JPH0464040B2 - - Google Patents
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- JPH0464040B2 JPH0464040B2 JP57139883A JP13988382A JPH0464040B2 JP H0464040 B2 JPH0464040 B2 JP H0464040B2 JP 57139883 A JP57139883 A JP 57139883A JP 13988382 A JP13988382 A JP 13988382A JP H0464040 B2 JPH0464040 B2 JP H0464040B2
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- Japan
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- gas
- pressure
- jet pump
- nozzle
- pump
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の詳細な説明
本発明は、ガス駆動装置に係り、特に高速増殖
炉のカバーガス中水素検出装置等で用いるガスの
駆動装置に関するものである。
炉のカバーガス中水素検出装置等で用いるガスの
駆動装置に関するものである。
従来、例えば高速増殖炉の蒸気発生器において
は、第１図に示すように、２次冷却系のナトリウ
ム１の熱を伝熱管２内の水に移し、水蒸気を発生
させている。万一蒸気発生器１７内の伝熱管２が
破損した場合、該伝熱管２の内部の水がナトリウ
ム側に漏れ、ナトリウム−水反応事故が生じる。
このため、水の漏洩を早期に発見する必要があ
り、ナトリウム中水素検出装置３とカバーガス中
水素検出装置４が設けられている。これらの検出
装置３，４は、ナトリウムと水との反応によつて
生じる水素を検出して、伝熱管２の破損等による
水漏洩を発見するものである。
は、第１図に示すように、２次冷却系のナトリウ
ム１の熱を伝熱管２内の水に移し、水蒸気を発生
させている。万一蒸気発生器１７内の伝熱管２が
破損した場合、該伝熱管２の内部の水がナトリウ
ム側に漏れ、ナトリウム−水反応事故が生じる。
このため、水の漏洩を早期に発見する必要があ
り、ナトリウム中水素検出装置３とカバーガス中
水素検出装置４が設けられている。これらの検出
装置３，４は、ナトリウムと水との反応によつて
生じる水素を検出して、伝熱管２の破損等による
水漏洩を発見するものである。
前者の検出装置３は主にナトリウム１中の伝熱
管２からの水漏洩を監視するもので、電磁ポンプ
５によつて、主ループ６のナトリウムを一部サン
プリングし、水素計７に導き、ナトリウム中の水
素濃度の上昇を検出する構成となつている。
管２からの水漏洩を監視するもので、電磁ポンプ
５によつて、主ループ６のナトリウムを一部サン
プリングし、水素計７に導き、ナトリウム中の水
素濃度の上昇を検出する構成となつている。
一方、後者の検出装置４は、主に、カバーガス
８中の、又は液面９近傍の伝熱管２からの水漏洩
を監視するもので、カバーガス８の一部をサンプ
リングして水素計７に導きカバーガス中の水素濃
度の上昇を検出する構成となつている。この検出
装置４におけるカバーガス８は、ポンプ１０で循
環させるようになつている。カバーガス８の中に
は、ナトリウムの蒸気やミストが多く混在し、こ
れが、ポンプ１０の可動部分に付着、凝固する
と、ポンプ１０は「かじり」等の故障が発生する
ことになる。そこで、ベーパトラツプ１１を設
け、このようなポンプ１０の故障を避けている。
このベーパトラツプ１１は、ポンプ１０の前段
で、ガス中のナトリウム蒸気とミストを除去する
役目をしている。このような、ポンプ１０による
ガス循環方式では、ベーパトラツプ１１が必要と
なり装置の構成が大がかり（大型）になつてしま
うという欠点があつた。また、ベーパトラツプ１
１の目詰りやポンプ１０の可動部の「かじり」等
の故障が生じた場合、装置のメンテナンスがやつ
かいになる欠点があつた。
８中の、又は液面９近傍の伝熱管２からの水漏洩
を監視するもので、カバーガス８の一部をサンプ
リングして水素計７に導きカバーガス中の水素濃
度の上昇を検出する構成となつている。この検出
装置４におけるカバーガス８は、ポンプ１０で循
環させるようになつている。カバーガス８の中に
は、ナトリウムの蒸気やミストが多く混在し、こ
れが、ポンプ１０の可動部分に付着、凝固する
と、ポンプ１０は「かじり」等の故障が発生する
ことになる。そこで、ベーパトラツプ１１を設
け、このようなポンプ１０の故障を避けている。
このベーパトラツプ１１は、ポンプ１０の前段
で、ガス中のナトリウム蒸気とミストを除去する
役目をしている。このような、ポンプ１０による
ガス循環方式では、ベーパトラツプ１１が必要と
なり装置の構成が大がかり（大型）になつてしま
うという欠点があつた。また、ベーパトラツプ１
１の目詰りやポンプ１０の可動部の「かじり」等
の故障が生じた場合、装置のメンテナンスがやつ
かいになる欠点があつた。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消
し、小型でかつ装置のメンテナンスが不必要なガ
ス駆動装置を提供することにある。
し、小型でかつ装置のメンテナンスが不必要なガ
ス駆動装置を提供することにある。
上記の目的を達成するため、本発明に係るガス
駆動装置の第１発明は、原子力プラントのカバー
ガス圧調整用のガス供給タンクと連通して設けら
れ、液体金属の蒸気とミストの少なくとも一方が
混在するガスを循環して所定の機器に供給するガ
ス駆動装置において、ガスの循環路に噴流ポンプ
を設け、噴流ポンプのノズルに、高圧ガスを供給
するガス供給タンクを接続してなる構成とする。
駆動装置の第１発明は、原子力プラントのカバー
ガス圧調整用のガス供給タンクと連通して設けら
れ、液体金属の蒸気とミストの少なくとも一方が
混在するガスを循環して所定の機器に供給するガ
ス駆動装置において、ガスの循環路に噴流ポンプ
を設け、噴流ポンプのノズルに、高圧ガスを供給
するガス供給タンクを接続してなる構成とする。
そして第２発明は、原子力プラントのカバーガ
ス圧調整用のガス供給タンクと連通して設けら
れ、液体金属の蒸気とミストの少なくとも一方が
混在するガスを循環して所定の機器に供給するガ
ス駆動装置において、ガスの循環路に噴流ポンプ
を設け、噴流ポンプのノズルに、噴流ポンプより
排出されて循環するガスより一部のガスを取出し
かつ昇圧してノズルに高圧ガスを供給する加圧ポ
ンプを接続してなる構成とする。
ス圧調整用のガス供給タンクと連通して設けら
れ、液体金属の蒸気とミストの少なくとも一方が
混在するガスを循環して所定の機器に供給するガ
ス駆動装置において、ガスの循環路に噴流ポンプ
を設け、噴流ポンプのノズルに、噴流ポンプより
排出されて循環するガスより一部のガスを取出し
かつ昇圧してノズルに高圧ガスを供給する加圧ポ
ンプを接続してなる構成とする。
また第３発明は、原子力プラントのカバーガス
圧調整用のガス供給タンクと連通して設けられ、
液体金属の蒸気とミストの少なくとも一方が混在
するガスを循環して所定の機器に供給するガス駆
動装置において、ガスの循環路に噴流ポンプを設
け、噴流ポンプのノズルに、液体金属より一部の
液体金属を取出しかつ昇圧してノズルに高圧液体
金属を供給する電磁ポンプを接続してなる構成と
する。
圧調整用のガス供給タンクと連通して設けられ、
液体金属の蒸気とミストの少なくとも一方が混在
するガスを循環して所定の機器に供給するガス駆
動装置において、ガスの循環路に噴流ポンプを設
け、噴流ポンプのノズルに、液体金属より一部の
液体金属を取出しかつ昇圧してノズルに高圧液体
金属を供給する電磁ポンプを接続してなる構成と
する。
以下、本発明を実施例を図面を参照して詳細に
説明する。第２図は、本発明の第１発明の一実施
例を示したものであり、カバーガス中水素検出装
置７のガス駆動に噴流ポンプとしてのエジエクタ
１２を用いた実施例である。第２図の実施例が第
１図のものと異なるところは、ポンプ１０をエジ
エクタ１２に置換え、ポンプ１０の保護に必要で
あつたベーパトラツプ１１を省略し、かつ上記エ
ジエクタ１２のノズル１３に原子力プラントにお
けるカバーガス圧調節用のガス供給タンク１８よ
り、ガス流量制御器２０により流量制御された高
圧のガスまたは液体金属を供給するようにした点
にある。
説明する。第２図は、本発明の第１発明の一実施
例を示したものであり、カバーガス中水素検出装
置７のガス駆動に噴流ポンプとしてのエジエクタ
１２を用いた実施例である。第２図の実施例が第
１図のものと異なるところは、ポンプ１０をエジ
エクタ１２に置換え、ポンプ１０の保護に必要で
あつたベーパトラツプ１１を省略し、かつ上記エ
ジエクタ１２のノズル１３に原子力プラントにお
けるカバーガス圧調節用のガス供給タンク１８よ
り、ガス流量制御器２０により流量制御された高
圧のガスまたは液体金属を供給するようにした点
にある。
エジエクタ１２は、高圧流体供給手段からの高
圧（約２Kg／cm2）のガス１６を少流量でノズル１
３より吹き込み、ノズル１３から出るガス１４の
運動量を循環系１５のカバーガス８に与えてカバ
ーガス８を駆動させ、水素計７に誘導するもので
ある。
圧（約２Kg／cm2）のガス１６を少流量でノズル１
３より吹き込み、ノズル１３から出るガス１４の
運動量を循環系１５のカバーガス８に与えてカバ
ーガス８を駆動させ、水素計７に誘導するもので
ある。
上記高圧流体供給手段としては、上記駆動に必
要な高圧ガス１６を従来より蒸気発生器１７内の
ナトリウム液面制御用に用いられているガス供給
タンク１８から供給する構成になつている。エジ
エクタ１２のノズル１３より吹き込むガスの流量
は、通常運転時の蒸気発生器１７内カバーガス８
の体積変化に比べて微か（0.1％）なため、高圧
ガス１６の供給源をガス供給タンク１８に置いた
にしても、従来のナトリウム液面制御系には何ら
の悪影響を及ぼさない。仮にカバーガス８の圧力
が注入ガス１４で高くなつた場合、ガス放出弁１
９が作動するようになつている。
要な高圧ガス１６を従来より蒸気発生器１７内の
ナトリウム液面制御用に用いられているガス供給
タンク１８から供給する構成になつている。エジ
エクタ１２のノズル１３より吹き込むガスの流量
は、通常運転時の蒸気発生器１７内カバーガス８
の体積変化に比べて微か（0.1％）なため、高圧
ガス１６の供給源をガス供給タンク１８に置いた
にしても、従来のナトリウム液面制御系には何ら
の悪影響を及ぼさない。仮にカバーガス８の圧力
が注入ガス１４で高くなつた場合、ガス放出弁１
９が作動するようになつている。
以下、本実施例で用いるエジエクタの効率につ
いて説明する。
いて説明する。
第３図は、エジエクタ１２を拡大して示す説明
図である。図において、エジエクタ１２は、ノズ
ル１３より出るガス１４の運動量を主循環系１５
のカバーガス２２に与え均一に混合する混合室２
３と、混合後のガス２５の速度を下げ、ガスの持
つ運動エネルギを圧力に変換する拡大室２４とか
ら構成されている。混合室２３で、運動量の保存
則、拡大室２４でエネルギの保存則が成立つ結
果、エジエクタにより昇圧できる圧力ΔPは、次
式で表わされる。
図である。図において、エジエクタ１２は、ノズ
ル１３より出るガス１４の運動量を主循環系１５
のカバーガス２２に与え均一に混合する混合室２
３と、混合後のガス２５の速度を下げ、ガスの持
つ運動エネルギを圧力に変換する拡大室２４とか
ら構成されている。混合室２３で、運動量の保存
則、拡大室２４でエネルギの保存則が成立つ結
果、エジエクタにより昇圧できる圧力ΔPは、次
式で表わされる。
ΔP＝１／２ρeVe2＋P0−P2
＝１／２ρ1V1 2・η ……(1)
ここに、ηはエジエクタの効率であり、ηは、
次式で与えられる。
次式で与えられる。
η＝ｆ〔２−ｆ｛ρ2／ρ1・（2f−１）／（１−ｆ）
2K2 ＋１／ρ.（K2ρ2 2／ρ1＋2Kρ2＋ρ1）｝〕……(2
) ただし、 ｆ：混合室入口断面積に対してノズルが占める断
面積の割合 Ｋ：流量比｛＝V2（１−ｆ）／V1f｝ V1：ノズルから出るガスの流速 V2：混合室入口のカバーガス流速 V0：混合室出口のガス流速 V.：拡大室出口のガス流速 ρ1：ノズルから出るガスの密度 ρ2：混合室入口におけるカバーガス密度 ρ0：混合室出口におけるガスの密度 ρ.：拡大室出口におけるガスの密度 Ｐ＊：高圧ガス源の圧力 P2：エジエクタ入口におけるカバーガス圧力 P1：混合室入口におけるガスの圧力 P0：混合室出口におけるガスの圧力 P.：エジエクタ出口（拡大室出口）におけるガス
の圧力 第４図は、第(2)式を用いてエジエクタの効率η
を計算した結果を示す特性図である。計算では、
ガスの密度ρ2、ρ0として、原型炉「もんじゆ」の
蒸気発生器内カバーガス（アルゴンAr、温度＝
400℃）の値0.73Kg／m3を、またρ1として室温
（50℃）のArの値1.5Kg／m3を採用してある。図
の結果から、ノズル断面積比ｆを例えば0.1にす
ると、注入するガス流量の４倍（Ｋ＝４）のガス
を効率η＝0.1で駆動できる。（☆印）。一方、エ
ジエクタで昇圧すべき必要な圧力ΔPは主循環系
１５のカバーガス圧力損失によつて決まり、従来
のカバーガス中水素検出装置（配管内系＝17mm、
配管全長＝20ｍ、循環流量＝５／mm）を例にと
ると、ΔP≒50Paになる。この圧力損失を先に述
べたη＝0.1のエジエクタで補う場合に必要なノ
ズル部の出口ガス流速は25ｍ／ｓになる。この程
度のガス流速（〜25ｍ／ｓ）を得るのは容易で、
ガス供給源１８の圧力P*として２Kg／cm2以上あ
れば十分である。
2K2 ＋１／ρ.（K2ρ2 2／ρ1＋2Kρ2＋ρ1）｝〕……(2
) ただし、 ｆ：混合室入口断面積に対してノズルが占める断
面積の割合 Ｋ：流量比｛＝V2（１−ｆ）／V1f｝ V1：ノズルから出るガスの流速 V2：混合室入口のカバーガス流速 V0：混合室出口のガス流速 V.：拡大室出口のガス流速 ρ1：ノズルから出るガスの密度 ρ2：混合室入口におけるカバーガス密度 ρ0：混合室出口におけるガスの密度 ρ.：拡大室出口におけるガスの密度 Ｐ＊：高圧ガス源の圧力 P2：エジエクタ入口におけるカバーガス圧力 P1：混合室入口におけるガスの圧力 P0：混合室出口におけるガスの圧力 P.：エジエクタ出口（拡大室出口）におけるガス
の圧力 第４図は、第(2)式を用いてエジエクタの効率η
を計算した結果を示す特性図である。計算では、
ガスの密度ρ2、ρ0として、原型炉「もんじゆ」の
蒸気発生器内カバーガス（アルゴンAr、温度＝
400℃）の値0.73Kg／m3を、またρ1として室温
（50℃）のArの値1.5Kg／m3を採用してある。図
の結果から、ノズル断面積比ｆを例えば0.1にす
ると、注入するガス流量の４倍（Ｋ＝４）のガス
を効率η＝0.1で駆動できる。（☆印）。一方、エ
ジエクタで昇圧すべき必要な圧力ΔPは主循環系
１５のカバーガス圧力損失によつて決まり、従来
のカバーガス中水素検出装置（配管内系＝17mm、
配管全長＝20ｍ、循環流量＝５／mm）を例にと
ると、ΔP≒50Paになる。この圧力損失を先に述
べたη＝0.1のエジエクタで補う場合に必要なノ
ズル部の出口ガス流速は25ｍ／ｓになる。この程
度のガス流速（〜25ｍ／ｓ）を得るのは容易で、
ガス供給源１８の圧力P*として２Kg／cm2以上あ
れば十分である。
第５図は、本発明の第２発明の一実施例を示す
構成図である。この実施例が第２図の実施例と異
なるところは、ノズル１３に注入する高圧流体
（ガス）供給手段を主循環系１５のカバーガスか
ら作り出す点にある。すなわち、高圧流体供給手
段は、エジエクター１２を出て蒸気発生器１７に
戻るカバーガスの一部（先の例（第４図☆）では
１／５の流量）をポンプ１０で取出し、昇圧してノ
ズル１３に供給する構成となつている。
構成図である。この実施例が第２図の実施例と異
なるところは、ノズル１３に注入する高圧流体
（ガス）供給手段を主循環系１５のカバーガスか
ら作り出す点にある。すなわち、高圧流体供給手
段は、エジエクター１２を出て蒸気発生器１７に
戻るカバーガスの一部（先の例（第４図☆）では
１／５の流量）をポンプ１０で取出し、昇圧してノ
ズル１３に供給する構成となつている。
このようなガス駆動装置の場合は、ポンプ１０
並びにこれを保護するべーパトラツプ１１が必要
となるが、ガス注入系２１を通過するカバーガス
の流量が少なく、また、ナトリウムの蒸気、ミス
トの量も少ない。このため、ポンプ１０、べーパ
トラツプ１１の容積も小さくできる。例えば先の
例（第４図☆）で、流量比Ｋ＝４の場合、従来の
カバーガス中水素検出装置で用いていたポンプ、
べーパトラツプ１１の1/5の容積でよいことにな
る。従つて、カバーガスの循環系は従来に比べて
１／５のコンパクト化が図れる。また、べーパトラ
ツプ１１の目詰りやポンプ１０可動部のかじり等
の故障が少なくなり装置のメンテナンスが軽減す
ることができる。また、この実施例では、エジエ
クタに必要な高圧ガス供給手段をカバーガス８か
ら作るので、ノズル注入ガスによつて蒸気発生器
１７内のカバーガス圧が高くなる心配はなく、液
面制御系に与える必要はない。
並びにこれを保護するべーパトラツプ１１が必要
となるが、ガス注入系２１を通過するカバーガス
の流量が少なく、また、ナトリウムの蒸気、ミス
トの量も少ない。このため、ポンプ１０、べーパ
トラツプ１１の容積も小さくできる。例えば先の
例（第４図☆）で、流量比Ｋ＝４の場合、従来の
カバーガス中水素検出装置で用いていたポンプ、
べーパトラツプ１１の1/5の容積でよいことにな
る。従つて、カバーガスの循環系は従来に比べて
１／５のコンパクト化が図れる。また、べーパトラ
ツプ１１の目詰りやポンプ１０可動部のかじり等
の故障が少なくなり装置のメンテナンスが軽減す
ることができる。また、この実施例では、エジエ
クタに必要な高圧ガス供給手段をカバーガス８か
ら作るので、ノズル注入ガスによつて蒸気発生器
１７内のカバーガス圧が高くなる心配はなく、液
面制御系に与える必要はない。
第６図は、本発明の第３発明の一実施例を示す
構成図である。この実施例が第２図及び第５図に
示す実施例と異なるところは、高圧ガスをエジエ
クタ１２のノズル１３に注入する代りに、液体ナ
トリウム１を注入してカバーガス８を駆動する点
にある。すなわち、前記ガスを駆動するに必要な
液体ナトリウムを供給する高圧流体供給手段は、
蒸気発生器１７から電磁ポンプ５で取出した液体
ナトリウム１を昇圧したのち、ノズル１３に注入
し、循環カバーガス中にスプレーしてガスを駆動
するようにしたものである。
構成図である。この実施例が第２図及び第５図に
示す実施例と異なるところは、高圧ガスをエジエ
クタ１２のノズル１３に注入する代りに、液体ナ
トリウム１を注入してカバーガス８を駆動する点
にある。すなわち、前記ガスを駆動するに必要な
液体ナトリウムを供給する高圧流体供給手段は、
蒸気発生器１７から電磁ポンプ５で取出した液体
ナトリウム１を昇圧したのち、ノズル１３に注入
し、循環カバーガス中にスプレーしてガスを駆動
するようにしたものである。
このようなガス駆動装置によると、第(1)式で表
わされるようにノズル１３の出口流体の密度ρ1が
大きくなり、従つてエジエクタ１２で昇圧できる
圧力ΔPが大きくとれる利点がある。なお、スプ
レー後のナトリウムは出口の主循環配管１５の内
面を伝わつて蒸気発生器１７内へ戻るようになつ
ている。
わされるようにノズル１３の出口流体の密度ρ1が
大きくなり、従つてエジエクタ１２で昇圧できる
圧力ΔPが大きくとれる利点がある。なお、スプ
レー後のナトリウムは出口の主循環配管１５の内
面を伝わつて蒸気発生器１７内へ戻るようになつ
ている。
本実施例は、要するに、カバーガスを可動部の
ない噴流ポンプで駆動するので、ベーパトラツプ
が省略できあるいは小型化でき、カバーガス循環
系が大幅にコンパクト化できる。従つて、このガ
ス駆動装置を、例えば、カバーガス中水素検出装
置に適用すると、装置全体の大きさを小さくする
ことができる。また、ベーパトラツプの目詰り
や、可動部でのかじり等の問題（故障）が解消で
き、装置のメンテナンスをなくすか、もしくは軽
減することが可能になる。
ない噴流ポンプで駆動するので、ベーパトラツプ
が省略できあるいは小型化でき、カバーガス循環
系が大幅にコンパクト化できる。従つて、このガ
ス駆動装置を、例えば、カバーガス中水素検出装
置に適用すると、装置全体の大きさを小さくする
ことができる。また、ベーパトラツプの目詰り
や、可動部でのかじり等の問題（故障）が解消で
き、装置のメンテナンスをなくすか、もしくは軽
減することが可能になる。
なお、本発明のガス駆動装置は、カバーガス中
水素検出装置だけに留まらず、広く一般的にナト
リウム機器のカバーガスを駆動する手段に適用が
可能である。
水素検出装置だけに留まらず、広く一般的にナト
リウム機器のカバーガスを駆動する手段に適用が
可能である。
以上述べたように本発明の第１発明によれば、
噴流ポンプのノズルに、ガス供給タンクの高圧ガ
スを流量制御しながら供給し、ガスを循環するた
め流れが安定し、小型化されかつメンテナンスの
軽減されたガス駆動装置を提供することができる
効果がある。そして本発明の第２発明によれば、
噴流ポンプのノズルに、噴流ポンプの排出ガスの
一部を昇圧した高圧ガスを流量制御しながら供給
するため、ポンプ及びベーパトラツプの容積が小
型化されかつメンテナンスの軽減されたガス駆動
装置を提供することができる効果がある。また本
発明の第３発明によれば、噴流ポンプのノズル
に、液体金属の一部を昇圧した高圧液体金属を供
給するため、噴流ポンプの昇圧圧力を大きくとれ
て噴流ポンプが小型化されかつメンテナンスの軽
減されたガス駆動装置を提供することができる効
果がある。
噴流ポンプのノズルに、ガス供給タンクの高圧ガ
スを流量制御しながら供給し、ガスを循環するた
め流れが安定し、小型化されかつメンテナンスの
軽減されたガス駆動装置を提供することができる
効果がある。そして本発明の第２発明によれば、
噴流ポンプのノズルに、噴流ポンプの排出ガスの
一部を昇圧した高圧ガスを流量制御しながら供給
するため、ポンプ及びベーパトラツプの容積が小
型化されかつメンテナンスの軽減されたガス駆動
装置を提供することができる効果がある。また本
発明の第３発明によれば、噴流ポンプのノズル
に、液体金属の一部を昇圧した高圧液体金属を供
給するため、噴流ポンプの昇圧圧力を大きくとれ
て噴流ポンプが小型化されかつメンテナンスの軽
減されたガス駆動装置を提供することができる効
果がある。
第１図は蒸気発生器の従来のカバーガス中水素
検出装置の構成を説明する図、第２図は本発明に
係るカバーガス駆動装置の第１発明の一実施例の
構成を説明するために示す構成図、第３図は本発
明で用いるエジエクタの駆動原理を説明するため
に示す説明図、第４図は第３図のエジエクタの効
率を説明するために示す特性図、第５図は同第２
発明の一実施例を示す構成図、第６図は同第３発
明の一実施例を示す構成図である。 １……ナトリウム、２……伝熱管、３……ナト
リウム中水素検出装置、４……カバーガス中水素
検出装置、５……電磁ポンプ、６……主ループ、
７……水素計、８……カバーガス、９……ナトリ
ウム液面、１０……ポンプ、１１……ベーパトラ
ツプ、１２……エジエクタ、１３……ノズル、１
４……ノズルより出るガス、１５……カバーガス
循環系、１６……高圧注入ガス、１７……蒸気発
生器、１８……ガス供給タンク、１９……ガス放
出弁、２０……ガス流量制御器、２１……ガス注
入系、２２……主循環系内のカバーガス、２３…
…混合室、２４……拡大室、２５……混合室出口
ガス。
検出装置の構成を説明する図、第２図は本発明に
係るカバーガス駆動装置の第１発明の一実施例の
構成を説明するために示す構成図、第３図は本発
明で用いるエジエクタの駆動原理を説明するため
に示す説明図、第４図は第３図のエジエクタの効
率を説明するために示す特性図、第５図は同第２
発明の一実施例を示す構成図、第６図は同第３発
明の一実施例を示す構成図である。 １……ナトリウム、２……伝熱管、３……ナト
リウム中水素検出装置、４……カバーガス中水素
検出装置、５……電磁ポンプ、６……主ループ、
７……水素計、８……カバーガス、９……ナトリ
ウム液面、１０……ポンプ、１１……ベーパトラ
ツプ、１２……エジエクタ、１３……ノズル、１
４……ノズルより出るガス、１５……カバーガス
循環系、１６……高圧注入ガス、１７……蒸気発
生器、１８……ガス供給タンク、１９……ガス放
出弁、２０……ガス流量制御器、２１……ガス注
入系、２２……主循環系内のカバーガス、２３…
…混合室、２４……拡大室、２５……混合室出口
ガス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 原子力プラントのカバーガス圧調整用のガス
供給タンクと連通して設けられ、液体金属の蒸気
とミストの少なくとも一方が混在するガスを循環
して所定の機器に供給するガス駆動装置におい
て、前記ガスの循環路に噴流ポンプを設け、該噴
流ポンプのノズルに、高圧ガスを供給する前記ガ
ス供給タンクを接続してなることを特徴とするガ
ス駆動装置。 ２ 原子力プラントのカバーガス圧調整用のガス
供給タンクと連通して設けられ、液体金属の蒸気
とミストの少なくとも一方が混在するガスを循環
して所定の機器に供給するガス駆動装置におい
て、前記ガスの循環路に噴流ポンプを設け、該噴
流ポンプのノズルに、該噴流ポンプより排出され
て循環する前記ガスより一部のガスを取出しかつ
昇圧して前記ノズルに高圧ガスを供給する加圧ポ
ンプを接続してなることを特徴とするガス駆動装
置。 ３ 原子力プラントのカバーガス圧調整用のガス
供給タンクと連通して設けられ、液体金属の蒸気
とミストの少なくとも一方が混在するガスを循環
して所定の機器に供給するガス駆動装置におい
て、前記ガスの循環路に噴流ポンプを設け、該噴
流ポンプのノズルに、前記液体金属より一部の液
体金属を取出しかつ昇圧して前記ノズルに高圧液
体金属を供給する電磁ポンプを接続してなること
を特徴とするガス駆動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57139883A JPS5930094A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | ガス駆動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57139883A JPS5930094A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | ガス駆動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5930094A JPS5930094A (ja) | 1984-02-17 |
| JPH0464040B2 true JPH0464040B2 (ja) | 1992-10-13 |
Family
ID=15255797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57139883A Granted JPS5930094A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | ガス駆動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5930094A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51101693A (en) * | 1975-03-04 | 1976-09-08 | Hitachi Ltd | Genshirono hasonnenryokenshutsusochi |
-
1982
- 1982-08-13 JP JP57139883A patent/JPS5930094A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5930094A (ja) | 1984-02-17 |
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