JPH0463880B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は、抗腫瘍作用を有し、制癌剤として期
待されている後記一般式（）で表わされるアミ
ノプロピルアミノブレオマイシン誘導体の新規製
造法に関する。 〔従来の技術〕 後記一般式〔〕で表わされるアミノプロピル
アミノブレオマイシン誘導体の一部は特開昭58−
116497号などにより公知であり、後記一般式
〔〕で表わされるブレオマイシン類と後記一般
式〔〕で示されるカルボニル化合物をシアン化
水素化ホウ素ナトリウムの存在下還元的に縮合を
行う方法により製造されている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、上記方法によると、構造不明の副生物
が５〜７％程度生成し、一方この副生物の除去が
比較的困難なため、精製工程が煩雑になり又、反
応中にシアン下水素ガスが発生するため作業環境
を悪化させるという欠点がある。 〔問題点を解決するための手段〕 そこで本発明者らは副生物の生成が少なく、
又、作業環境を悪化させない下記一般式〔〕 〔BX〕−NH−（CH₂）₃−Ａ−Ｙ−Ｂ 〔〕 〔式中〔BX〕は次式 で表わされるブレオマイシン酸（含銅体の場合は
キレート銅を省略）のカルボキシル基から水酸基
を除いた残基を示し、Ｙは低級アルキレン基を示
し、Ａは式

【式】 【式】

【式】または

【式】 で示される基（ここで、R₁は水素原子、低級ア
ルキル基またはベンジル基、R₂は低級アルキル
基またはベンジル基、Ｒは低級アルキル基であ
る。）を示し、Ｂは

【式】で示される基 （ここでR₅、R₆はそれぞれ、水素原子または
フエニル基、ナフチル基、フリル基、チオフエン
基、ノルボルネン基、シクロアルキル基で一つ以
上置換されていてもよい低級アルキル基（フエニ
ル基はさらにハロゲン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノメチル基、
シクロアルキル基、ベンジルオキシ基（ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、ベンジルオキシ基でベ
ンゼン環上の水素が置換されていてもよい）から
選ばれる一種または二種以上の置換基で置換され
ていてもよい。））を示す。ただしR₅、R₆のどち
らか少なくとも一方は水素原子以外の基である。〕
で表わされるアミノプロピルアミノブレオマイシ
ン誘導体の新規製法について種々検討した結果、
一般式〔〕 〔BX〕−NH−（CH₂）₃−Ａ−Ｙ−NH₂ 〔〕 〔式中〔BX〕、ＹおよびＡは前記と同じ。〕で示
されるアミノプロピルブレオマイシン類と、一般
式〔〕 R₃−CO−R₄ 〔〕 〔式中R₃、R₄はそれぞれ水素原子、シクロ
アルキル基、シクロアルキル基またはフエニル
基で一つ以上置換されていてもよい低級アルキル
基（フエニル基さらにハロゲン原子で置換されて
いてもよい。）、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、シクロアルキルオキシ
基、ベンジルオキシ基（ハロゲン原子、低級アル
コキシ基、ベンジルオキシ基でベンゼン環の水素
が置換されていてもよい。）、シアノ基、ハロゲノ
メチル基の一種または二種以上で置換されていて
もよいフエニル基、ナフチル基、チオフエン
基またはフリル基を示す。〕で表わされるカルボ
ニル化合物を溶媒中で、該溶媒中に不活性気体を
通気させながら、シアン化水素化ホウ素化合物に
より還元的に縮合させると構造不明の副生物の生
成が大巾に押さえられること及び発生するシアン
化水素ガスも除去できることを見い出した。 本発明は上記知見により完成されたものであ
る。 前記一般式〔〕、〔〕、〔〕における低級ア
ルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロプル基、ｎ−ブチル基、イ
ソブチル基等のC₁〜C₄のアルキル基が、ハロゲ
ンとしては、例えばフツ素、塩素、臭素等が、低
級アルキル基としては、例えばエチレン基、トリ
メチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン
基等のC₂〜C₆のアルキレン基が、シクロアルキ
ル基としては、例えばシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル
基、シクロデカニル基、シクロウンデカニル基等
のC₅〜C₁₂のシクロアルキル基が、低級アルコキ
シ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等のC₁〜C₄のアルコ
キシが、ハロゲノメチル基としては、例えばトリ
フルオロメチル基、トリクロロメチル基等が挙げ
られる。 上記Ａにおける

【式】としては例えば

【式】 【式】 【式】

【式】 等が、

【式】としては、例えば

〔式中R₁″は低級アルキルを、Ｘはハロゲン原子を示す。〕

で表わされるハライドを反応せしめて、一般式
〔〕 〔式中〔BX〕、Ｙ、R₁″、Ｚは前記に同じ。Ｄ
は酸の残基〕で表わされる四級塩とし、次いで公
知の方法を用いて、例えばＺがtert−ブトキシカ
ルボニル基である場合には氷冷下で６規定塩酸を
用いてtert−ブチルオキシカルボニル基を除去
し、一般式〔〕の化合物を得ることができる。
この方法により得られる化合物としては例えば
A5MMHHが挙げられる。 次にR₁とR₂が異なる場合は前記の式〔〕の
化合物に一般式〔〕の化合物を還元的に縮合し
て一般式〔〕 〔式中Ｙは前記と同じ〕 とし、この化合物に一般式〔〕の化合物を反応
させ一般式〔〕 〔式中Ｙ、R₁″、R₂、Ｚ、Ｄ は前記に同じ〕 で示される四級塩とする。次いで前記の方法で保
護基を除去し一般式〔〕の化合物を得ることが
できる。この方法により得られる化合物としては
例えばA5MMHHが挙げられる。 また一般式〔〕で示されるカルボニル化合物
のうち、３，４−ジ（ｐ−クロロベンジルオキ
シ）ベンズアルデヒド、３，４−ジ（3′，4′−ジ
クロロベンジルオキシ）ベンズアルデヒド、３，
４−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）ベンズアル
デヒド、４−（4′−ベンジルオキシベンジルオキ
シ）ベンジルアルデヒド）、４−シクロオクチル
メチルオキシベンズアルデヒドは新規化合物であ
り、以下に述べる方法で製造される。 〔式中R₇はｐ−メトキシベンジル、３，４−ジ
クロロベンジル、ｐ−クロロベンジル、ｐ−ベン
ジルオキシベンジル、シクロオクチルメチルであ
り、Ｘはハロゲン、ｎは０又は１である〕 即ち、式〔〕で表わされる化合物と式〔〕
で表わされる化合物をアセトンなどの溶媒中で、
常温ないし溶媒の沸点までの温度で反応させれば
よい。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に水及び
クロロホルム、エーテルなどの有機溶媒を加える
とアルデビドは有機層に得られる。必要なら再結
晶又は粗生成物をシリカゲル又は吸着樹脂を用い
たカラムクロマトグラフイーで精製することによ
り純品が得られる。 又、シクロトリデカンカルボアルデヒドは、新
規化合物であり、以下に述べる方法で製造出来
る。即ち、亜鉛末、無水テトラヒドロフラン、ジ
ブロモメタンの混合物に四塩化チタンを加えこれ
にシクロトリデカノンを加え反応させるとメチレ
ンシクロトリデカンが得られる。ついでメタクロ
ロ過安息香酸でエポキシ化し、これを精製する。
これを無水ジクロロメタン中で三弗化硼素エーテ
ルコンプレツクスと反応させるとシクロトリデカ
ンカルボキサアルデヒドが得られる。 〔実施例〕 つぎに、実施例により本発明の製造法を説明す
る。 実施例 １ (A) ３−〔Ｎ−メキル−Ｎ−（３−アミノプロピ
ル）アミノ〕プロピルアミノブレオマイシン３
塩酸塩（以下BLM APMPと略記する。）の含
銅体0.500ｇ（0.310ｍmol）を40mlのメタノー
ルに溶解し、３，４−ビス（ベンジルオキシ）
ベンズアルデヒド（以下BBBAと略記する。）
0.296ｇ（0.93ｍmol）を加え、ついでシアン化
水素ホウ素ナトリウム39ml（0.62ｍmol）をメ
タノール５mlに溶解して添加する。40℃に昇温
後窒素ガスを20〜25ml／minで反応液中に通気
し、撹拌下48時間反応させる。反応後、室温ま
で冷却し、窒素ガスの通気を止める。 あらかじめメタノールを用いて充填したCM
−トヨパール 650M（東洋ソーダ社製）のカラ
ム（50ml容）に、反応液を注入して目的物を吸
着させる。吸着後150mlのメタノールを流し、
シアン化合物、ホウ素化合物およびBBBAを
除去する。ついで50％（ｖ／ｖ）メタノール水
に段階的に塩化ナトリウムを加えてナトリウム
濃度を0.30モルまで0.05モルづつ上昇させる遂
次的濃度勾配法により溶出を行う。（各濃度で
の溶出液を50mlづつ流す。）300mlの溶出液を流
し、ナトリウム濃度0.20モル前後で溶出する青
色の分画150mlを集める。高速液体クロマトグ
ラフイー定量法によるとこの分画の中には３−
｛Ｎ−メチル−Ｎ−〔3′−（ビス（3″，4″−ビス
（ベンジルオキシ）ベンジル）アミノ）プロピ
ル〕アミノ｝プロピルアミノブレオマイシン３
塩酸塩（以下BB−BLMと略記する。）の含銅
体が0.499ｇ（0.225ｍmol）含まれている。収
率72.6％（BLM APMP含銅体より）。 この分画を、50％（ｖ／ｖ）メタノール水を
用いて充填したダイアイオンHP 20SSZ（三菱
化成社製）カラム（40ml容）に注入し、目的物
を吸着させる。つぎに、0.1％（ｖ／ｖ）酢酸
を含むメタノール水をメタノール濃度を50％よ
り90％まで10％づつ上昇させる逐次的濃度勾配
法により溶出させ精製を行う。（各濃度での溶
出液を60mlづつ流す。）300mlの溶出液を流し、
メタノール濃度80％前後で溶出する高速液体ク
ロマトグラフイー純度99.5％の青色の分画80ml
を集める。この中にはBB−BLMの含銅体
0.449ｇ（0.203ｍmol）を含んでいる。 精製収率90.2％。 (B) (A)で得られる分画をメタノール濃度が10％
（ｖ／ｖ）になるまで濃縮し、脱銅のため蒸留
水で充填したアンバーライト XAD−２（ロー
ム・アンド・ハース社製）のカラム（50ml容）
に注入し吸着する。樹脂を塩化ナトリウムと５
％のEDTA・2Naからなる水溶液300mlで洗い
２％塩化ナトリウム100ml、蒸留水150mlの順序
で洗浄した後、最後に１／50規定塩酸水溶液−
メタノール（１：4v／ｖ）で溶出し波長290n
ｍ付近に吸収極大に示す分画を集める。ダウエ
ツクス 44（OH型；ザ・ダウ・ケミカル社製）
でPH6.0に調節した後、減圧下で濃縮し、凍結
乾燥したBB−BLMの脱銅体0.415ｇ（0.193ｍ
mol）を無色無定型粉末として得る。通算収率
62.3％（BLM APMP含銅体より）。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペク
トル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保
持値および高速液体クロマトグラフイーの保持
値において標品と一致する。 実施例 ２ BLM APMPの含銅体0.500ｇ（0.310ｍmol）
を40mlのメタノールに溶解し、シクロウンデカン
カルボキサアルデヒド0.11ｇ（0.60ｍmol）を添
加し、ついでシアン化水素化ホウ素ナトリウム13
mg（0.21ｍmol）をメタノール５mlに溶解して添
加する。窒素ガスを35〜40ml／minで反応液中に
通気し、室温で撹拌下30時間反応させる。反応
後、実施例１と同様な操作を行う。 CM−トヨパール 650M処理により、３−｛Ｎ
−メチル−Ｎ−〔3′−（シクロウンデカニルメチル
アミノ）プロピル〕アミノ｝プロピルアミノブレ
オマイシン３塩酸塩（以下MCU−BLMと略記す
る。）の含銅体0.469ｇ（0.264ｍmol）を含む分画
を得る。収率85.2％（BLM APMP含銅体より）。
ついでダイアイオンHP 20SS精製により、
MCU−BLMの含銅体0.449ｇ（0.252ｍmol）を
含む分画を得る。精製収率95.7％。 この分画を脱銅し、減圧下で濃縮後、凍結乾燥
してMCU−BLMの脱銅体0.411ｇ（0.240ｍmol）
を無色無定型粉末として得る。通算収率77.4％
（BLM APMP含銅体より）。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペクト
ル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保持値
および高速液体クロマトグラフイーの保持値にお
いて標品と一致する。 実施例 ３ ３−｛Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔3′−（Ｎ，Ｎ−
ジメチル−Ｎ−（3″−アミノプロピルアミノ）プ
ロピル〕アミノ｝プロピルアミノブレオマイシン
３塩酸塩２塩化物（以下BLM PP4Mと略記す
る。）の含銅体0.553ｇ（0.310ｍmol）を40mlのメ
タノールに溶解し、ベンズアルデヒド0.099ｇ
（0.93ｍmol）を加え、ついでシアン化水素化ホ
ウ素ナトリウム39mg（0.62ｍmol）をメタノール
５mlに溶解して添加し、実施例２と同様な操作を
行う。 CM−トヨパール 650M処理により、３−
｛Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔3′−Ｎ，Ｎ−ジメチル
−Ｎ−（3″−（ジベンジルアミノ）プロピル）アミ
ノ）プロピル〕アミノ｝プロピルアミノブレオマ
イシン３塩酸塩２塩化物（以下PPDBZ−BLMと
略記する。）の含銅体0.493ｇ（0.251ｍmol）を含
む分画を得る。収率81.0％（BLM PP4M含銅体
より）。 ついでダイアイオンHP 20SS精製により、
PPDBZ−BLMの含銅体0.394ｇ（0.201ｍmol）
を含む分画を得る。精製収率79.9％。 この分画を脱銅し、減圧下で濃縮後、凍結乾燥
してPPDBZ−BLMの脱銅体0.363ｇ（0.191ｍ
mol）を無色無定型粉末として得る。通算収率
61.6％（BLM PP4M含銅体より）。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペクト
ル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保持値
および高速液体クロマトグラフイーの保持値にお
いて標品と一致する。 実施例 ４ 実施例３において、BLM PP4Mの代わりに３
−〔4′−（3″−アミノプロピル）ピペラジリ−１−
イル〕プロピルアミノブレオマイシン４塩酸塩
（以下BLM PYと略記する。）の含銅体0.529ｇ
（0.310ｍmol）、窒素ガスの代わりにヘリウムガ
スを使用し、同様な操作を行う。 CM−トヨパール 650M処理により、３−
｛4′−〔3″−（ジベンジルアミノ）プロピル〕ピペ
リジル｝プロピルアミノブレオマイシン４塩酸塩
（以下PYDBZ−BLMと略記する。）の含銅体
0.468ｇ（0.248ｍmol）を含む分画を得る。収率
80.0％（BLM PY含銅体より）。 ついでダイアイオンHP 20SS精製により、
PYDBZ−BLMの含銅体0.422ｇ（0.244ｍmol）
を含む分画を得る。精製収率90.2％。 この分画を脱銅し、減圧下で濃縮後、凍結乾燥
してPYDBZ−BLMの脱銅体0.386ｇ（0.212ｍ
mol）を無色無定型粉末として得る。 通算収率68.4％（BLM PY含銅体より）。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペクト
ル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保持値
および高速液体クロマトグラフイーの保持値にお
いて標品と一致する。 〔発明の効果〕 実施例１〜４の方法により生成する構造不明物
質及び前記一般式〔〕で表わされる化合物の生
成率及び反応液面上のシアン化水素濃度を表１に
示す。なお、不活性気体を通気しない方法による
それぞれの生成率及びシアン化水素濃度を対照例
として示した。

【表】 ＊ 反応液の液体クロマトグラフイーによ
る測定値より算出した。
この表から明らかなように対照例では構造不明
物質が約４〜８％生成するのに対し、本発明方法
の実施例では約0.5〜１％程度とその生成が約1/5
〜1/8に大巾に減少し、それに応じ目的物である
一般式〔〕の化合物の収率が約４〜６％程度向
上している。 又、反応液面のシアン化水素濃度も300〜
360ppmから12〜15ppmへと大巾に低下してる。 以上から明らかなように本発明方法によると構
造不明の副反応生成物を従来法に比し約1/5〜1/8
と大巾に減少されることができ、目的物の収率も
向上する。又、シアン化水素濃度が大巾に低下す
るので、作業環境が大巾に改善される。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔BX〕−NH−（CH₂）₃−Ａ−Ｙ−NH₂ 〔式中〔BX〕はブレオマイシン酸のカルボキシ
   ル基から水酸基を除いた残基を示し、Ａは式
   【式】【式】【式】または 【式】で示される基 （ここで、R₁は水素原子、低級アルキル基また
   はベンジル基、R₂は低級アルキル基またはベン
   ジル基、Ｙ、Ｒは低級アルキレン基である。）を
   示す。〕で表わされるアミノプロピルアミノブレ
   オマイシンと、一般式 R₃−CO−R₄ 〔式中R₃、R₄はそれぞれ、水素原子、シク
   ロアルキル基、シクロアルキル基またはフエニ
   ル基で一つ以上置換されていてもよい低級アルキ
   ル基（フエニル基はさらにハロゲン原子で置換さ
   れていてもよい。）、ハロゲン原子、低級アルキ
   ル基、低級アルコキシ基、シクロアルキルオキシ
   基、ベンジルオキシ基（ハロゲン原子、低級アル
   コキシ基、ベンジルオキシ基でベンゼン環の水素
   が置換されていてもよい。）、シアノ基、ハロゲノ
   メチル基の一種または二種以上で置換されていて
   もよいフエニル基、ナフチル基、チオフエン
   基またはフリル基を示す。〕で表わされるカルボ
   ニル化合物を溶媒中で、該溶媒中に不活性気体を
   通気させながら、シアン化水素化ホウ素化合物に
   より、還元的に縮合することを特徴とする一般式 〔BX〕−NH−（CH₂）₃−Ａ−Ｙ−Ｂ 〔式中〔BX〕、ＹおよびＡは前記と同じ。Ｂは
   【式】で示される基（ここでR₅、R₆はそ れぞれ水素原子またはフエニル基、ナフチル
   基、フリル基、チオフエン基、ノルボルネン基、
   シクロアルキル基で一つ以上置換されていてもよ
   い低級アルキル基（フエニル基はさらにハロゲン
   原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シア
   ノ基、ハロゲノメチル基、シクロアルキルオキシ
   基、ベンジルオキシ基（ハロゲン原子、低級アル
   コキシ基、ベンジルオキシ基でベンゼン環上の水
   素が置換されていてもよい）、から選ばれる一種
   または二種以上の置換基で置換されていてもよ
   い。））を示す。ただし、R₅、R₆のどちらか少な
   くとも一方は水素原子以外の基である。〕で表わ
   される、アミノプロピルアミノブレオマイシン誘
   導体およびその塩の製造法。