JPH0462418B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明はフツ素含有ポリエーテルカルボン酸に
各種アミノ基、イミノ基又はアミノイミノ基を結
合させたアミド、含窒素複素環化合物の窒素原子
に結合している水素をフツ素含有ポリエーテルカ
ルボニルでアシル化した化合物で磁気記録媒体用
潤滑剤に関する。 かかる潤滑剤は特に金属表面、ガラス、セラミ
ツクス、炭素などの基板表面に薄膜状態で強固に
付着して良好な潤滑性を与え、優れた効果を発揮
する。 ［従来の技術］ 磁気記録媒体と磁気ヘツドは静止している場
合、摺動状態にあり稼働時は浮上し流体潤滑状態
に遷移するとされるので、浮上面と媒体との間で
潤滑性が必要とされることから、その表面に潤滑
剤が塗布される。 従来、磁気記録媒体に用いられる潤滑剤として
はペルフルオロアルキルポリエーテル類があり、
例えば米国特許第3715378号明細書、米国特許第
377808号明細書及び欧州特許第791032170号明細
書に記載されている。 これ等のペルフルオロアルキルポリエーテル類
は耐熱、化学的不活性、低蒸気圧特性を兼ねそな
えた優れた潤滑剤であるが、それ自身が完全にフ
ツ素化されているため低表面張力で濡れ性は良い
が、有機無機材料に対して吸着性がとぼしい。 近年、高記録密度を持つた薄膜磁気記録媒体が
開発されるのに伴い、磁気記録媒体とフライング
ヘツド間の電磁変換効率を上げるため媒体表面に
塗布される潤滑剤の膜厚はできるだけ薄いことが
望ましく、20A°〜50A°（0.002〜0.005μｍ）の膜厚
の薄膜潤滑であることを要求している。 潤滑膜が数100A°（数0.01μｍ）以上の厚さにな
るとヘツドの媒体面への吸着が起り、回転トルク
が小さい場合、媒体の回転を開始することができ
なくなるので媒体表面の潤滑剤の厚さを単分子か
ら数分子内にする必要がある。 このように媒体上に単分子から数分子の潤滑層
でフライングヘツドによる衝撃、摩擦等に耐える
ためには、潤滑剤は低摩擦係数、低表面張力だけ
の特性ではなく媒体基材の上に吸着することが必
要とされる。 そこで潤滑剤の媒体への吸着性を良くするため
に、ペルフルオロポリオキシアルキレン基の末端
を極性基に変換し、この極性基の双極子能率をあ
る値以上にすることによつてペルフルオロアルキ
ルポリエーテル系潤滑剤を磁気記録媒体に付着さ
せる試みがなされた。 それ等は米国特許第4267238号明細書、米国特
許第4268556号明細書及び特開昭61−126627号に
記載されている。 末端に極性基を持つたペルフルオロアルキルポ
リエーテル潤滑剤はこの極性基によつて媒体上に
吸着し、そこから延びたペルフルオロポリオキシ
アルキレン鎖によつて潤滑性を保たせている。 ［発明が解決しようとする課題］ フツ素系潤滑剤は耐薬品性、耐熱性が要求され
る分野で広く使用されており、過酷な使用条件に
適するようより安全な化合物として研究開発され
てきた。 このため使用される主たる分野は低蒸気圧、不
燃性で腐食性ガスを取り扱う半導体産業、高温で
使用される軸受や機械のコンベヤー、チエーン、
炉の周辺機器等に限られていた。 しかしながら、フツ素系潤滑剤の優れた特性が
知られるにあたり、工場の自動機器、産業用ロボ
ツト、コンピユーター関連機器、家庭電化製品に
迄応用されるようになつてきている。 これ等の機器に対する潤滑剤の要求はさまざま
で、今迄のフツ素系潤滑剤では満足されない部分
が多い。 完全フツ素化されたペルフルオロアルキルポリ
エーテル潤滑剤は低分子の領域では耐荷重特性に
欠け、高分子量のものは表面張力も低くねれ性は
良いが、金属に対し密着性がないため高速回転の
場合、潤滑剤の移動が発生し、潤滑不良におちい
りやすい。 この様にあまりにも安定化されていると金属と
の吸着力が弱く、摺動潤滑では初期には潤滑効果
は良いが、長期に亘ると機器に対する適正な潤滑
剤量が減少し、効果が低下してくる傾向にある。 このため用途によつてはある程度安定性を犠牲
にしても吸着力を高め、耐摩耗性能を改良する必
要がある。 ［課題を解決するための手段］ 本発明は金属、炭素、セラミツク、ガラス等の
表面に薄膜状態で強固に付着させて磁気記録媒体
の表面上に良好な潤滑性を与える磁気記録媒体用
潤滑剤を提供するものである。 下記一般式［１］ （Rf）ｌ−Ｚ ……［１］ 本発明の磁気記録媒体用潤滑剤に含まれる化合
物は上記［１］式に示される如く、含フツ素アル
キルポリエーテル誘導体で、アミノ基をアミド化
し、複素環窒素原子の水素をアシル化し、又はア
ミノイミノ基をアミド、アシル化して、Rfを導
入してなる磁気記録媒体用潤滑剤である。 上記［１］式中、Rfの分子量は400〜10000で
あることを特徴とするが分子量は1000〜4500であ
ることが望ましい。 前記［１］式の化合物においてRfの部分は潤
滑剤の潤滑性をになう部分であり、分子量が1000
以下であると粘性は低下するが、耐摩耗性に劣
る。 Rfの分子量が大きくなると耐摩耗性は良好と
なるが、そのもの自身高粘性になり、磁気記録媒
体に薄膜状で塗布した場合、膜厚が厚いと磁気ヘ
ツドとの間で吸着が起きやすい。 又、Rfは同じものでも異るものでも良く、Rf
は完全に水素をフツ素で置換されたものである必
要はなく、水素が数％残つていても潤滑剤として
の特性は保持され、下記［２］式で示される基が
好適である。 Ｘ（CF₂CF₂CF₂O）―_nCFYCO− Ｘ（CF（CF₃）CF₂O）―_nCFYCO− Ｘ（CF（CF₃）CF₂O）―_n （CF₂O）―_oCFYCO− ……［２］ Ｘ（CF₂CF₂O）―_n（CF₂O）―_oCFYCO− ここでｍ＝３〜85、ｎ＝１〜100でＸはＨ−、
Ｆ−、CF₃−、C₂F₅−、C₃F₇−、CF₃O−、
C₂F₅O−、C₃F₇O−のいずれかで、ＹはＦ−、
CF₃−、C₂F₅−のいずれかである。 ｌは１〜８である。 Ｚは芳香族、複素環又はホスホニトリル環を示
し、Ｚに含まれるアミノ基、イミノ基又はアミノ
イミノ基及び複素環の窒素原子に水素が結合した
化合物は１個から８個であつて、アミノ基は骨格
部分の炭素、窒素原子に対する結合構造のいずれ
の位置に結合していてもよく、極性基による配位
結合、又は電子を供与する結合を少くとも１個以
上有し、それ等の結合力により、金属、炭素、二
酸化ケイ素、セラミツクスに強固に吸着すること
を特徴とする化合物である。それ等の化合物の一
例を次掲に表わすことができる。 (1) ピリジン、ピリミジン、ピペラジン、トリア
ジン環 ピリジン類

【式】 （２，５−ジアミノピリジン）

【式】 （２，３，６−トリアミノピリジン） ピリミジン類

【式】 （２，４，６−トリアミノピリミジン） ピペラジン類

【式】 （１−アミノ−４−シクロペンチルピペラジ
ン） トリアジン類

【式】 （２，４，６−トリアミノ−１，３，５−トリ
アジン）

【式】 （２，４−ジアミノ−６−フエニル−１，３，
５−トリアジン） (2) トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、
チアジアゾール環 トリアゾール類

【式】 （３−アミノ−１，２，４−トリアゾール）

【式】 （３−アミノ−５−メルカプト１，２，４−ト
リアゾール） テトラゾール類

【式】 （５−アミノ−1H−１，２，３，４−テトラ
ゾール） チアゾール類

【式】 （２−アミノチアゾール） チアジアゾール類

【式】（２−アミノ−１，３，４− チアジアゾール） (3) 環状ホスホニトリルアミド

【式】 （ホスホニトリル酸アミドトリマー）

【式】 （ホスホニトリル酸アミドテトラマー） (4) ジフエニル、ジフエノキシ誘導体

【式】 （３，3′−ジアミノジフエニルスルホン） （３，3′−（メタアミノフエノキシ）−ジフエニ
ルスルホン） 前記［１］式に示される本発明の磁気記録媒体
用潤滑剤は高記録密度の磁気記録媒体等に塗布し
て単分子から数分子の潤滑剤層を形成させるため
の潤滑剤として極めて有効である。 潤滑剤層を形成させるための方法としては例え
ば本発明の潤滑剤をトリクロロトリフルオロエタ
ン等の溶媒に前記［１］式の化合物の濃度が0.02
〜0.08wt％となるように溶解させてスプレー又は
浸漬による引上げによつて塗布し、塗布後100℃
〜150℃で一定時間養成し、無埃布にて軽く拭い
取る方法が好ましい。 本発明の潤滑剤が塗布される磁気記録媒体は硬
質の円盤状の基板上に少くとも磁気記録層とこれ
を覆う保護膜層とが形成されたものである。 基板はアルミニウム、アルミニウム合金、セラ
ミツク、ガラスなど任意である。この基板上に
は、必要に応じクロム、ニツケル−リン、ニツケ
ル−銅−リン、アルマイトなどの硬質被膜が形成
される。 磁気記録層としてはコバルト、コバルト−ニツ
ケル、コバルト−ニツケル−クロム、コバルト−
ニツケル−白金、コバルト−ニツケル−リン、コ
バルト−白金などの各種の磁性層が使われる。 保護膜としては二酸化ケイ素、ジルコニア、炭
素等があり炭素ではグラフアイト状もしくはアモ
ルフアス状炭素が好ましい。 これに対し、読み取りヘツド部の材質はヘツド
コアチツプ材としてマンガン亜鉛フエライトが用
いられ、スライダー材としてチタン酸カルシウム
（CaTiO₃）、アルミナ炭化チタンセラミツクス
（Al₂O₃TiC）等が使用されている。 前記［１］式で示される磁気記録媒体用潤滑剤
はそれ等を膜厚約30A°（0.003μｍ）で塗布したデ
イスクとスライダー材としてアルミナ炭化チタン
セラミツクスを用いた薄膜ヘツドによるC.S.S（接
触、始動、停止）試験で３万回以上の耐久性を維
持することができる。 ［作用］ 本発明のペルフルオロアルキルポリエーテルカ
ルボン酸と環状アミンおよびイミンから成るアミ
ド又はアミド、アシル化化合物は金属や無機材料
に強固に吸着し、しかも大きな結合面積を得るこ
とができる。 このように末端又は中央部が金属等の表面に吸
着し、一端又は両端のRfの基がその表面から手
を出すような形をとり、Rfの数によつて潤滑性
を高めることができる。 従つて、本発明の磁気記録媒体用潤滑剤は高速
回転の摺動部において炭素、無機材料等に対し、
低表面張力による濡れ性、吸着性、潤滑性を持つ
等優れた特徴を有する。 ［実施例］ 以下、本発明の具体的な実施例について説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではないことは勿論であり、前記［１］式で示さ
れる化合物(1)〜(4)を置換基としたものは例えば次
ようにして製造することができる。 又、実施例の合成化合物の(1)〜(8)迄の磁気記録
媒体における潤滑特性は下記の手順により測定さ
れる。 ニツケル−リンをメツキで付けたアルミニウム
基板をポリツシユ、テクスチヤー処理して平均面
粗さRa＝0.02μｍの基盤上にアルゴン雰囲気中で
コバルト、ニツケル、白金（ニツケル15at％、白
金7at％、残りコバルト）をDCスパツタリングで
800A°（0.08μｍ）の被膜を施した。更にその上に、
DCスパツタリングで炭素保護膜を200A°（0.02μ
ｍ）の厚さに形成し磁気デイスルを得た。 後掲の化合物をトリクロロトリフルオロエタン
に0.03wt％希釈した液をスプレー法により均一に
塗布し、キユアリング処理して潤滑膜を形成させ
た。 潤滑面の膜厚はフーリエ交換赤外分光光度計
FT／IR−7000型、TR−500付（日本分光工業(株)
社製）で測定約30A°（0.003μｍ）とした。 潤滑膜を施した５ 1/4″（13.34cm）φの磁気デ
イスクをスライダー材にアルミナと炭化チタンの
焼結体からなる薄膜ヘツド（米国
READWRITE社製）を用い、約15gfの荷重で、
hf＝0.3μｍ、3600r.p.m.15秒稼働−15秒停止サイ
クルにより、ヘツドのステイツキング又はヘツド
のクラツシユを起こすまでの接触、始動、停止に
よる耐C.S.S性をデイスク摩耗、摩擦試験機PT−
101型で、湿度50％、荷重15gf、回転数0.086〜1r.
p.m.時間５分間の条件でウイチエスター型ミニヘ
ツドを用いて動摩擦係数をデイスク摩擦試験機
PT−350型（パテイーテツク(株)社製）で測定し
た。 実施例 １ 還流冷却器、温度計を備えた撹拌機付500mlの
四ツ口フラスコに精製脱水されたるＮ，N′ジメ
チルホルムアミド 100mlに２−５−ジアミノピ
リミジン5.0ｇ（0.045モル）を溶解した溶液とト
リエチルアミン9.2ｇ（0.090モル）を加え均一に
撹拌した。 この溶液を温度５℃に保ちながら分液ロートを
用いて精製されたトリクロロトリフルオロエタン
200mlに溶解したペルフルオロアルキルポリエー
テルペルフルオロプロピオニルクロリド［平均分
子量2200（核磁気共鳴分析で測定）式：Ｆ（C₃F₆O
）―_lC₂F₄COCl、ｌは約12、酸価25、粘度38℃、
120センチストークス］200ｇ（0.09モル）を１時
間で滴下し、滴下後温度５℃で24時間還流撹拌し
ながら反応させた。 反応終了後60℃にてトリクロロトリフルオロエ
タンを溜去し、少量の0.25N塩酸水と200mlのメ
チルアルコールを加えた。 この溶液を分液ロートに移し上層部を分離、下
層部を更にメチルアルコール100mlで少くとも３
回洗浄、減圧下で溶媒を溜去した。 残溜物をメチルオレンジ指示薬で変色しなくな
るまで少くとも２回から３回洗浄し下層部にトル
クロロトリフルオロエタン150mlを加え5Cの濾紙
で異物を濾過、溶媒を溜去し、更に温度152〜158
℃、0.03mmHgの減圧下で未反応のペルフルオロ
アルキルポリエーテルペルフルオロピロピオン酸
を溜去、収率80％で淡褐色液状の化合物を得た。 この液状化合物の酸価を電位差適定（京都電子
工業製AT−200）で測定した所0.5mgKHO／ｇ
で、粘度40℃、195センチストークスであつた。 赤外線スペクトル分析（日本分光工業(株)製
IR810型）の結果、1780cm^-1のカルボン酸の吸収
がなくなり、1210〜1330cm^-1にかけてCF結合特
有の吸収が見られ、1680〜1700cm^-1と3350cm^-1の
アミドの吸収と2850、2950の炭素−水素の振動吸
収が現われた。 (株)柳本製作所製 YANACO CHNコーダー
MT3型で元素分析を実測した所 C22.8％、Ｎ
1.0％で理論値としてはＣ 22.71％、Ｎ 0.95％
で略等しいことから上記生成物は、式(1)であるこ
とを示した。 実施例 ２ 実施例１と同様に500mlの四ツ口フラスコに精
製脱水されたるＮ、N′−ジメチルホルムアミド
150mlに２，４−ジアミノ−６−フエニル−１，
３，５−トリアジン10.5ｇ（0.056モル）を溶解
した溶液にトリエチルアミン11ｇ（0.109モル）
を加え、温度５℃に保ちながら均一に撹拌した。 この溶液を撹拌しながら、分液ロートを用いて
精製されたトリクロロトリフルオロエタン200ml
に溶解したペルフルオロアルキルポリエーテルプ
ロピオニルクロリド［（平均分子量1850 核磁気
共鳴分析で測定）式：Ｆ（C₃F₆O）―_lC₂F₄COCl、
ｌは約10、酸価32mg／KOH／ｇ、粘度38℃、90
センチストークス］200ｇ（0.108モル）を１時間
で滴下し、滴下後温度５℃で24時間還流撹拌しな
がら反応させた。 反応終了後60℃にてトリクロロトリフルオロエ
タンを溜去し、少量の希塩酸水と50mlメチルアル
コールを加えた。 この溶液を分液ロートに移し、上層部と下層部
に分離し、下層部を更にＮ，N′−ジメチルホル
ムアミド100ml溶液で少くとも３回洗浄し、未反
応のアミンを除去後、メタノール200mlを加え、
Ｎ，N′−ジメチルフオルムアミドを分離除去し、
減圧下で溶媒を溜去し、残留物をメチルオレンジ
指示薬で変色しなくなるまで少くとも３回蒸留水
で洗浄後、トリクロロトリフルオロエタン200ml
を加え、5Cの濾紙で異物を濾過、温度134〜137
℃ 0.03mmHgの減圧で未反応のペルフルオロア
ルキルポリエーテルペルフルオロプロピオン酸
（第１図）を溜去、収率83％で淡黄色液状の化合
物を得た。 この液状化合物（第２図）の酸価を測定した所
0.3mgKOH／ｇで粘度40℃ 210センチストーク
スであつた。 実施例１と同様に赤外スペクトル分析の結果
1780cm^-1の吸収がなくなり1680〜1740cm^-1と3350
cm^-1のアミドの吸収が現われ、更に2850cm^-1と
2950cm^-1の炭素−水素の振動吸収が現われた。 元素分析ではＣ 23.0％、Ｎ 1.9％で理論値
としては Ｃ 23.69％、Ｎ 1.84％で略等しい
ことからこの生成物は式(2)であることを示した。 実施例 ３ 実施例１と同様に500mlの四ツ口フラスコに精
製されたるトリクロロトリフルオロエタン（比重
20℃ 1.57）150mlに２，４，６−トリアミノ−
１，３，５−トリアジン（比重14℃ 1.57）を10
ｇ（0.079モル）とトリエチルアミン21ｇ（0.207
モル）を加え均一に撹拌分散させた。 この溶液を温度５℃に保ちながら、分液ロート
を用いて精製されたトリクロロトリフルオロエタ
ン 100mlとペルフルオロジメチルシクロヘキサ
ン［（沸点102℃、比重25℃ 1.82）商品名
FLUTEC PP3］100mlの混合溶液に溶解したペ
ルフルオロアルキルポリエーテルペルフルオロプ
ロピオニルクロリド［平均分子量1000（核磁気共
鳴分析で測定）式：Ｆ（C₃F₆O）―_lC₂F₄COCl、ｌ
は約５、酸価65mgKOH／ｇ、粘度38℃ 44セン
チストークス］200gr（0.2モル）を１時間で滴下
し、滴下後温度５℃で48時間還流撹拌しながら反
応させた。 反応終了後、分液ロートに移し、50mlのメチル
アルコールと0.25Nの希塩酸水50mlを加え静置
し、下層部を分取し、未反応の２，４，６−トリ
アミノ−１，３，５−トリアジンを濾過し取り去
り、溶媒を60℃にて溜去、残留物をメチルオレン
ジ指示薬で変色しなくなる迄少くとも３回〜４回
蒸留水で洗浄した。 洗浄後、下層部を減圧下でペルフルオロジメチ
ルシクロヘキサンと微量の水分を取り除き、温度
85〜100℃、0.03mmHgの減圧のものと未反応のペ
ルフルオロアルキルポリエーテルペルフルオロプ
ロピオン酸を溜去、収率75％で液状淡褐色の化合
物を得た。 この生成物を実施例１と同様に酸価を測定した
所0.2mgKOH／ｇで、粘度40℃ 135センチスト
ークスであつた。 赤外スペクトル分析の結果、1780cm^-1の吸収が
なくなり、1680〜1700cm^-1と3350cm^-1のアミドの
吸収が大きく現われた。 元素分析では Ｃ 22.0％、N2.7％で理論値と
しては Ｃ 22.39％、Ｎ 2.75％で略等しいこ
とからこの生成物は 実施例 ４ 還流冷却器、温度計を備えた撹拌機付500mlの
四ツ口フラスコに精製脱水されたるＮ，N′−ジ
メチルホルムアミド100mlに３−アミノ−1H−
１，２，３，４−テトラゾル 4.6ｇ（0.054モ
ル）を溶解した溶液にトリエチルアミン11ｇ
（0.108モル）を加え均一に撹拌混合した。 この溶液を温度５℃に保ちながら分液ロートを
用いて精製されたトリクロロトリフルオロエタン
200mlに溶解したペルフルオロアルキルポリエー
テルペルフルオロプロピオニルクロリド［（平均
分子量1850 核磁気共鳴分析で測定）式：Ｆ
（C₃F₆O）―_lC₂F₄COCl、ｌは約10、酸価32mg
KOH／ｇ、粘度38℃、90センチストークス）］
200ｇ（0.18モル）を１時間で滴下し、滴下後温
度５℃で24時間還流撹拌しながら反応させた。 反応終了後60℃にてトリクロロトリフルオロエ
タンを溜去し、少量の0.25N希塩酸水と200mlの
メチルアルコールを加えた。 この溶液を分液ロートに移し上層部と下層部に
分離し、下層部を更にＮ，N′−ジメチルホルム
アミド100mlで少くとも３回洗浄し、未反応のア
ミンを除去後、減圧下で溶媒を溜去し残溜物をメ
チルオレンジ指示薬で変色しなくなるまで蒸留水
で洗浄後、トリクロロトリフルオロエタン200ml
を加え無水硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過
後溶媒を溜去、残留物を温度134〜137℃、0.03mm
Hgの減圧下で未反応のペルフルオロアルキルポ
リエーテルペルフルオロプロピオン酸を溜去、収
率85％で淡褐色の液状の化合物を得た。 この液状化合物の酸価を電位差適定（京都電子
工業製AT−200）で測定した所 0.3mgKOH／ｇ
で、粘度40℃、140センチストークスであつた。 赤外線スペクトル分析（日本分光工業(株)製
IR810型）の結果、1780cm^-1のカルボン酸の吸収
がなくなり、1690〜1710cm^-1と3350cm^-1のアミド
の吸収が現われた。 元素分析（(株)柳本製作所製 YANACO CHN
コーダーMT3型）で実測した所 Ｃ 22.0％、
Ｎ 2.0％で理論値としては、Ｃ 21.74％、Ｎ
1.89％で略等しいことから、生成化合物は、式(4)
であることを示した。 実施例 ５ 撹拌機、温度計、還流冷却器及び滴下ロートを
備えた500mlの四ツ口フラスコに精製脱水された
トリクロロトリフルオロエタン100mlとＮ，N′−
ジメチルホルムアミド50mlの混合液にヘキサアミ
ノシクロトリホスホニトリル、式［Ｎ＝Ｐ
（NH₂）₂］₃ 4.2ｇ（0.018モル）を加えた分散液に
トリエチルアミン 11ｇ（0.108モル）を加え、
温度５℃に保ちながら均一に撹拌分散させた。 この溶液を均一に撹拌分散しながら、分液ロー
トを用いて精製されたトリクロロトリフルオロエ
タン 200mlにペルフルオロアルキルポリエーテ
ルペルプロピオニルクロリド［（平均分子量1850、
核磁気共鳴分析で測定）式：Ｆ（C₃F₆O）―_l
C₂F₄COCl、ｌは約10、酸価32mgKOH／ｇ、粘
度 38℃ 90センチストークス］200ｇ（0.108モ
ル）を１時間で滴下し、滴下後温度５〜10℃で48
時間還流撹拌しながら反応させた。 反応終了後、未反応の固型物を濾別し、温度50
℃にてトリクロロトリフルオロエタンを溜去後、
分液ロートに移し、0.25N塩酸水少量とメチルア
ルコール 100gr.を加え静置、下層部を分取し
た。 分取した下層部を蒸留水にてメチルオレンジ指
示薬で変色しなくなる迄、又硝酸銀溶液で微白濁
しなくなる迄、少くとも３回〜４回洗浄、減圧下
で溶媒を溜去、温度134〜137℃、0.03mmHgの減
圧で未反応のペルフルオロアルキルポリエーテル
ペルフルオロプロピオン酸を溜去、収率 78％で
液状生成物を得た。 粘度を測定した所、40℃、105センチストーク
スで酸価は0.3mgKOH／ｇであつた。 赤外線吸収スペクトル（日本分光工業(株)製
IR 810型）で調べた結果1680〜1740cm^-1と3350
cm^-1のアミドの吸入が現われ、1262cm^-1のＰ＝Ｎ
の伸縮振動吸収と1286cm^-1のＣ−Ｆ結合の吸収が
類似で明確ではないが、540cm^-1のＰ−Ｎに帰属
される吸収を示した。 (株)柳本製作所製 YANACO CHNコーダー
MT3型で元素分析を実測した所 Ｃ 21.0％、
Ｎ 1.0％で理論値としては、Ｃ 21.4％、Ｎ
1.1％で略等しいことから上記生成物は、式(5)で
あることを示した。 実施例 ６ 還流冷却器、温度計を備えた撹拌機付500mlの
四ツ口フラスコに精製脱水されたるＮ，N′−ジ
メチルホルムアミド 100mlに（３，3′−（メタア
ミノフエノキシ）−ジフエニルスルホン 23.5ｇ
（0.054モル）を溶解した溶液とトリエチルアミン
11ｇ（0.108モル）を加え均一に撹拌した。 この溶液を温度５℃に保ちながら、分液ロート
を用いて精製されたトリクロロトリフルオロエタ
ン 200mlに溶解したペルフルオロアルキルポリ
エーテルペルフルオロプロピオニルクロリド
［（平均分子量 1850 核磁気共鳴分析で測定）
式：Ｆ（C₃F₆O）―_lC₂F₄COCl、ｌは約10、酸価32
mgKOH／ｇ 粘度 38℃ 90センチストークス］
200ｇ（0.108モル）を１時間で滴下し、滴下後温
度５℃で24時間還流撹拌した。 反応終了後、60℃にてトリクロロトリフルオロ
エタンを溜去し、少量の希塩酸水と50mlのメチル
アルコールを加えた。 この溶液を分液ロートに移し、上層部と下層部
に分離し、下層部にＮ，N′−ジメチルホルムア
ミド100ml溶液で少くとも３回洗浄し、未反応の
アミンを除去後、メチルアルコール 200mlを加
え、Ｎ，N′−ジメチルフオルムアミドを分離除
去し、減圧下で溶媒を溜去し、残溜物をメチルオ
レンジ指示薬で変色しなくなるまで少くとも３回
蒸留水で洗浄後、トリクロロトリフルオロエタン
200mlを加え、5Cの濾紙で異物を濾過、温度
134〜137℃、0.3mmHgの減圧下で未反応のペルフ
ルオロアルキルポリエーテルペルフルオロプロピ
オン酸を溜去、収率85％で淡黄色液状の化合物を
得た。 この液状化合物の酸化を測定した所 0.2mg
KOH／ｇで粘度40℃で、250センチストークスで
あつた。 実施例１と同様に赤外線スペクトル分析の結
果、1780cm^-1の吸収がなくなり、1680〜1720cm^-1
と3350cm^-1のアミドの吸収が現われ、更に2850cm
^-1と2950cm^-1の炭素−水素の振動吸収が表われ
た。 元素分析では、Ｃ 26.9％、Ｎ 0.7％で理論
値としては、Ｃ 26.70％、Ｎ 0.69％で略等し
いことからこの生成物は式(6)であることを示し
た。 上述の実施例で得られた化合物の磁気記録媒体
用潤滑剤としての結果を表−１に示す。

【表】

【表】 ［発明の効果］ 本発明は以上の説明から明らかなように、磁気
記録媒体用潤滑剤として有用な新規物質を提供す
るものである。 本発明の磁気記録媒体用潤滑剤は前記一般式
［１］で示されるペルフルオロアルキルポリエー
テル誘導体であつて、優れた潤滑性能と耐久性を
持つ。 このため本発明の磁気記録媒体用潤滑剤は、高
記録密度磁気記録媒体の表面の薄膜潤滑剤として
極めて有効であり、この潤滑剤で媒体保護膜の表
面処理した高記録密度磁気記録媒体は著しく優れ
たC.S.S（コンタクト．スタート．ストツプ）特性
を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記一般式 （Rf）ｌ−Ｚ ……［１］ 式［１］で示されるペルフルオロアルキルポリ
   エーテルカルボン酸と環状アミノ化合物又は含窒
   素複素環アミノ化合物から成るアミド又は含窒素
   複素環の窒素原子に結合している水素をペルフル
   オロアルキルポリエーテルカルボニルで置換した
   化合物でRfの分子量が400〜10000であることを
   特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。 式［１］中、Rfは含フツ素ポリオキシアルキ
   レン基を示し、次の一般式［２］から選ばれた１
   種又は２種又は３種の基でRfの分子量が400から
   10000であること。 Rf： Ｘ（C₃F₆O）―_nCFYCO− Ｘ（C₃F₆O）―_n（CF₂O）―_oCFYCO− Ｘ（C₂F₄O）―_n（CF₂O）―_oCFYCO− ここで、ｍ＝３〜85、ｎ＝１〜100で、ＸはＨ
   −、Ｆ−、CF₃−、C₂F₅−、C₃F₇−、CF₃O−、
   C₂F₅O−、C₃F₇O−のいずれかで、ＹはＦ−、
   CF₃−、C₂F₅−のいずれかである。 ｌは１〜８である。 Ｚは下記(1)から(4)に分類され、それ等は次掲に
   表わすことができるアミノ又はイミノ及びアミノ
   イミノ化合物である。 (1) ピリジン、ピリミジン、ピペラジン、トリア
   ジン環骨格を有し、その骨格炭素又は窒素原子
   にアミノ基が導入されてなるもの。 (2) トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、
   チアジアゾール環骨格を有し、その骨格炭素原
   子にアミノ基および骨格窒素原子に水素が導入
   されてなるもの。 (3) ホスホニトリル酸を求核置換でアミド化して
   なるもの。 (4) ジフエニル又はジフエノキシ化合物のフエニ
   ル又はジフエノキシ基の中間にスルフオン基を
   有し、そのフエニル基にアミノ基が導入されて
   なるもの。