JPH0464110A - 温度制御方法 - Google Patents
温度制御方法Info
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- JPH0464110A JPH0464110A JP25475790A JP25475790A JPH0464110A JP H0464110 A JPH0464110 A JP H0464110A JP 25475790 A JP25475790 A JP 25475790A JP 25475790 A JP25475790 A JP 25475790A JP H0464110 A JPH0464110 A JP H0464110A
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- Japan
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- temperature
- control
- control temperature
- sensor
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 26
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 101000685663 Homo sapiens Sodium/nucleoside cotransporter 1 Proteins 0.000 description 1
- 101000821827 Homo sapiens Sodium/nucleoside cotransporter 2 Proteins 0.000 description 1
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- 102100023116 Sodium/nucleoside cotransporter 1 Human genes 0.000 description 1
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- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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- Fixing For Electrophotography (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば複写機の加熱ローラの温度制御を行
う上で有効な温度制御方法に関する。
う上で有効な温度制御方法に関する。
従来、複写機の定着工程で用いられる加熱ローラの温度
制御方法としては、例えば、サーミスタ等の感温素子か
らなる温度検知用のセンサを機械的に安定なように保持
して加熱ローラ表面に接触させ、このセンサの検知温度
が加熱ローラ表面の目標制御温度より高いか低いかによ
りヒータをオン／オフさせ、加熱ローラの表面温度を所
定値に保つようにするものが知られている。
制御方法としては、例えば、サーミスタ等の感温素子か
らなる温度検知用のセンサを機械的に安定なように保持
して加熱ローラ表面に接触させ、このセンサの検知温度
が加熱ローラ表面の目標制御温度より高いか低いかによ
りヒータをオン／オフさせ、加熱ローラの表面温度を所
定値に保つようにするものが知られている。
しかしながら、このような従来の温度制御方法にあって
は、特に、熱源により加熱される被加熱体としての加熱
ローラの昇温速度が速いと、制御開始時に、温度検知用
のセンサの応答遅れにより大きなオーバーシュートが発
生し、オフセットの発生やウオームアツプタイムの遅延
等の不都合が生じてＩ２まうばかりか、上記制御開始時
の大きなオーバーシュートに引き続きその後も比較的大
きなアンダーシュート、オーバーシュートが発生すると
いう技術的課題が生ずる。
は、特に、熱源により加熱される被加熱体としての加熱
ローラの昇温速度が速いと、制御開始時に、温度検知用
のセンサの応答遅れにより大きなオーバーシュートが発
生し、オフセットの発生やウオームアツプタイムの遅延
等の不都合が生じてＩ２まうばかりか、上記制御開始時
の大きなオーバーシュートに引き続きその後も比較的大
きなアンダーシュート、オーバーシュートが発生すると
いう技術的課題が生ずる。
このような技術的課題を解決する手法として、加熱ロー
ラの目標制御温度と該目標制御温度より低い判定温度を
設け、該判定温度までは全通電によりヒータ加熱を行い
、その後、比例制御により加熱量を減少させ、目標制御
温度に漸次近づくように徐々にヒータ加熱を行うように
したものが既に提供されている（例えば特開昭５８−２
０９７７１号公報参照）。
ラの目標制御温度と該目標制御温度より低い判定温度を
設け、該判定温度までは全通電によりヒータ加熱を行い
、その後、比例制御により加熱量を減少させ、目標制御
温度に漸次近づくように徐々にヒータ加熱を行うように
したものが既に提供されている（例えば特開昭５８−２
０９７７１号公報参照）。
しかしながら、このタイプにあっては、ヒータへの供給
電力を位相制御するようにしているため、位相制御する
ための特別な制御回路が必要不可欠になり、その分、装
置構成が複雑化してしまうという新たな技術的課題が生
ずる。
電力を位相制御するようにしているため、位相制御する
ための特別な制御回路が必要不可欠になり、その分、装
置構成が複雑化してしまうという新たな技術的課題が生
ずる。
この発明は、以上の技術的課題を解決するためになされ
たものであって、複雑な装置構成を必要とせずに、被加
熱体の昇温速度が速くても、制御開始時に生ずる温度検
知用センサの応答遅れに起因する大きなオーバーシュー
トを回避でき、しかも、それ以後のアンダーシュート、
オーバーシュートを有効に低減させるようにした温度制
御方法を提供するものである。
たものであって、複雑な装置構成を必要とせずに、被加
熱体の昇温速度が速くても、制御開始時に生ずる温度検
知用センサの応答遅れに起因する大きなオーバーシュー
トを回避でき、しかも、それ以後のアンダーシュート、
オーバーシュートを有効に低減させるようにした温度制
御方法を提供するものである。
すなわち、この発明は、熱源により加熱される被加熱体
の温度をセンサにて検知し、このセンサ検知温度に基づ
いて被加熱体の温度が所定の制御温度になるように熱源
をフィードバック制御するに際し、制御開始時に当該制
御開始時のセンサ検知温度に応じて被加熱体の目標制御
温度よりも低い初期制御温度を上記制御温度として設定
し、センサ検知温度が上記初期制御温度に達した段階で
、その初期制御温度及び上記目標制御温度の間に位置す
る中間制御温度を上記制御温度として設定し、この中間
制御温度を時間の経過と共に漸次目標制御温度に接近さ
せるようにしたことを特徴とするものである。
の温度をセンサにて検知し、このセンサ検知温度に基づ
いて被加熱体の温度が所定の制御温度になるように熱源
をフィードバック制御するに際し、制御開始時に当該制
御開始時のセンサ検知温度に応じて被加熱体の目標制御
温度よりも低い初期制御温度を上記制御温度として設定
し、センサ検知温度が上記初期制御温度に達した段階で
、その初期制御温度及び上記目標制御温度の間に位置す
る中間制御温度を上記制御温度として設定し、この中間
制御温度を時間の経過と共に漸次目標制御温度に接近さ
せるようにしたことを特徴とするものである。
上述したような技術的手段によれば、制御開始時に当該
制御開始時のセンサ検知温度に応じて被加熱体の目標制
御温度よりも低い初期制御温度を設定するようにしたた
め、センサの応答遅れがあるとしても、センサ検知温度
が上記初期制御温度に到達した時点において、被加熱体
の温度が目標制御温度を大きく越えることはない。
制御開始時のセンサ検知温度に応じて被加熱体の目標制
御温度よりも低い初期制御温度を設定するようにしたた
め、センサの応答遅れがあるとしても、センサ検知温度
が上記初期制御温度に到達した時点において、被加熱体
の温度が目標制御温度を大きく越えることはない。
また、センサ検知温度が上記初期制御温度に達した段階
で、その初期制御温度及び上記目標制御温度の間に位置
する中間制御温度を設定し、この中間制御温度を時間の
経過と共に漸次制御目標温度に接近させるようにしたた
め、被加熱体の温度は各中間制御温度を目標に徐々に上
昇し、最終的に目標制御温度に到達する。
で、その初期制御温度及び上記目標制御温度の間に位置
する中間制御温度を設定し、この中間制御温度を時間の
経過と共に漸次制御目標温度に接近させるようにしたた
め、被加熱体の温度は各中間制御温度を目標に徐々に上
昇し、最終的に目標制御温度に到達する。
以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの発明の詳細
な説明する。
な説明する。
第１図及び第２図はこの発明の一実施例を示すもので、
複写機の加熱ローラの温度制御に適用した場合を示す。
複写機の加熱ローラの温度制御に適用した場合を示す。
第１図において、（１）は温度検出用のセンサを構成す
るサーミスタで、このサーミスタ（１）を有するセンサ
は、第２図に示す如く、加熱装置としてのヒーター（２
）を内部に備えた定着用の加熱ローラ（３）の回りに設
置されている。上記サーミスタ（１）は動作電源及びア
ース間に抵抗Ｒと直列に挿入されるようになっており、
この抵抗Ｒの両端からサーミスタ（１）の抵抗値の変化
に応じて変化する電圧が取出され、更に図示の例ではＡ
／Ｄコンバータ（４）を使用してこれをＡ／Ｄ変換した
後、マイクロコンピュータの中央処理装置（ＣＰＵ）
（５）にセンサ温度を示すデータとして与えられる。中
央処理装置（５）には、この他に使用する上述のセンサ
及び被加熱体としての加熱ローラ（３）のセンサ時定数
及びローラ昇温速度、並びに加熱ローラ（３）の温度の
制御目標値に関するデータも与えられる。中央処理装置
（５）は、これらのデータに基づき、第３図にフローチ
ャートで示すようなプログラムに従って処理を実行し、
ソリッドステートリレー（６）を介してヒーター（２）
をオン、オフさせる。
るサーミスタで、このサーミスタ（１）を有するセンサ
は、第２図に示す如く、加熱装置としてのヒーター（２
）を内部に備えた定着用の加熱ローラ（３）の回りに設
置されている。上記サーミスタ（１）は動作電源及びア
ース間に抵抗Ｒと直列に挿入されるようになっており、
この抵抗Ｒの両端からサーミスタ（１）の抵抗値の変化
に応じて変化する電圧が取出され、更に図示の例ではＡ
／Ｄコンバータ（４）を使用してこれをＡ／Ｄ変換した
後、マイクロコンピュータの中央処理装置（ＣＰＵ）
（５）にセンサ温度を示すデータとして与えられる。中
央処理装置（５）には、この他に使用する上述のセンサ
及び被加熱体としての加熱ローラ（３）のセンサ時定数
及びローラ昇温速度、並びに加熱ローラ（３）の温度の
制御目標値に関するデータも与えられる。中央処理装置
（５）は、これらのデータに基づき、第３図にフローチ
ャートで示すようなプログラムに従って処理を実行し、
ソリッドステートリレー（６）を介してヒーター（２）
をオン、オフさせる。
次に、第３図及び第４図をも参照して加熱ローラ（３）
に対する温度制御の動作について説明する。
に対する温度制御の動作について説明する。
なお、同各図中あるいは以下の記述において、ＴＣＮＴ
Ｉはウオームアツプ時制御目標値、ＴＣＮＴ□はアイド
リング時制御目標値、ＴＲｏＬＬ（ｔ）はローラ温度、
ＴｓＮｉ（ｔ）はセンサ温度、ＴＳＮＲはセンサの時定
数、ａはローラの昇温速度、Ｔ ＣＮＴはローラの制御
目標値を表す。
Ｉはウオームアツプ時制御目標値、ＴＣＮＴ□はアイド
リング時制御目標値、ＴＲｏＬＬ（ｔ）はローラ温度、
ＴｓＮｉ（ｔ）はセンサ温度、ＴＳＮＲはセンサの時定
数、ａはローラの昇温速度、Ｔ ＣＮＴはローラの制御
目標値を表す。
まず、制御開始時、制御目標を次式（１）で求められる
値ＴＣＮＴＩ（初期制御温度に相当）にし、そしてこれ
を目標値として制御する。すなわち、ウオームアツプ時
の制御温度として ＲＤＹ を求める。
値ＴＣＮＴＩ（初期制御温度に相当）にし、そしてこれ
を目標値として制御する。すなわち、ウオームアツプ時
の制御温度として ＲＤＹ を求める。
上記において、ＴＳＮｌｌ（０）は制御開始時（１＝０
）のセンサ温度であり、またａ及びＴＳＮＲは既述した
ように使用される加熱ローラ（３）及びセンサに応じ定
数として与えられるものである。Ｔ ＣＮＴは（１）式
で代表されるが、近似できる離散値または別式でもよい
。第２図は、Ａ／Ｄコンバータ（４）を使用しているた
め、ＴＣＮＴＩの値が離散的なものの場合の例である。
）のセンサ温度であり、またａ及びＴＳＮＲは既述した
ように使用される加熱ローラ（３）及びセンサに応じ定
数として与えられるものである。Ｔ ＣＮＴは（１）式
で代表されるが、近似できる離散値または別式でもよい
。第２図は、Ａ／Ｄコンバータ（４）を使用しているた
め、ＴＣＮＴＩの値が離散的なものの場合の例である。
このようにして制御を開始し、制御開始からＴＳＮＲ（
ｔ）が上記（１）式で求めたＴＣＮＴＩの温度まで上昇
する期間、すなわちＴ ＳＮＲ（ｔ） ＜ Ｔ ＣＮＴ
ｌの間はヒーター（２）をオンさせ、これをＴｓ＋ｚ＋
（ｔ）≧ＴＣＮＴＩか否かの判別ステップにおいてＹＥ
Ｓの判別結果がでるまで続行する。
ｔ）が上記（１）式で求めたＴＣＮＴＩの温度まで上昇
する期間、すなわちＴ ＳＮＲ（ｔ） ＜ Ｔ ＣＮＴ
ｌの間はヒーター（２）をオンさせ、これをＴｓ＋ｚ＋
（ｔ）≧ＴＣＮＴＩか否かの判別ステップにおいてＹＥ
Ｓの判別結果がでるまで続行する。
次に、上記ＴＣＮＴ＋にセンサ温度ＴＳＮＲ（ｔ）が達
し上述の判別ステップでＹＥＳの判別結果が得られた場
合、その後の制御温度としてＴａ５ｔｅ（ｔ）（中間制
御温度に相当） を次式（２）で与える。
し上述の判別ステップでＹＥＳの判別結果が得られた場
合、その後の制御温度としてＴａ５ｔｅ（ｔ）（中間制
御温度に相当） を次式（２）で与える。
Ｔ ｃＮＴｚ（ｔ） ｔ−ｔ’
ＲＤＹった時間である。
ＲＤＹった時間である。
上記Ｔ ＣＮＴ□（１）は、前述のように、制御開始時
に上記（１）式でＴＣＮＴＩを求めることにより設定さ
れた制御温度にセンサ温度ＴｓＮｔ（ｔ）が到達した時
（ｔ＝ｔ’ ＲＤＹ ）以後、その制御温度を始点とし
加熱ローラ（３）の目標温度であるＴＣＮＴに近づくに
つれて時間の経過と共に漸次増加するものであり、ｔ→
美の場合にはＴ ＣＮＴに等しくなり、このＴｃＮＴを
終点とするものである。また、このＴｃＮｒ２（ｔ）に
ついても、近似できる離散値または別式でもよく、ＣＰ
Ｕ演算を行う本実施例では離散的である。
に上記（１）式でＴＣＮＴＩを求めることにより設定さ
れた制御温度にセンサ温度ＴｓＮｔ（ｔ）が到達した時
（ｔ＝ｔ’ ＲＤＹ ）以後、その制御温度を始点とし
加熱ローラ（３）の目標温度であるＴＣＮＴに近づくに
つれて時間の経過と共に漸次増加するものであり、ｔ→
美の場合にはＴ ＣＮＴに等しくなり、このＴｃＮＴを
終点とするものである。また、このＴｃＮｒ２（ｔ）に
ついても、近似できる離散値または別式でもよく、ＣＰ
Ｕ演算を行う本実施例では離散的である。
センサ温度ＴＳＮＲ（ｔ）がＴ。ＮＴＩに実際に達した
時間ｔ’ ＲＤＹ以後の段階では、上述の時間と共に変
化するＴ。５ｔ２（ｔ）を制御温度とし、これを基準に
ＴＳＮＩＩ （ｔ）≧Ｔ ｃＮｔ２（ｔ）か否かを判別
してヒーター（２）の制御を行い、更に再び前記（２）
式でＴ、ＮＴ２（１）を計算しその結果に応じてヒータ
ー（２）の制御を行うというように、上述のサイクルを
繰返す。
時間ｔ’ ＲＤＹ以後の段階では、上述の時間と共に変
化するＴ。５ｔ２（ｔ）を制御温度とし、これを基準に
ＴＳＮＩＩ （ｔ）≧Ｔ ｃＮｔ２（ｔ）か否かを判別
してヒーター（２）の制御を行い、更に再び前記（２）
式でＴ、ＮＴ２（１）を計算しその結果に応じてヒータ
ー（２）の制御を行うというように、上述のサイクルを
繰返す。
このようにして、制御開始以後の各段階に応じて、前記
各（１）、（２）式の条件で与えられるＴＣＮＴｌ＋Ｔ
ｃＮｔｇ（ｔ）より高い時はヒーター（２）オフ、低い
時はヒーター（２）オンの制御を行う。
各（１）、（２）式の条件で与えられるＴＣＮＴｌ＋Ｔ
ｃＮｔｇ（ｔ）より高い時はヒーター（２）オフ、低い
時はヒーター（２）オンの制御を行う。
上記実施例装置では、加熱ローラ（３）の温度をセンサ
により検出し、そのフィードバックにより加熱ローラ（
３）の温度制御を行う場合に、制御開始時の温度に応じ
て目標制御温度よりも低い初期制御温度を設定するよう
にし、しかも、センサ検知温度がその初期制御温度に達
した後は、その初期制御温度及び加熱ローラ（３）の目
標制御温度の間に位置する中間制御温度を設定し、この
中間制御温度を時間の経過と共に漸次増加せしめ、目標
制御温度に近づけるようにしている。
により検出し、そのフィードバックにより加熱ローラ（
３）の温度制御を行う場合に、制御開始時の温度に応じ
て目標制御温度よりも低い初期制御温度を設定するよう
にし、しかも、センサ検知温度がその初期制御温度に達
した後は、その初期制御温度及び加熱ローラ（３）の目
標制御温度の間に位置する中間制御温度を設定し、この
中間制御温度を時間の経過と共に漸次増加せしめ、目標
制御温度に近づけるようにしている。
すなわち、この実施例では、制御開始時から直ちにロー
ラ温度の目標値に制御温度を設定するのではないし、し
かも、ｔ’ ＲＤＹ経過後の制御の場合でもＴＣＮＴに
固定するのではなく前記（２）式のような時間と共に変
化する制御温度を基準にして制御を行う。
ラ温度の目標値に制御温度を設定するのではないし、し
かも、ｔ’ ＲＤＹ経過後の制御の場合でもＴＣＮＴに
固定するのではなく前記（２）式のような時間と共に変
化する制御温度を基準にして制御を行う。
このため、第５図に示す従来の方法による制御の場合に
は、制御を開始した際のオーバーシュートが大きく、ま
た、センサ温度ＴＳＮＲ（ｔ）が制御開始時点からのロ
ーラ温度Ｔ、。ＬＬ（ｔ）の一定の目標値であるＴｌ：
ＮＴと等しくなるのは、ローラ温度Ｔ、。ＬＬ（ｔ）が
そのＴＣＮＴをはるかに越えオーバーシュートのピーク
近傍の温度になってしまっている時であり、しかも、そ
の後もかなりのアンダーシュート、オーバーシュートが
発生するのに対し、第４図に示すように、たとえ加熱ロ
ーラ（３）の昇温速度ａが大きい場合でも、オーバーシ
ュートの小さな制御を行うことができる。制御開始温度
が変化した場合でも、制御開始後のセンサの温度（これ
はまたその時の加熱ロールの温度でもある）により、Ｔ
ＣＮＴＩは計算されるので、ＴＳＮｌ、ｌ （ｔ）≧Ｔ
ＣＮＴ ｌとなる時のローラ表面温度は略ローラの制御
目標であるＴＣＮアに一致しており、ホットオフセット
、未定着等のおそれは発生しない。しかも、ＴＣＮＴＩ
に達した後は、漸次目標となる制御温度を増加させ、Ｔ
ＣＮＴ２を基準に制御を行うので、その後のアンダー
シュート、オーバーシュートも従来に比し大幅に少なく
することができる。
は、制御を開始した際のオーバーシュートが大きく、ま
た、センサ温度ＴＳＮＲ（ｔ）が制御開始時点からのロ
ーラ温度Ｔ、。ＬＬ（ｔ）の一定の目標値であるＴｌ：
ＮＴと等しくなるのは、ローラ温度Ｔ、。ＬＬ（ｔ）が
そのＴＣＮＴをはるかに越えオーバーシュートのピーク
近傍の温度になってしまっている時であり、しかも、そ
の後もかなりのアンダーシュート、オーバーシュートが
発生するのに対し、第４図に示すように、たとえ加熱ロ
ーラ（３）の昇温速度ａが大きい場合でも、オーバーシ
ュートの小さな制御を行うことができる。制御開始温度
が変化した場合でも、制御開始後のセンサの温度（これ
はまたその時の加熱ロールの温度でもある）により、Ｔ
ＣＮＴＩは計算されるので、ＴＳＮｌ、ｌ （ｔ）≧Ｔ
ＣＮＴ ｌとなる時のローラ表面温度は略ローラの制御
目標であるＴＣＮアに一致しており、ホットオフセット
、未定着等のおそれは発生しない。しかも、ＴＣＮＴＩ
に達した後は、漸次目標となる制御温度を増加させ、Ｔ
ＣＮＴ２を基準に制御を行うので、その後のアンダー
シュート、オーバーシュートも従来に比し大幅に少なく
することができる。
以上説明してきたように、この発明によれば、センサの
応答遅れを予測した初期制御温度を設定し、センサ検知
温度が初期制御温度に達した段階で、被加熱体の中間制
御温度を徐々に目標制御温度に接近させるようにしたの
で、被加熱体の昇温速度が速くても、制御開始時に生ず
る温度検知用センサの応答遅れに起因する大きなオーバ
ーシュートを回避でき、オフセットの発生やウオームア
ツプタイムの遅延という現象を有効に防止することがで
きるばかりか、制御開始時のオーバーシュートを小さく
抑制することかできる分、それ以後のアンダーシュート
、オーバーシュートについても大幅に減少させることが
できる。
応答遅れを予測した初期制御温度を設定し、センサ検知
温度が初期制御温度に達した段階で、被加熱体の中間制
御温度を徐々に目標制御温度に接近させるようにしたの
で、被加熱体の昇温速度が速くても、制御開始時に生ず
る温度検知用センサの応答遅れに起因する大きなオーバ
ーシュートを回避でき、オフセットの発生やウオームア
ツプタイムの遅延という現象を有効に防止することがで
きるばかりか、制御開始時のオーバーシュートを小さく
抑制することかできる分、それ以後のアンダーシュート
、オーバーシュートについても大幅に減少させることが
できる。
また、この発明によれば、被加熱体の熱源への供給電力
を位相制御する必要はないので、位相制御を行うための
特別な制御回路を必要とせず、装置構成が不必要に複雑
化するという懸念はない。
を位相制御する必要はないので、位相制御を行うための
特別な制御回路を必要とせず、装置構成が不必要に複雑
化するという懸念はない。
第１図はこの発明を適用した一実施例装置の回路構成を
示す回路図、第２図はそのセンサにより温度検知される
加熱ローラ部分の外観図、第３図は上記実施例装置によ
る制御の一例のフローチャート、第４図はその場合のロ
ーラ温度、センサ温度、制御目標の変化を示す特性図、
第５図は従来の方法による制御の特性図である。 〔符号説明〕 （Ｉ］−・パパ・サーミスタ （２１−−−ヒータ
ー（３）・°゛パ°加熱ローラ （５）−・−′中
央処理装置第１図 特許出願人 富士ゼロックス株式会社
示す回路図、第２図はそのセンサにより温度検知される
加熱ローラ部分の外観図、第３図は上記実施例装置によ
る制御の一例のフローチャート、第４図はその場合のロ
ーラ温度、センサ温度、制御目標の変化を示す特性図、
第５図は従来の方法による制御の特性図である。 〔符号説明〕 （Ｉ］−・パパ・サーミスタ （２１−−−ヒータ
ー（３）・°゛パ°加熱ローラ （５）−・−′中
央処理装置第１図 特許出願人 富士ゼロックス株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 熱源により加熱される被加熱体の温度をセンサにて検
知し、このセンサ検知温度に基づいて被加熱体の温度が
所定の制御温度になるように熱源をフィードバック制御
するに際し、 制御開始時に当該制御開始時のセンサ検知温度に応じて
被加熱体の目標制御温度よりも低い初期制御温度を上記
制御温度として設定し、 センサ検知温度が上記初期制御温度に達した段階で、そ
の初期制御温度及び上記目標制御温度の間に位置する中
間制御温度を上記制御温度として設定し、この中間制御
温度を時間の経過と共に漸次目標制御温度に接近させる
ようにしたことを特徴とする温度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25475790A JPH0727419B2 (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | 温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25475790A JPH0727419B2 (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | 温度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0464110A true JPH0464110A (ja) | 1992-02-28 |
| JPH0727419B2 JPH0727419B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=17269460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25475790A Expired - Fee Related JPH0727419B2 (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | 温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727419B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010102126A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Oki Data Corp | 画像形成装置 |
| US9533431B2 (en) | 2011-05-13 | 2017-01-03 | Compagnie Generale Des Etablissements Michelin | Process and equipment for producing a rubber for a tire comprising a kneading step |
-
1990
- 1990-09-25 JP JP25475790A patent/JPH0727419B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010102126A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Oki Data Corp | 画像形成装置 |
| US9533431B2 (en) | 2011-05-13 | 2017-01-03 | Compagnie Generale Des Etablissements Michelin | Process and equipment for producing a rubber for a tire comprising a kneading step |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0727419B2 (ja) | 1995-03-29 |
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