JPH0464892A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
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- JPH0464892A JPH0464892A JP2177184A JP17718490A JPH0464892A JP H0464892 A JPH0464892 A JP H0464892A JP 2177184 A JP2177184 A JP 2177184A JP 17718490 A JP17718490 A JP 17718490A JP H0464892 A JPH0464892 A JP H0464892A
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- branch pipe
- exhaust pipe
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は排気装置に関する。
［従来の技術］
従来から、半導体製造工程における気体を伴う一定圧力
下で行われる成膜反応の反応装置では、排気管に設けら
れた流量調節弁を調節して装置内を一定圧力に保持する
ようにしたものとして、特開昭６２−６３４２１号、特
開昭６３−２３８２８１号、特開昭６３−３０４６２０
号公報等がある。
下で行われる成膜反応の反応装置では、排気管に設けら
れた流量調節弁を調節して装置内を一定圧力に保持する
ようにしたものとして、特開昭６２−６３４２１号、特
開昭６３−２３８２８１号、特開昭６３−３０４６２０
号公報等がある。
しかし、半導体製造装置の熱処理装置等の成膜装置では
、装置内で行われる反応が一定条件下で行われなければ
形成される膜厚が不均一になってしまい、半導体素子の
歩留りが低下してしまう。
、装置内で行われる反応が一定条件下で行われなければ
形成される膜厚が不均一になってしまい、半導体素子の
歩留りが低下してしまう。
そのため、熱処理装置に接続された排気装置でも排気管
内の圧力を微妙にコントロールして熱処理装置内を一定
圧に保持しなければならなかった。
内の圧力を微妙にコントロールして熱処理装置内を一定
圧に保持しなければならなかった。
ところで熱処理装置は、通常複数台設置され、その排気
装置は工場全体の排気系に接続され、強力なファンで排
気されるようになっている。従って、熱処理装置の一部
しか駆動されない場合は排気系が強すぎて排気管の負圧
が大きくなってしまい熱処理装置内の圧力に大きく影響
してしまった。
装置は工場全体の排気系に接続され、強力なファンで排
気されるようになっている。従って、熱処理装置の一部
しか駆動されない場合は排気系が強すぎて排気管の負圧
が大きくなってしまい熱処理装置内の圧力に大きく影響
してしまった。
そのため、排気装置の排気管に支流管を設け、支流管に
重力の方向に対して垂直に配置した弁を設け、この弁を
大気圧と排気管内の圧力差が所定値以上に達すると（排
気管内の圧力が低過ぎる場合）大気圧により弁が押し上
げられ、大気が排気管内に入り、排気管の圧力が上昇す
るような重量に予め作成して自動的に開閉できるような
排気圧調整装置が開発された。
重力の方向に対して垂直に配置した弁を設け、この弁を
大気圧と排気管内の圧力差が所定値以上に達すると（排
気管内の圧力が低過ぎる場合）大気圧により弁が押し上
げられ、大気が排気管内に入り、排気管の圧力が上昇す
るような重量に予め作成して自動的に開閉できるような
排気圧調整装置が開発された。
［発明が解決すべき課題］
しかし、このような排気装置であっても、弁の重さを排
気管内圧と大気圧の圧力差に鋭敏に応答して開閉するよ
うに例えば−１ｍｍＨ２Ｏで作動するように作成するの
は難しく、また工場排気系が大幅に負圧になった場合に
は弁が完全に開放状態となり排気管内を所望の一定圧に
保持することができなくなり、熱処理装置内の圧力が変
動し、膜厚も不均一に形成されてしまうという欠点があ
った。
気管内圧と大気圧の圧力差に鋭敏に応答して開閉するよ
うに例えば−１ｍｍＨ２Ｏで作動するように作成するの
は難しく、また工場排気系が大幅に負圧になった場合に
は弁が完全に開放状態となり排気管内を所望の一定圧に
保持することができなくなり、熱処理装置内の圧力が変
動し、膜厚も不均一に形成されてしまうという欠点があ
った。
本発明は」１記の欠点を解消するためになされたもので
あって、排気装置の排管内圧を一定に保持し、工場排気
系等の排気系に接続されていても過度に減圧になったり
することもなく、工場排気系の変動に対して排気管内の
圧力を一定に保持できる。そのため反応装置内の圧力も
一定に保持され、従って一定条件下で反応が行われるた
め、製品の品質を向」ニさせることができる排気装置を
提供することを目的とする。
あって、排気装置の排管内圧を一定に保持し、工場排気
系等の排気系に接続されていても過度に減圧になったり
することもなく、工場排気系の変動に対して排気管内の
圧力を一定に保持できる。そのため反応装置内の圧力も
一定に保持され、従って一定条件下で反応が行われるた
め、製品の品質を向」ニさせることができる排気装置を
提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
」１記の目的を達成するため、本発明の排気装置は、反
応装置の排気管に設けられ外気圧及び前記排気管内の圧
力差が所定量−１−になると外気により開成される弁を
備えた支流管と、前記支流管の」１流及び下流にそれぞ
れ設けられた圧ノｊ調整弁とを備えたものである。
応装置の排気管に設けられ外気圧及び前記排気管内の圧
力差が所定量−１−になると外気により開成される弁を
備えた支流管と、前記支流管の」１流及び下流にそれぞ
れ設けられた圧ノｊ調整弁とを備えたものである。
［作用］
排気管内の圧力と外気圧の差が所定の位置」二になった
時（排気管内が過度に減圧されてしまった場合）、その
自重に対抗した外気圧に押され開口して外気を流入させ
排気管内圧を所定の値に」１昇させることができる自動
開閉の弁を設けた支流管を排気装置の排気管に設ける。
時（排気管内が過度に減圧されてしまった場合）、その
自重に対抗した外気圧に押され開口して外気を流入させ
排気管内圧を所定の値に」１昇させることができる自動
開閉の弁を設けた支流管を排気装置の排気管に設ける。
その支流管の上流と下流に圧力調整弁を設け、排気管内
・ρガス流量を調整することにより、支流管に設けられ
た弁を最良の条件で動作させることができ、反応管と外
気圧の差を所望の一定圧にすることができる。
・ρガス流量を調整することにより、支流管に設けられ
た弁を最良の条件で動作させることができ、反応管と外
気圧の差を所望の一定圧にすることができる。
［実施例］
以下、本発明の抽気装置を半導体製造工程の熱処理装置
に適用した一実施例を図面を参照して説明する。
に適用した一実施例を図面を参照して説明する。
第１図に示す反応装置である熱処理装置１は、円筒状の
プロセスチューブ５を備え、プロセスチューブ５の内部
には処理される半導体ウエノ＼２を支持する石英ボート
３などを載置する載置台４が備えられる。プロセスチュ
ーブ５はその周囲を例えば円筒状の抵抗加熱コイルヒー
タ６で囲繞され、開口部か蓋体７で閉じられ、上記プロ
セスチューブ５の内部が５００〜１２００℃に適宜設定
加熱できるようになっている。プロセスチューブ５の上
部には流量計８を介して反応ガス供給系９に接続される
反応ガス（Ｊｊ給口１０がプロセスチューブ５の下部に
は排気装置１１に接続される反応ガス排気口１２が備え
られ、半導体ウェハ２に成膜等の処理をした余剰の反応
ガスや反応生成ガスの混合ガスＧが排気口１２から排気
装置１１に流入されるようになっている。排気装置１１
には熱処理装置１の排気口１２に接続される排気管１３
と、排気管工３に設けられる支流管１４と、支流管１４
の」１流及び下流に設けられる圧力調整弁１５１及び１
５−２等が備えられる。そして、この圧力調整弁１５−
１及び１５−２のそれぞれにマノメータ等の差圧計１６
−１及び１６−２が設けられる。支流管１４は第２図に
示すように一端は排気管１３に接続され、他端は軸が鉛
直になるよう屈曲させて成る。そして鉛直部１７に大径
部１８を設け、大径部１８に弾性部材から成る０リング
１９を取着させ、０リング１９」二に可動弁２０が配置
される。可動弁２０は例えば外気圧と排気管１３内の差
圧が一１０ｍｍＨ２Ｏを所望とすれば、１気圧＝ １０
０００ｍｍＨ２Ｏ＝ Ｉ Ｋ ｇ ７ｃｍ２の関係から
Ｉｇ／ｃｍ２の重さにすればよい。可動弁２０の重さの
調整は材質や厚さにより行う。
プロセスチューブ５を備え、プロセスチューブ５の内部
には処理される半導体ウエノ＼２を支持する石英ボート
３などを載置する載置台４が備えられる。プロセスチュ
ーブ５はその周囲を例えば円筒状の抵抗加熱コイルヒー
タ６で囲繞され、開口部か蓋体７で閉じられ、上記プロ
セスチューブ５の内部が５００〜１２００℃に適宜設定
加熱できるようになっている。プロセスチューブ５の上
部には流量計８を介して反応ガス供給系９に接続される
反応ガス（Ｊｊ給口１０がプロセスチューブ５の下部に
は排気装置１１に接続される反応ガス排気口１２が備え
られ、半導体ウェハ２に成膜等の処理をした余剰の反応
ガスや反応生成ガスの混合ガスＧが排気口１２から排気
装置１１に流入されるようになっている。排気装置１１
には熱処理装置１の排気口１２に接続される排気管１３
と、排気管工３に設けられる支流管１４と、支流管１４
の」１流及び下流に設けられる圧力調整弁１５１及び１
５−２等が備えられる。そして、この圧力調整弁１５−
１及び１５−２のそれぞれにマノメータ等の差圧計１６
−１及び１６−２が設けられる。支流管１４は第２図に
示すように一端は排気管１３に接続され、他端は軸が鉛
直になるよう屈曲させて成る。そして鉛直部１７に大径
部１８を設け、大径部１８に弾性部材から成る０リング
１９を取着させ、０リング１９」二に可動弁２０が配置
される。可動弁２０は例えば外気圧と排気管１３内の差
圧が一１０ｍｍＨ２Ｏを所望とすれば、１気圧＝ １０
０００ｍｍＨ２Ｏ＝ Ｉ Ｋ ｇ ７ｃｍ２の関係から
Ｉｇ／ｃｍ２の重さにすればよい。可動弁２０の重さの
調整は材質や厚さにより行う。
このような排気装置１１を備えた熱処理装置１は通常工
場内に多数設置され、これらの排気装置１１の排気管１
３はそれぞれ例えば工場排気系等の排気能力の大きな排
気系ファン２１に共通排気管２２を介して接続される。
場内に多数設置され、これらの排気装置１１の排気管１
３はそれぞれ例えば工場排気系等の排気能力の大きな排
気系ファン２１に共通排気管２２を介して接続される。
このような構成の熱処理装置の排気装置の動作を説明す
る。
る。
複数の熱処理装置１のうち、１台のみが稼動し、他は停
止されている場合を述べる。流量計８により反応ガス供
給系９から供給される反応ガスの所定量を測定し、所定
量の反応ガスをプロセスチューブ５の反応ガス供給口１
０から供給する。コイルヒータ６により例えば１０００
°Ｃに加熱されたプロセスチューブ５内で半導体ウェハ
２が処理される。処理後、余剰の反応ガス及び生成ガス
の混合ガスＧは排気口１２から排気管１３に流入される
。この時、他の熱処理装置１は稼動されず、従って他の
排気装置には混合ガスＧが流れないため排気ファン２１
の排気能ノｊに対して混合ガスＧの流量の割合が少なく
なる。支流管１４の可動弁２０のみの働きであると、排
気管内圧の所望の差圧が例えば−１〜ＯｍｍＨ，Ｏ以下
であっても、排気管１３の負圧が非常に大きくなるまで
可動しない。
止されている場合を述べる。流量計８により反応ガス供
給系９から供給される反応ガスの所定量を測定し、所定
量の反応ガスをプロセスチューブ５の反応ガス供給口１
０から供給する。コイルヒータ６により例えば１０００
°Ｃに加熱されたプロセスチューブ５内で半導体ウェハ
２が処理される。処理後、余剰の反応ガス及び生成ガス
の混合ガスＧは排気口１２から排気管１３に流入される
。この時、他の熱処理装置１は稼動されず、従って他の
排気装置には混合ガスＧが流れないため排気ファン２１
の排気能ノｊに対して混合ガスＧの流量の割合が少なく
なる。支流管１４の可動弁２０のみの働きであると、排
気管内圧の所望の差圧が例えば−１〜ＯｍｍＨ，Ｏ以下
であっても、排気管１３の負圧が非常に大きくなるまで
可動しない。
例えば−１０ｍｍＨ２Ｏ以下になると支流管１４に設け
られた可動弁２０が外気圧に押されてＯリング１９から
浮上する。そして外気が排気管１３内に流入され、排気
管１３は過剰な負圧状態でなく一１０ｍｍＨ２Ｏに保た
れる。この時、排気管１３の支流管１４の上流に設けら
れた圧力調整弁１５１を調整し、混合ガスＧの流量を調
整し差圧計１６−１の検出値が所望の−１−ＱｍｍＨ２
０になるようにする。また、支流管１４の下流の圧力調
整弁１５−２は、支流管１４の開口部を塞いだ状態で排
気管１３内が所望の差圧例えば−１５〜２（１１１ｍＨ
２０を示すように、差圧計１６−２の検出値を検出しな
がら調整する。以上ように圧力調整弁１５−１．１５−
２を調整することにより支流管１４で行なう圧力調整を
最適な圧力条件で行なうことができる。
られた可動弁２０が外気圧に押されてＯリング１９から
浮上する。そして外気が排気管１３内に流入され、排気
管１３は過剰な負圧状態でなく一１０ｍｍＨ２Ｏに保た
れる。この時、排気管１３の支流管１４の上流に設けら
れた圧力調整弁１５１を調整し、混合ガスＧの流量を調
整し差圧計１６−１の検出値が所望の−１−ＱｍｍＨ２
０になるようにする。また、支流管１４の下流の圧力調
整弁１５−２は、支流管１４の開口部を塞いだ状態で排
気管１３内が所望の差圧例えば−１５〜２（１１１ｍＨ
２０を示すように、差圧計１６−２の検出値を検出しな
がら調整する。以上ように圧力調整弁１５−１．１５−
２を調整することにより支流管１４で行なう圧力調整を
最適な圧力条件で行なうことができる。
そのため、支流管１４の可動弁２０は常に最適な圧力条
件である−１０ ｍｍ１−Ｉ ２０前後で動作し、圧力
調整弁１５−１を調整することで圧力調整弁１５−１の
上流部を所望の圧ノコに保持することができる。工場排
気系と稼働される装置との関係で圧力調整弁１５−２を
適宜調整しておくことにより、工場排気系のによる吸引
力の変動により生じる圧力変動に拘らず熱処理も一定条
件下で行うことができる。
件である−１０ ｍｍ１−Ｉ ２０前後で動作し、圧力
調整弁１５−１を調整することで圧力調整弁１５−１の
上流部を所望の圧ノコに保持することができる。工場排
気系と稼働される装置との関係で圧力調整弁１５−２を
適宜調整しておくことにより、工場排気系のによる吸引
力の変動により生じる圧力変動に拘らず熱処理も一定条
件下で行うことができる。
また他の実施例として、第１図に示すように差圧計１６
０−１及び１６０−２の出力により圧力調整弁１５０−
１及び１５０−２を自動的に駆動しフィードバック制御
を行うようにしてもよい。
０−１及び１６０−２の出力により圧力調整弁１５０−
１及び１５０−２を自動的に駆動しフィードバック制御
を行うようにしてもよい。
本発明は」１記の実施例に限定されるものでなく、工場
排気系に接続されず、単一の装置にも適用できる。また
、熱処理装置にも限定されず、ＣＶＤ装置や処理液例え
ばレジストを塗布するスピンコータ装置等反応圧を一定
に保って処理を行う装置に好適に用いることができる。
排気系に接続されず、単一の装置にも適用できる。また
、熱処理装置にも限定されず、ＣＶＤ装置や処理液例え
ばレジストを塗布するスピンコータ装置等反応圧を一定
に保って処理を行う装置に好適に用いることができる。
［発明の効果］
以」二の説明からも明らかなように、本発明の排気装置
は、外気圧と排気管内の差圧が大きくなった時に作動す
る可動弁を備えた支流管の上流と下流のそれぞれに圧力
調整弁を設けたため、支流管で行う圧力調整を最適な圧
力条件で行うことができ、高精度に均一なり１−気管内
圧を保持でき、従って反応装置内の圧力も所望の一定圧
に維持できる。
は、外気圧と排気管内の差圧が大きくなった時に作動す
る可動弁を備えた支流管の上流と下流のそれぞれに圧力
調整弁を設けたため、支流管で行う圧力調整を最適な圧
力条件で行うことができ、高精度に均一なり１−気管内
圧を保持でき、従って反応装置内の圧力も所望の一定圧
に維持できる。
そのため、半導体ウェハの均一処理ができ、高品位な製
品の製造を行うことができる。
品の製造を行うことができる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は第１
図に示す一実施例の要部を示す図である。 ・・・・・・熱処理装置（反応装置） １・・・・・・排気装置 ３・・・・・・排気管 ４・・・・・・支流管 ５−１．１５−２．１５０−１．１．５０−２・・・・
・・圧力調整弁
図に示す一実施例の要部を示す図である。 ・・・・・・熱処理装置（反応装置） １・・・・・・排気装置 ３・・・・・・排気管 ４・・・・・・支流管 ５−１．１５−２．１５０−１．１．５０−２・・・・
・・圧力調整弁
Claims (1)
- 反応装置の排気管に設けられ外気圧及び前記排気管内
の圧力差が所定以上になると外気により開成される弁を
備えた支流管と、前記支流管の上流及び下流にそれぞれ
設けられた圧力調整弁とを備えたことを特徴とする排気
装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17718490A JP2868853B2 (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 熱処理装置 |
| KR1019910001136A KR0147044B1 (ko) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | 배기 시스템을 가지는 열처리장치 |
| US07/644,565 US5088922A (en) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | Heat-treatment apparatus having exhaust system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17718490A JP2868853B2 (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0464892A true JPH0464892A (ja) | 1992-02-28 |
| JP2868853B2 JP2868853B2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=16026650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17718490A Expired - Lifetime JP2868853B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-07-04 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2868853B2 (ja) |
-
1990
- 1990-07-04 JP JP17718490A patent/JP2868853B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2868853B2 (ja) | 1999-03-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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