7MPa（1000psi）以下の圧力でコ
バルト含有化合物を活性化するために使用するこ
とができる。比較のための例XIは、7MPa
（1000psi）以下の圧力にあつて、コバルト化合物
それ自身では、全く生成物を与えないことを示し
ている。 本発明の方法において作用する好適な第三級ホ
スフインとしては、次式 R₃P 〔式中、Ｒはリン原子に結合した有機基、具体的
には、アルキル基、アリール基又はアルカリール
基を表わす。〕 で示される。 特に有用な有機基としては、直鎖炭素原子１〜
10個を有する有機基が含まれる。即ち、メチル
基、エチル基、ブチル基、ヘプチル基、オクチル
基、ドデシル基、メチル基、ブチル基及びエチル
基を有する第三級ホスフインは現在市販されてい
る典型的な例である。特に、ｎ−トリブチルホス
フインが有用である。 本発明の方法における供給原料としては、種々
のアルデヒド類を使用することができる。更に具
体的には、脂肪族、脂環式、芳香族及び複素環式
アルデヒド類が本発明の方法において使用して好
結果を得ることができる。 好適なアミド類で好収率が得られるアルデヒド
類には、パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒ
ド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒド、ブチルアルデヒド、フエニルアセ
トアルデヒド、２，４−ジヒドロキシフエニルア
セトアルデヒド、インドリルアセトアルデヒド、
クロトンアルデヒド、β−ホルミルプロピオンア
ルデヒド、β−ホルミルプロピオン酸及びそのエ
ステル類、β−メチルメルカプトプロピオンアル
デヒド、グリコールアルデヒド、α−アセトキシ
プロピオンアルデヒド、ステアリルアルデヒド、
ベンズアルデヒド、フルフラール、インドールア
ルデヒド、アジポアルデヒド、アクロレイン等が
ある。最も好ましくは、パラホルムアルデヒド及
びホルムアルデヒドである。 アミドカルボニル化において有用な好適なアミ
ド含有共反応体は、次式 〔式中、R₁及びR₂は、アリール基、アルキル基、
アリールアルキル基、アルキルアリール炭化水素
基又は水素原子の組合わせであつてもよく、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ｎ−オクチル基、フ
エニル基、ベンジル基、クロルフエニル基等であ
る。〕 で示される一般構造を有する。好適なアミド共反
応体の例としては、アセトアミド、ベンズアミ
ド、ホルムアミド、ｎ−メチルホルムアミド、ラ
ウルアミド、ｎ−メチルベンズアミド等がある。 上述したように、本方法は、均一な液層混合物
で行われる。反応は、好ましくは、不活性溶媒中
で行う。好ましい不活性溶媒としては、コバルト
触媒前駆体、アミド及びアルデヒド化合物を少な
くとも一部溶解するものがよい。これらは、一般
に極性溶媒であつて、例えば、エステル、エーテ
ル、ケトン、アミド、スルホキシド又は芳香族炭
化水素等である。 酢酸メチル及び酢酸エチルが好適な溶媒の例で
ある。その他の極性溶媒としては、エーテル類例
えばｐ−ジオキサン、メチルｔ−ブチルエーテ
ル、メチルｔ−アミルエーテル又はテトラヒドロ
フラン、第三級アミド類例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド及び炭酸エチレンが
ある。 例〜においては、サクシノニトリルは使用
せず、かつ溶媒をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、メタノール更にはアセトニトリルと変化させ
た。Ｎ−アセチルグリシンは全く生成しないか、
生成しても極めてわずかであつた。 好ましい溶媒は酢酸エチルである。 Ｎ−アセチルグリシンは溶媒層に溶けないこと
が多い。したがつて、コバルト触媒は、予め酸性
にするか、あるいは酸性にしなくとも溶けるので
分離可能である。 本発明の第１の実施態様においては、使用する
コバルト含有化合物、サクシノニトリル促進剤及
び溶媒の量は変化させることができる。本方法
は、触媒的に有効量の活性コバルト含有化合物、
サクシノニトリル促進剤及び溶媒の存在において
行なうことができ、所望の生成物を妥当な収率で
生成する。反応混合物の総重量を基準にして、約
0.1重量％あるいはそれ以下のコバルト含有化合
物を約0.1重量％のサクシノニトリルと合わせて
使用すると反応が進行する。上限濃度は、触媒コ
スト、一酸化炭素及び水素の分圧、操作温度等の
種々の因子によつて支配される。本発明を実施す
る場合、一般に、反応混合物の総重量を基準にし
て、コバルト含有化合物の濃度を約0.1〜約10重
量％とし、サクシノニトリルの濃度を約0.1〜10
重量％の濃度とし、不活性溶媒の濃度を約10〜約
80重量％とするのが望ましい。 特に、触媒系の上述した成分を以下のようなモ
ル比、即ち、コバルト含有化合物／サクシノニト
リル約1.0／0.1〜1.0／5.0とした時、良好な結果
が得られる。 本発明の第２の実施態様において用いられる、
コバルト含有化合物、第三級ホスフイン及び溶媒
の量もまた変化させることができる。本方法は、
触媒的に有効量の活性コバルト含有化合物、第三
級ホスフイン及び溶媒の存在において実施すれ
ば、所望の生成物を妥当な収率で生成する。反応
混合物の総重量を基準にして、約0.1重量％ある
いはそれ以下のコバルト含有化合物を第三級ホス
フイン例えばＮ−トリブチルホスフイン約0.1重
量％とともに用いると反応が進行する。上限濃度
は、触媒のコスト、一酸化炭素及び水素の分圧、
操作温度等の種々の因子によつて支配される。本
発明を実施する場合、一般に、反応混合物総重量
を基準にして、コバルト含有化合物の濃度を約
0.1〜約10重量％とし、Ｎ−トリブチルホスフイ
ンの濃度を約0.1〜約10重量％とし、不活性溶媒
の濃度を約10〜約80重量％とするのが望ましい。 特に、触媒系の上述した成分を以下のようなモ
ル比、即ち、コバルト含有化合物／トリアルキル
ホスフイン1.0／0.1〜1.0／5.0とした時、良好な
結果が得られる。 操作条件は広範囲に亘つて変化させることがで
きる。反応温度は25℃〜300℃で変化させること
ができる。好ましくは、温度は80℃〜150℃とす
るのが良い。圧力は3.5MPa（500psi）〜
27.56MPa（4000psi）以上の範囲とすることがで
きる。しかしながら、ニトリルを用いる実施態様
においては、圧力は約7MPa（1000psi）〜約
27.56MPa（4000psi）とするのが好ましく、トリ
ブチルホスフインリガンドを用いる実施態様にお
いては7MPa（1000psi）以下とするのが好まし
い。 コバルト触媒の活性を最大にするためには、水
素の存在が必要であるけれども、本発明のアミド
カルボニル化反応は一酸化炭素濃度に富んだ雰囲
気で行うのが最もよい。 反応器中の水素／一酸化炭素のモル比は、変更
可能であつて、20／１〜１／20の範囲とすること
ができるが、好ましくは、一酸化炭素の濃度に富
むのが好ましく、H₂／COの比は１／１〜１／５
とするのがよい。 反応を連続的に行うかあるいは長時間行う場合
には、触媒に夾雑物が混入しないようにするべき
であるが、使用する一酸化炭素は特に純度が高く
なければならないということはない。連続操作に
おいては特に、バツチ操作においてはさほどでは
ないものの、一酸化炭素及び水素ガスは、一種以
上の他のガスを体積比で10％まで混合させて用い
ることもできる。これら他のガスとしては、一種
以上の不活性ガス例えば、アルゴン、窒素等の一
種以上が含まれ、一酸化炭素の水素化条件下で反
応するものであつても反応しないものであつても
よい。これらの例としては、例えば二酸化炭素、
炭化水素類例えば、メタン、エタン、プロパン
等、エーテル類例えば、ジメチルエーテル、メチ
ルエチルエーテル及びジエチルエーテル、アルカ
ノール類例えばメタノール等がある。 これらの合成全てにおいて高選択性を達成する
ためには、反応混合物中に存在する一酸化炭素、
アルデヒド及びアミドの量は、上述した式にお
いて示したように、所望のＮ−アセチルグリシン
の生成を少なくとも化学量論的に満足するのに充
分な量とすべきである。しかしながら、化学量論
量を上まわる過剰の一酸化炭素が存在してもよ
く、むしろそのほうが望ましい。 本合成の所望の生成物はＮ−アシルアミノ酸類
である。所望の主要な生成物であるＮ−アセチル
グリシンは、サクシノニトリルを使用する実施態
様においては、80％に到る程、また第三級ホスフ
イン例えばＮ−トリブチルホスフインの存在にお
いては75％と極めて多量に生成する。それと同時
に、パラホルムアルデヒドとアセトアミドの縮合
生成物であるビスアミダールもかなりの量生成す
る。これら生成物の各々は、副生成物も含めて慣
用的な手段例えば再結晶によつて反応混合物から
回収することができる。 本発明の新規な方法は、バツチ式、半連続式又
は連続式で実施することができる。触媒は、当
初、バツチ的に反応域に導入することもでき、あ
るいは合成反応中かかる反応域に連続的又は断続
的に導入してもよい。操作条件は、所望のアミノ
酸生成物の生成が最適となるように調整すること
ができ、前記生成物は、公知の方法例えば、
過、再結晶、蒸留、抽出等で回収することができ
る。次いで、所望ならば、触媒成分に富んだ画分
は、反応域に再循環することができ、更に生成物
を生じせしめることができる。 かかる操作作業において、生成物は、以下の分
析操作の１種以上、即ち、気液クロマトグラフイ
（glc）、ガスクロマトグラフイ／赤外吸収スペク
トル法（GC／IR）、核磁気共鳴スペクトル法
（nmr）、元素分析又はこれら分析技術の組合わせ
によつて同定することができた。多くの場合、分
析は分子量によつた。温度は全て摂氏温度であ
り、また圧力は全てポンドパースクエアインチ
（psi）である。 各合成におけるＮ−アセチルグリシンの収率
（モル％）は式 得られたＮ−アセチルグリシンのモル数／仕込んだパラ
ホルムアルデヒドのモル数×100％ を用いて式１を基準にして評価することができ
る。 以下、例を挙げ本発明を更に詳細に説明する。
しかしながらこれらの例は本発明を説明するため
のものであつて、本発明を限定するものではな
い。 例 ガラス内張製のオートクレーブに、ジコバルト
オクタカルボニル（0.34ｇ、1.0ミリモル）、サク
シノニトリル（0.08ｇ、1.0ミリモル）、パラホル
ムアルデヒド（2.0ｇ、0.066モル）、アセトアミ
ド（5.9ｇ、0.1モル）及び酢酸エチル（15.0ｇ）
を仕込んだ。反応器を密閉し、モル比１：１の
CO／H₂混合物でフラツシし、次いで、CO／H₂
（１：１）で8.27MPa（1200psi）に加圧し、更に
COで15.85MPa（2300psi）に加圧した（CO／
H₂3：１の混合物を生じる。）。この系を120℃に
加熱した。その間、最大圧力20.76MPa（3000psi）
を記録した。反応を２時間行つた。次いで、反応
器を室温まで冷却してから過剰のガスを排気し
た。生成物を過した。固体物質（8.5ｇ）と液
体（15.7ｇ）とが回収された。Ｈ−nmrにより２
つの生成物が判明した。これら生成物は、Ｎ−ア
セチルグリシン（）（仕込んだパラホルムアル
デヒド基準の収率81％）とビスアミダール（）
（収率６％）であつた。 【式】【式】 液体中のコバルト分析濃度は3470ppmであり、
仕込んだジコバルトオクタカルボニル基準で47％
のコバルトが回収された。 例 〜 例〜においては、例におけると同様の操
作を用いた。 第表に例〜についてのデータを示す。 【表】 【表】 例及びは、ジコバルトオクタカルボニル触
媒のみを用い、サクシノニトリルを用いない比較
例である。これら２つの例によれば、 (1) Ｎ−アセチルグリシンへの選択性が低い (2) 液層におけるコバルト回収率が極めて低いこ
とが判明する。 例においては、TMEDA（即ち、テトラメチ
ルエチレンジアミン）液体をジコバルトオクタカ
ルボニルと組合わせて用いた。その結果、
TMEDAはコバルト触媒を不活性化し、カルボ
ニル化生成物を生成しないことが明らかとなつ
た。 例及びにおいては、サクシノニトリルの量
を変化させた。収率におけるその差は小さいよう
であつた。しかしながら、例、例及び例を
比較対照すると、サクシノニトリルの濃度が低い
程、より効果的であることが判明するであろう。 例〜においては、３種の異なる溶媒、即
ち、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、メタノール
及びアセトニトリルを用いた。これら反応の収率
が低いのは、これら反応条件下でコバルト触媒を
不活性化する錯形成剤（溶媒）が多量に存在する
ためであろう。 例 300mlの撹拌器付のオートクレーブにジコバル
トオクタカルボニル（0.68ｇ、２ミリモル）、ト
リ−ｎ−ブチルホスフイン（0.40ｇ、２ミリモ
ル）、パラホルムアルデヒド（2.0ｇ、0.66モル）、
アセトアミド（5.9ｇ、1.0モル）及び酢酸エチル
（20ｇ）を仕込んだ。反応器を密閉し、CO／H₂
（モル比１：１）でパージした。次いで、反応器
をCO／H₂（１：１）で0.7MPa（100psi）に加圧
し、120℃に加熱した。この温度で、系を純粋な
一酸化炭素で5.5PMa（800psi）に加圧した。 反応が進行するにつれ圧力が下がるので系に更
に一酸化炭素を加えて加圧することにより圧力を
5.5MPa（800psi）に維持した。３時間に亘る反応
時間中、一酸化炭素を繰り返し添加した。次い
で、この系を室温まで冷却した。約6.0ｇの褐色
固体と21.5ｇの液体とからなる生成物混合物が得
られた。固体をＨ−nmrで分析したところ、生成
物（）即ちＮ−アセチルグリジンが 化合物：：のモル比1.2：1.0：1.0で存在
した。アセトアミドは固体として存在したがその
量は比較的少なかつた。 例 （比較例） Co₂（CO）₈（0.68ｇ）、パラホルムアルデヒド
（2.0ｇ）、アセトアミド（5.9ｇ）及び酢酸エチル
（20ｇ）の混合物を用い、トリブチルホスフイン
を用いない以外は例と同様の反応操作を行つ
た。同様の反応条件、即ち120℃の温度及び
5.51MPa（800psi）の一酸化炭素圧力で反応を行
つても一酸化炭素の消費は観察されなかつた。３
時間の反応時間の後、褐色の液体生成物溶液が得
られた。GC分析の結果、痕跡量のＮ−アセチル
グリシンが生成していた。 本例により、CO低圧においてコバルト触媒を
活性化するためにはｎ−Bu₃Pが重要であること
が判明した。 例 XII Co₂（CO）₈（1.36ｇ）、ｎ−Bu₃P（0.80ｇ）、パラ
ホルムアルデヒド（4.0ｇ）、アセトアミド（11.8
ｇ）及び酢酸メチル（30ｇ）を用いて例の実験
操作を行なつた。２時間の反応時間後、39.5ｇの
液体物質と2.0ｇの固体物質とが得られた。固体
生成物をＨ−nmrで分析したところ、化合物：
はモル比で10：１であつた。 例 反応器にCo₂（CO）₈（0.68ｇ）、ｎ−Bu₃P（0.20
ｇ）、パラホルムアルデヒド（2.0ｇ）、アセトア
ミド（5.9ｇ）及び酢酸エチル（20ｇ）を仕込ん
で、例の実験操作を行つた。反応条件は、温度
が110〜148℃であり、反応時間が２時間であり、
CO／H₂の比が約２：１であつた。固体生成物混
合物（約4.0ｇ）が回収された。Ｈ−nmr分析の
結果、生成物：：の比は1.0：1.8：1.9であ
つた。 例 反応器にCO₂（CO）₈（1.36ｇ）、ｎ−Bu₃P（0.40
ｇ）、パラホルムアルデヒド（2.0ｇ）、アセトア
ミド（5.9ｇ）及び酢酸エチル（20ｇ）を仕込ん
だ以外は例の実験操作を行なつた。反応条件
は、温度が117℃であり、反応時間が４時間であ
り、CO／H₂の比が約８：１であつた。液体19.1
ｇと固体5.3ｇとが得られた。分析の結果、化合
物が固体物質として存在した。 例 反応器にCO₂（CO）₈（1.10ｇ）、ｎ−Bu₃P（0.65
ｇ）、パラホルムアルデヒド（2.0ｇ）、アセトア
ミド（5.9ｇ）及び酢酸エチル（20ｇ）を仕込み、
例の実験操作を行つた。反応条件は、CO／H₂
の比が８：１であり、反応温度が101〜109℃であ
り、反応時間が５時間であつた。生成物混合物に
は6.2ｇの固体物質と約21ｇの液体とが含まれた。
固体物質のＨ−nmrによれば生成物：：の
モル比は19.0：1.0：3.5であつた。Ｎ−アセチル
グリシンの収率は、仕込んだパラホルムアルデヒ
ドを基準として約70〜75％であつた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 次式 R¹−CHO で示されるアルデヒドと次式 R²NH・CO・R³ で示されるアミドとを、コバルト触媒の存在下
   に、少なくとも25℃の温度と少なくとも3.5MPa
   の圧力とで一酸化炭素と水素とともに反応させる
   ことにより、次式 〔式中、R¹、R²及びR³は、同一であつてもある
   いは異なつていてもよく、それぞれ、水素原子又
   は直鎖、分岐若しくは環式の有機基であるか、あ
   るいはR₂とR₃とがともに環式のアミド構造を構
   成するために必要な原子である。〕 で示されるＮ−アシル−α−アミノ酸類の製造方
   法であつて、前記コバルト触媒が不活性溶媒中ニ
   トリル又は第三級のホスフインで促進されること
   を特徴とする方法。 ２ 前記アルデヒドがパラホルムアルデヒドであ
   る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 前記アミドがアセトアミドである特許請求の
   範囲第１項又は第２項に記載の方法。 ４ 前記溶媒が酢酸エチルか又はｐ−ジオキサン
   である特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれか
   １項に記載の方法。 ５ 前記温度が80〜150℃である特許請求の範囲
   第１項〜第４項のいずれか１項に記載の方法。 ６ 前記触媒がジカルボン酸ニトリルによつて促
   進されかつ前記圧力が７〜28MPaである特許請
   求の範囲第１項〜第５項のいずれか１項に記載の
   方法。 ７ 前記ジカルボン酸ニトリルがサクシノニトリ
   ルである特許請求の範囲第６項記載の方法。 ８ 前記触媒が第三級のホスフインによつて促進
   されかつ前記圧力が3.5〜7MPaである特許請求の
   範囲第１項〜第５項のいずれか１項に記載の方
   法。 ９ 前記第三級のホスフインがトリブチルホスフ
   インである特許請求の範囲第８項記載の方法。