JPH0463147B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0463147B2 JPH0463147B2 JP60124161A JP12416185A JPH0463147B2 JP H0463147 B2 JPH0463147 B2 JP H0463147B2 JP 60124161 A JP60124161 A JP 60124161A JP 12416185 A JP12416185 A JP 12416185A JP H0463147 B2 JPH0463147 B2 JP H0463147B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- amorphous
- atomic
- magnetic permeability
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 40
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 15
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 7
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 6
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 4
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019802 NbC Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008423 Si—B Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910034327 TiC Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15316—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Co
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/04—Amorphous alloys with nickel or cobalt as the major constituent
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
(発明の技術分野)
本発明は磁気ヘツド用磁性合金に関し、Coを
主成分とする磁気ヘツド用非晶質合金に関するも
のである。 現用磁気ヘツド材料では、パーマロイ、センダ
ストなどの結晶質金属材料及びMu−Znフエライ
ト、Ni−Znフエライトなどの酸化物材料が主と
して使用されている。結晶質金属材料は、酸化物
材料であるフエライトと比較して飽和磁束密度が
高いという利点を有するが、比抵抗が100μΩ・cm
以下と低いため、ビデオテープレコーダ等で使用
される周波数帯域(MHz程度)では透磁率が著し
く低下してしまう。 一方、フエライトは比抵抗が大きく高周波帯域
においても優れた電磁変換特性を示し、さらに高
い耐摩耗性を示すためMu−Zn系がビデオ用映像
ヘツドを中心に使用されている。しかしフエライ
トは飽和磁化が小さいため、記録歪を生じ、雑音
が多い。 一般に高密度記録は、高い周波数を使用帯域と
する。従つて高密度磁気ヘツド用のコア材は、渦
電流損失による透磁率の劣化を防止するため、薄
板化にするか、または比抵抗ρを大きくする必要
がある。センダストは、飽和磁化が大きく比抵抗
もパーマロイと比較して高いが脆弱であるため、
薄板化できない。 近年、結晶構造をもたない非晶質合金におい
て、優れた磁気的性質及び機械的性質が見い出さ
れた。すなわち、非晶質合金は結晶構造をもたな
いことに起因して、比抵抗ρが結晶質の金属合金
に比較して約数倍高く、結晶磁気異方性が無いた
め保磁力が小さく、透磁率も高い。さらにヴイツ
カース硬度も1000程度であり結晶質の金属より高
い。 また磁気歪を零にする組成も基本的にはほぼ解
明され磁気ヘツド用コア材として検討が進められ
ている。 しかし、より高密度記録用の磁気ヘツドコアと
して非晶質合金を用いるには低い周波数域ばかり
でなく、1MHz以上の高周波数帯域で高い透磁率
をもつことが必要である。そのためには 高い比抵抗をもつこと、 高い初透磁率をもつこと、 高い耐摩耗性をもつこと、 高い熱的安定性をもつこと、 高い耐食性をもつこと、 を満足する必要がある。 のいずれも満足する非晶質合金は非
常に狭い組成領域でのみでしか得られないことを
我々は見い出した。 (発明の目的) 本発明は、Co,Fe,Si,Bの4元素の非晶質
合金において上記〜のいずれも満足する組成
領域を開示し、更に、耐食性を付加するために
Cr、また、より耐摩耗性を向上するためにRuを
添加し、そして、この合金中に第2相粒子を分散
したものである。すなわち、本発明は初透磁率が
高く、また比抵抗が高いため1MHz以上の帯域に
おいてもフエライト以上の透磁率を示すととも
に、優れた耐摩耗性及び高い熱的安定性を示す非
晶質合金を提出するものである。 (発明の実施例) 本発明は、組成式(Fe1-a,Coa)100-b(Sic,
Bd)bから成る合金中のc,d,bを限定し、そ
の合金100原子%に対してCrを1.0〜2.0原子%、
及びRuを1.0〜4.0原子%添加した合金中に第2相
粒子を3次元的に均一に分散したものである。な
お式中c+d=1,aは通常磁歪を零にするた
め、0.93〜0.95であることが知られている。 前記合金組成の限定理由は以下の如きである。
まずbの値は半金属(Si,B)の濃度を示すが、
bが27原子%を超えると飽和磁束密度が低下し、
磁気ヘツド用コア材として好ましくない。一方、
半金属濃度が20原子%以下では、透磁率が低下
し、均一な非晶質合金の形成が困難となる。ま
た、40μm以上の厚さの非晶質薄板帯を安定して
得るには、半金属濃度が23原子%以上であること
が必要である。 まずCo−Fe−Si−B系合金の特性について説
明する。 表に示す組成の非晶質合金薄板帯は片ロール液
体急冷法に従い作成された。即ち1つの回転して
いる鋼製ロール上におかれた石英ノズルより溶融
金属をアルゴンガスの圧力により噴出させる。 ロール回転数は500〜2000rpm、噴出ガス圧は
0.1〜1Kg/cm2であつた。作成された薄板は巾約
25mm、厚さ32〜49μm、長さ約20〜30mであつた。
作成されたすべての薄板はX線回折により、非晶
質相であることが確認され、磁歪10-6オーダーで
ほぼ零であつた。結晶化温度はDSC(示差走査型
熱量計)にて決定した。厚さはマイクロメーター
により測定した。透磁率は薄帯より打抜きにして
作成された外径10mm、内径6mmのリングを10枚バ
ラ積みしたものに巻線(1次、2次側それぞれ20
ターン)を処し、インダクタンス法により測定し
た。なお、透磁率は液体急冷された薄帯より得ら
れたリングの状態、及び一部のサンプルを除い
て、そのリングを焼鈍(100℃〜500℃で10分保持
後水焼入れ、保持温度は10℃間隔)した状態につ
いて室温にて測定された。 初透磁率としては3mOe、1KHzにおけるその実
効透磁率を採用した。飽和磁化(σs)はVSMに
て10KOeの磁界で測定した。比抵抗は四端子法
により測定した。
主成分とする磁気ヘツド用非晶質合金に関するも
のである。 現用磁気ヘツド材料では、パーマロイ、センダ
ストなどの結晶質金属材料及びMu−Znフエライ
ト、Ni−Znフエライトなどの酸化物材料が主と
して使用されている。結晶質金属材料は、酸化物
材料であるフエライトと比較して飽和磁束密度が
高いという利点を有するが、比抵抗が100μΩ・cm
以下と低いため、ビデオテープレコーダ等で使用
される周波数帯域(MHz程度)では透磁率が著し
く低下してしまう。 一方、フエライトは比抵抗が大きく高周波帯域
においても優れた電磁変換特性を示し、さらに高
い耐摩耗性を示すためMu−Zn系がビデオ用映像
ヘツドを中心に使用されている。しかしフエライ
トは飽和磁化が小さいため、記録歪を生じ、雑音
が多い。 一般に高密度記録は、高い周波数を使用帯域と
する。従つて高密度磁気ヘツド用のコア材は、渦
電流損失による透磁率の劣化を防止するため、薄
板化にするか、または比抵抗ρを大きくする必要
がある。センダストは、飽和磁化が大きく比抵抗
もパーマロイと比較して高いが脆弱であるため、
薄板化できない。 近年、結晶構造をもたない非晶質合金におい
て、優れた磁気的性質及び機械的性質が見い出さ
れた。すなわち、非晶質合金は結晶構造をもたな
いことに起因して、比抵抗ρが結晶質の金属合金
に比較して約数倍高く、結晶磁気異方性が無いた
め保磁力が小さく、透磁率も高い。さらにヴイツ
カース硬度も1000程度であり結晶質の金属より高
い。 また磁気歪を零にする組成も基本的にはほぼ解
明され磁気ヘツド用コア材として検討が進められ
ている。 しかし、より高密度記録用の磁気ヘツドコアと
して非晶質合金を用いるには低い周波数域ばかり
でなく、1MHz以上の高周波数帯域で高い透磁率
をもつことが必要である。そのためには 高い比抵抗をもつこと、 高い初透磁率をもつこと、 高い耐摩耗性をもつこと、 高い熱的安定性をもつこと、 高い耐食性をもつこと、 を満足する必要がある。 のいずれも満足する非晶質合金は非
常に狭い組成領域でのみでしか得られないことを
我々は見い出した。 (発明の目的) 本発明は、Co,Fe,Si,Bの4元素の非晶質
合金において上記〜のいずれも満足する組成
領域を開示し、更に、耐食性を付加するために
Cr、また、より耐摩耗性を向上するためにRuを
添加し、そして、この合金中に第2相粒子を分散
したものである。すなわち、本発明は初透磁率が
高く、また比抵抗が高いため1MHz以上の帯域に
おいてもフエライト以上の透磁率を示すととも
に、優れた耐摩耗性及び高い熱的安定性を示す非
晶質合金を提出するものである。 (発明の実施例) 本発明は、組成式(Fe1-a,Coa)100-b(Sic,
Bd)bから成る合金中のc,d,bを限定し、そ
の合金100原子%に対してCrを1.0〜2.0原子%、
及びRuを1.0〜4.0原子%添加した合金中に第2相
粒子を3次元的に均一に分散したものである。な
お式中c+d=1,aは通常磁歪を零にするた
め、0.93〜0.95であることが知られている。 前記合金組成の限定理由は以下の如きである。
まずbの値は半金属(Si,B)の濃度を示すが、
bが27原子%を超えると飽和磁束密度が低下し、
磁気ヘツド用コア材として好ましくない。一方、
半金属濃度が20原子%以下では、透磁率が低下
し、均一な非晶質合金の形成が困難となる。ま
た、40μm以上の厚さの非晶質薄板帯を安定して
得るには、半金属濃度が23原子%以上であること
が必要である。 まずCo−Fe−Si−B系合金の特性について説
明する。 表に示す組成の非晶質合金薄板帯は片ロール液
体急冷法に従い作成された。即ち1つの回転して
いる鋼製ロール上におかれた石英ノズルより溶融
金属をアルゴンガスの圧力により噴出させる。 ロール回転数は500〜2000rpm、噴出ガス圧は
0.1〜1Kg/cm2であつた。作成された薄板は巾約
25mm、厚さ32〜49μm、長さ約20〜30mであつた。
作成されたすべての薄板はX線回折により、非晶
質相であることが確認され、磁歪10-6オーダーで
ほぼ零であつた。結晶化温度はDSC(示差走査型
熱量計)にて決定した。厚さはマイクロメーター
により測定した。透磁率は薄帯より打抜きにして
作成された外径10mm、内径6mmのリングを10枚バ
ラ積みしたものに巻線(1次、2次側それぞれ20
ターン)を処し、インダクタンス法により測定し
た。なお、透磁率は液体急冷された薄帯より得ら
れたリングの状態、及び一部のサンプルを除い
て、そのリングを焼鈍(100℃〜500℃で10分保持
後水焼入れ、保持温度は10℃間隔)した状態につ
いて室温にて測定された。 初透磁率としては3mOe、1KHzにおけるその実
効透磁率を採用した。飽和磁化(σs)はVSMに
て10KOeの磁界で測定した。比抵抗は四端子法
により測定した。
【表】
第1図に比抵抗ρとc/c+dとの関係を示
す。b=23〜27原子%の範囲でρはc/c+dが
大きい方が高い。 第2図は結晶化温度に及ぼすb及びc/c+d
の影響を示す。この関係については、すでに種々
の報告がなされているが、我々の実験ではc/c
+dが約0.65付近で結晶温度の急激な変化が見い
出された。すなわちc/c+d>0.65では結晶化
温度が低くなつてしまう。この事実はすでに報告
されているものと異なつている。 第3図には、100hrあたりの摩耗量とc/c+
dの関係が示している。摩耗量の測定は液体急冷
したアモルフアスより通常のオーデイオタイプの
磁気ヘツドを作成し、市販のカセツトタイプのデ
ツキに装着した後、市販のノーマルテープを用い
て行なつた。また摩耗量はc/c+dが0.2〜0.4
でほぼ一定であり、0.4より大きくなるとしだい
に小さくなり、0.55以上でほぼ一定となる。c/
c+dが0.55以上で良好な耐摩耗量を示すことが
わかる。 第4図に液体急冷されたままの種々の組成をも
つアモルフアスの初透磁率μiとc/c+dの関係
を示す。いずれの場合もbが異なるとμiの値も異
なつてくるが、c/c+dが0.4以下では一定値
をとり、0.4〜0.6で急激に増加し、しだいに高い
一定値に近づく。すなわち液体急冷のままでは
c/c+dが大きい方がμiが高い。より好ましく
はc/c+dが0.55以上が望ましい。 一般にアモルフアス磁性合金の透磁率は適当な
条件での焼鈍により改善されることが知られてい
る。そこで、透磁率に及ぼす焼鈍の効果について
調べた。 第5図は、b=24で種々のc/c+dの組成を
もつアモルフアス合金(No.17〜20)を種々の温度
で10分間焼鈍した後、水焼入れを行ない、その状
態で測定された初透磁率と焼鈍温度の関係を示
す。種々の組成をもつアモルフアス合金における
初透磁率に及ぼす焼鈍温度の影響は類似してお
り、c/c+dが0.5,0.63において高いμiが得ら
れ、焼鈍による初透磁率の改善がこれらの組成で
大きいことが認識された。各サンプルにおける
種々の焼鈍後のμiの最大値を比較し、μiの高い順
にc/c+dをならべると、0.63,0.50,0.67,
0.18であつた。 第6図はb=25場合について第5図と同様にμi
に及ぼす熱処理効果を調べた結果である。各サン
プルにおける種々の焼鈍後のμiの最大値を比較
し、μiの高い順にc/c+dをならべると0.64,
0.60,0.50,0.40,0.68,0.20となる。 第7図は、b=27の場合について第5図と同様
に、μiに及ぼす熱処理効果を調べた結果である。
各サンプルにおける種々の焼鈍後のμiの最大値を
比較し、μiの高い順にc/c+dをならべると
0.63,0.50,0.40,0.20,0.76であつた。 第8図は種々の組成について焼鈍後得られたμi
の最大値とc/c+dとの関係を示す。b=24,
25,27のいずれの場合においてもμiはc/c+d
は約0.6付近で最も大きい値となる。 また、実用材料としての観点から特性のばらつ
きを考慮する必要があり、たとえば熱処理の操作
を考えると広い熱処理温度範囲で高い透磁率が得
られることは作業性、量産性あるいは材料の信頼
性を増す。 第9図はμi>104なる値が得られる焼鈍温度の
範囲(ΔT)を示す。μi=104なる値はヘツドコア
材として必要な値と近いと考えられる。現在、ヘ
ツド用コア材として使用されているパーマロイ、
センダストのμiはほぼこの程度の値である。bが
大きいほどΔTも大きくなるが飽和磁束密度が小
さくなる。c+d=24,25,27の場合いずれも曲
線は類似しており、c/c+dが0.5〜0.65付近
でそれぞれのbについてΔTは大きな値をとる。 さらに(1)〜(24)の合金を高湿度の空気中に放置
し、表面状態を観察し、耐食性を調べた。耐食性
はbの大小にかかわらずc/c+dが大きいほど
良好であつた。 以上述べてきたことをまとめると、以下に示す
ようになる。 比抵抗ρ c/c+d→大 結晶化温度 c/c+d<0.65 耐摩耗性 0.55<c/c+d μi(AsQ) 0.55<c/c+d μi(熱処理後) 0.50<c/c+d<0.65 μi(ΔT) 0.5<c/c+d<0.65 耐食性 c/c+d→大 いずれの条件をも満足するには、 0.55<c/c+d<0.65 である必要がある。 次に、前記主合金にCr及びRu元素を添加した。
これらの元素を添加した合金の製法については前
述の主合金と同様に片ロール液体急冷法に従い作
成した。 Crを添加する理由は耐食性を向上するためで、
前記主合金に対して1.0〜2.0原子%添加した。添
加した合金について塩水噴霧試験(40℃,48時
間)を行い、外部観察した結果、充分な耐食性が
得られた。なお、添加量が1.0原子%より少ない
と効果がなく2.0原子%を超えると飽和磁束密度
が低下してしまう。また、Cr添加により熱処理
後において合金が脆くならないという効果も奏し
た。 Ruについては、添加量が多ければ多い程、よ
り耐摩耗性を向上することができるが、4.0原子
%を超えると合金が非晶質状態になりにくく、ま
た、打抜き加工性も悪くなる。 第10図は、前記表に示した主合金組成サンプ
ル(No.19及び23)にそれぞれ予め1.5原子%のCr
を添加し、更に、Ruを1.0原子%、又は3.0原子%
添加したものについての、走行時間(hr)に対す
る摩耗量(μm)をグラフに表わしたものである。
同図において、19aは主合金組成サンプル(No.
19)にCrのみを1.5原子%添加したもの、19b
は同サンプル(No.19)にCrを1.5原子%、Ruを1.0
原子%加えたもの、19cは同サンプル(No.19)
にCrを1.5原子%、Ruを3.0原子%加えたものをそ
れぞれ示している。また、同様に、23aは主合
金組成サンプル(No.23)にCrのみを1.5原子%添
加したもの、23bはCrを1.5原子%、Ruを1.0原
子%、23cはCrを1.5原子%、Ruを3.0原子%加
えたものである。図から明らかなように、19a
〜cと23a〜cとの間で耐摩耗の差はなく、何
れの主合金組成においてもRuの添加量が増大す
るに従つて、摩耗量が大幅に減少している。 なお、比抵抗ρ、μi等の特性向上に関して、前
記主合金のSi,Bの量が0.55<c/c+d<0.65
の条件を満足すれば良いことは、Cr,Ru元素を
添加しても変わらない。 次に、本発明の非晶質合金は、前記主合金に
Cr及びRu元素を添加し、更に、この合金中に第
2相粒子を分散したものである。 合金中に第2相粒子を均一に分散してなる非晶
質合金の製造方法について説明すると、先ず、前
記合金を構成する合金母材を加熱溶融したのち、
その合金母材が凝固する前に、アルゴンガスなど
の不活性ガスからなる噴射媒体と共に前記第2相
粒子を前記合金母材に対して噴射分散せしめ、そ
の後冷却して第2相粒子を含有したインゴツトを
つくり、このインゴツトを第2相粒子が溶解しな
い程度に再溶融したのち、片ロール液体急冷法に
従い超急冷凝固させて、前記合金中に第2相粒子
を3次元的に均一に分散することができる。 本発明の実施例として、合金にA2O3を2体
積%分散した下記(a)組成の非晶質合金を作成し
た。また、その比較例としてA2O3を分散して
いない下記(b)組成の非晶質合金を作成した。 (a) Co69.5Fe4.5Si14.5B9.0Cr1.5Ru1.0+2vol%A2
O3 (b) Co69.5Fe4.5Si14.5B9.0Cr1.5Ru1.0 (a)において、A2O3粒子は非晶質合金中に三
次元的に分散していることは、走査型電子顕微鏡
にて確認した。 第11図は、上記(a),(b)合金の周波数に対する
実効透磁率μeの変化を示したものである。図か
ら明らかなように、A2O3を分散した(a)合金が
分散していない(b)合金に比較して、特に高周波数
帯域における実効透磁率の低下が少ないことが判
かる。 なお、第2相粒子としては、A2O3以外に、
合金と相溶性のないFe2O3,SiO2などの酸化物、
C,WC,TiC,NbCなどの炭素又はその化合
物、Ti,Mo,wなどの金属又は合金、又はこれ
らの複合物あ適用されうる。 また、第2相粒子の添加量については、3.0体
積%より多くは非晶質合金中に分散しにくく、ま
た、0.5体積%より少ないと余り効果が見られな
い。
す。b=23〜27原子%の範囲でρはc/c+dが
大きい方が高い。 第2図は結晶化温度に及ぼすb及びc/c+d
の影響を示す。この関係については、すでに種々
の報告がなされているが、我々の実験ではc/c
+dが約0.65付近で結晶温度の急激な変化が見い
出された。すなわちc/c+d>0.65では結晶化
温度が低くなつてしまう。この事実はすでに報告
されているものと異なつている。 第3図には、100hrあたりの摩耗量とc/c+
dの関係が示している。摩耗量の測定は液体急冷
したアモルフアスより通常のオーデイオタイプの
磁気ヘツドを作成し、市販のカセツトタイプのデ
ツキに装着した後、市販のノーマルテープを用い
て行なつた。また摩耗量はc/c+dが0.2〜0.4
でほぼ一定であり、0.4より大きくなるとしだい
に小さくなり、0.55以上でほぼ一定となる。c/
c+dが0.55以上で良好な耐摩耗量を示すことが
わかる。 第4図に液体急冷されたままの種々の組成をも
つアモルフアスの初透磁率μiとc/c+dの関係
を示す。いずれの場合もbが異なるとμiの値も異
なつてくるが、c/c+dが0.4以下では一定値
をとり、0.4〜0.6で急激に増加し、しだいに高い
一定値に近づく。すなわち液体急冷のままでは
c/c+dが大きい方がμiが高い。より好ましく
はc/c+dが0.55以上が望ましい。 一般にアモルフアス磁性合金の透磁率は適当な
条件での焼鈍により改善されることが知られてい
る。そこで、透磁率に及ぼす焼鈍の効果について
調べた。 第5図は、b=24で種々のc/c+dの組成を
もつアモルフアス合金(No.17〜20)を種々の温度
で10分間焼鈍した後、水焼入れを行ない、その状
態で測定された初透磁率と焼鈍温度の関係を示
す。種々の組成をもつアモルフアス合金における
初透磁率に及ぼす焼鈍温度の影響は類似してお
り、c/c+dが0.5,0.63において高いμiが得ら
れ、焼鈍による初透磁率の改善がこれらの組成で
大きいことが認識された。各サンプルにおける
種々の焼鈍後のμiの最大値を比較し、μiの高い順
にc/c+dをならべると、0.63,0.50,0.67,
0.18であつた。 第6図はb=25場合について第5図と同様にμi
に及ぼす熱処理効果を調べた結果である。各サン
プルにおける種々の焼鈍後のμiの最大値を比較
し、μiの高い順にc/c+dをならべると0.64,
0.60,0.50,0.40,0.68,0.20となる。 第7図は、b=27の場合について第5図と同様
に、μiに及ぼす熱処理効果を調べた結果である。
各サンプルにおける種々の焼鈍後のμiの最大値を
比較し、μiの高い順にc/c+dをならべると
0.63,0.50,0.40,0.20,0.76であつた。 第8図は種々の組成について焼鈍後得られたμi
の最大値とc/c+dとの関係を示す。b=24,
25,27のいずれの場合においてもμiはc/c+d
は約0.6付近で最も大きい値となる。 また、実用材料としての観点から特性のばらつ
きを考慮する必要があり、たとえば熱処理の操作
を考えると広い熱処理温度範囲で高い透磁率が得
られることは作業性、量産性あるいは材料の信頼
性を増す。 第9図はμi>104なる値が得られる焼鈍温度の
範囲(ΔT)を示す。μi=104なる値はヘツドコア
材として必要な値と近いと考えられる。現在、ヘ
ツド用コア材として使用されているパーマロイ、
センダストのμiはほぼこの程度の値である。bが
大きいほどΔTも大きくなるが飽和磁束密度が小
さくなる。c+d=24,25,27の場合いずれも曲
線は類似しており、c/c+dが0.5〜0.65付近
でそれぞれのbについてΔTは大きな値をとる。 さらに(1)〜(24)の合金を高湿度の空気中に放置
し、表面状態を観察し、耐食性を調べた。耐食性
はbの大小にかかわらずc/c+dが大きいほど
良好であつた。 以上述べてきたことをまとめると、以下に示す
ようになる。 比抵抗ρ c/c+d→大 結晶化温度 c/c+d<0.65 耐摩耗性 0.55<c/c+d μi(AsQ) 0.55<c/c+d μi(熱処理後) 0.50<c/c+d<0.65 μi(ΔT) 0.5<c/c+d<0.65 耐食性 c/c+d→大 いずれの条件をも満足するには、 0.55<c/c+d<0.65 である必要がある。 次に、前記主合金にCr及びRu元素を添加した。
これらの元素を添加した合金の製法については前
述の主合金と同様に片ロール液体急冷法に従い作
成した。 Crを添加する理由は耐食性を向上するためで、
前記主合金に対して1.0〜2.0原子%添加した。添
加した合金について塩水噴霧試験(40℃,48時
間)を行い、外部観察した結果、充分な耐食性が
得られた。なお、添加量が1.0原子%より少ない
と効果がなく2.0原子%を超えると飽和磁束密度
が低下してしまう。また、Cr添加により熱処理
後において合金が脆くならないという効果も奏し
た。 Ruについては、添加量が多ければ多い程、よ
り耐摩耗性を向上することができるが、4.0原子
%を超えると合金が非晶質状態になりにくく、ま
た、打抜き加工性も悪くなる。 第10図は、前記表に示した主合金組成サンプ
ル(No.19及び23)にそれぞれ予め1.5原子%のCr
を添加し、更に、Ruを1.0原子%、又は3.0原子%
添加したものについての、走行時間(hr)に対す
る摩耗量(μm)をグラフに表わしたものである。
同図において、19aは主合金組成サンプル(No.
19)にCrのみを1.5原子%添加したもの、19b
は同サンプル(No.19)にCrを1.5原子%、Ruを1.0
原子%加えたもの、19cは同サンプル(No.19)
にCrを1.5原子%、Ruを3.0原子%加えたものをそ
れぞれ示している。また、同様に、23aは主合
金組成サンプル(No.23)にCrのみを1.5原子%添
加したもの、23bはCrを1.5原子%、Ruを1.0原
子%、23cはCrを1.5原子%、Ruを3.0原子%加
えたものである。図から明らかなように、19a
〜cと23a〜cとの間で耐摩耗の差はなく、何
れの主合金組成においてもRuの添加量が増大す
るに従つて、摩耗量が大幅に減少している。 なお、比抵抗ρ、μi等の特性向上に関して、前
記主合金のSi,Bの量が0.55<c/c+d<0.65
の条件を満足すれば良いことは、Cr,Ru元素を
添加しても変わらない。 次に、本発明の非晶質合金は、前記主合金に
Cr及びRu元素を添加し、更に、この合金中に第
2相粒子を分散したものである。 合金中に第2相粒子を均一に分散してなる非晶
質合金の製造方法について説明すると、先ず、前
記合金を構成する合金母材を加熱溶融したのち、
その合金母材が凝固する前に、アルゴンガスなど
の不活性ガスからなる噴射媒体と共に前記第2相
粒子を前記合金母材に対して噴射分散せしめ、そ
の後冷却して第2相粒子を含有したインゴツトを
つくり、このインゴツトを第2相粒子が溶解しな
い程度に再溶融したのち、片ロール液体急冷法に
従い超急冷凝固させて、前記合金中に第2相粒子
を3次元的に均一に分散することができる。 本発明の実施例として、合金にA2O3を2体
積%分散した下記(a)組成の非晶質合金を作成し
た。また、その比較例としてA2O3を分散して
いない下記(b)組成の非晶質合金を作成した。 (a) Co69.5Fe4.5Si14.5B9.0Cr1.5Ru1.0+2vol%A2
O3 (b) Co69.5Fe4.5Si14.5B9.0Cr1.5Ru1.0 (a)において、A2O3粒子は非晶質合金中に三
次元的に分散していることは、走査型電子顕微鏡
にて確認した。 第11図は、上記(a),(b)合金の周波数に対する
実効透磁率μeの変化を示したものである。図か
ら明らかなように、A2O3を分散した(a)合金が
分散していない(b)合金に比較して、特に高周波数
帯域における実効透磁率の低下が少ないことが判
かる。 なお、第2相粒子としては、A2O3以外に、
合金と相溶性のないFe2O3,SiO2などの酸化物、
C,WC,TiC,NbCなどの炭素又はその化合
物、Ti,Mo,wなどの金属又は合金、又はこれ
らの複合物あ適用されうる。 また、第2相粒子の添加量については、3.0体
積%より多くは非晶質合金中に分散しにくく、ま
た、0.5体積%より少ないと余り効果が見られな
い。
第1図は非晶質合金の比抵抗ρとSi/Si+B
(=c/c+d)との関係を示す図、第2図は結
晶化温度とb(=Si+Bの温度)とc/c+dと
の関係を示す図、第図は100時間当たりの摩耗量
とc/c+dとの関係を示す図、第4図は非晶質
合金の初透磁率μiとc/c+dとの関係を示す
図、第5図ないし第7図は、それぞれのbと初透
磁率と焼鈍温度との関係を示す図、第8図は、μi
とc/c+dとの関係を示す図、第9図はμi>
104なる値が得られる焼鈍温度の範囲とc/c+
dとの関係を示す図、第10図はRuの添加量と
時間当たりの摩耗量との関係を示す図、第11図
はA2O3の添加の有無による非晶質合金の実効
透磁率μeと周波数との関係を示す図である。
(=c/c+d)との関係を示す図、第2図は結
晶化温度とb(=Si+Bの温度)とc/c+dと
の関係を示す図、第図は100時間当たりの摩耗量
とc/c+dとの関係を示す図、第4図は非晶質
合金の初透磁率μiとc/c+dとの関係を示す
図、第5図ないし第7図は、それぞれのbと初透
磁率と焼鈍温度との関係を示す図、第8図は、μi
とc/c+dとの関係を示す図、第9図はμi>
104なる値が得られる焼鈍温度の範囲とc/c+
dとの関係を示す図、第10図はRuの添加量と
時間当たりの摩耗量との関係を示す図、第11図
はA2O3の添加の有無による非晶質合金の実効
透磁率μeと周波数との関係を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 組成式(Fe1-a,Coa)100-b(Sic,Bd)bから成
る合金100原子%に対してCrを1.0〜2.0原子%、
及びRuを1.0〜4.0原子%添加した合金中に第2相
粒子を分散したことを特徴とする磁気ヘツド用非
晶質合金。 ただし、 a=0.93〜0.95 c+d=1 b=23〜27原子% c/c+d=0.55〜0.65 2 第2相粒子を0.5〜3.0体積%の範囲で添加し
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
磁気ヘツド用非晶質合金。 3 第2相粒子がA2O3粒子から成ることを特
徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
磁気ヘツド用非晶質合金。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60124161A JPS61284546A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 磁気ヘツド用非晶質合金 |
| KR1019850007622A KR900007666B1 (ko) | 1984-11-12 | 1985-10-16 | 자기헤드용 비정질 합금 |
| GB08527730A GB2167087B (en) | 1984-11-12 | 1985-11-11 | Amorphous magnetic alloys |
| US06/797,238 US4743313A (en) | 1984-11-12 | 1985-11-12 | Amorphous alloy for use in magnetic heads |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60124161A JPS61284546A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 磁気ヘツド用非晶質合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284546A JPS61284546A (ja) | 1986-12-15 |
| JPH0463147B2 true JPH0463147B2 (ja) | 1992-10-08 |
Family
ID=14878449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60124161A Granted JPS61284546A (ja) | 1984-11-12 | 1985-06-10 | 磁気ヘツド用非晶質合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61284546A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104087877A (zh) * | 2014-07-29 | 2014-10-08 | 上海理工大学 | 一种Co-Fe-Si-B-Cr非晶合金及其制备方法 |
-
1985
- 1985-06-10 JP JP60124161A patent/JPS61284546A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61284546A (ja) | 1986-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3437573B2 (ja) | ナノ結晶質構造を有するFe−Ni基軟磁性合金 | |
| US4918555A (en) | Magnetic head containing an Fe-base soft magnetic alloy layer | |
| JPH044393B2 (ja) | ||
| JPS6133900B2 (ja) | ||
| JP3877893B2 (ja) | 高周波用高透磁率金属ガラス合金 | |
| JPH05335129A (ja) | Fe基軟磁性合金粉末およびその製造方法 | |
| WO1992009714A1 (fr) | Alliage magnetique doux a base de fer | |
| KR900007666B1 (ko) | 자기헤드용 비정질 합금 | |
| JPH07116563B2 (ja) | Fe基軟磁性合金 | |
| JPS6212296B2 (ja) | ||
| JPH0463147B2 (ja) | ||
| JP3058675B2 (ja) | 超微結晶磁性合金 | |
| JP2710453B2 (ja) | 軟磁性合金膜 | |
| JPH05465B2 (ja) | ||
| JPS61143546A (ja) | 磁気ヘツド用非晶質合金 | |
| JP2857257B2 (ja) | 高飽和磁束密度Fe系軟磁性合金 | |
| JP2774702B2 (ja) | 軟磁性薄膜およびそれを用いた薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0413420B2 (ja) | ||
| JPS61243144A (ja) | 磁気ヘツド用非晶質合金 | |
| JPH0525947B2 (ja) | ||
| JPH02153052A (ja) | 磁気記録再生ヘッド用耐摩耗性高透磁率合金の製造法ならびに磁気記録再生ヘッド | |
| JP2878471B2 (ja) | 高飽和磁束密度Fe系軟磁性合金 | |
| JP3215068B2 (ja) | 高飽和磁束密度Fe系軟磁性合金 | |
| JP2878472B2 (ja) | 高飽和磁束密度Fe系軟磁性合金 | |
| JPH032216B2 (ja) |