JPH0465303A - 原子状酸素発生方法 - Google Patents
原子状酸素発生方法Info
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- JPH0465303A JPH0465303A JP17829190A JP17829190A JPH0465303A JP H0465303 A JPH0465303 A JP H0465303A JP 17829190 A JP17829190 A JP 17829190A JP 17829190 A JP17829190 A JP 17829190A JP H0465303 A JPH0465303 A JP H0465303A
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Landscapes
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、分子線エピタキシー(以下MBEという)
装置、スパッタリング蒸着装置等の真空装置内で酸化物
超伝導体等の酸化物を作製する際に有効な、反応性に冨
む原子状酸素の発生方法に関するものである。
装置、スパッタリング蒸着装置等の真空装置内で酸化物
超伝導体等の酸化物を作製する際に有効な、反応性に冨
む原子状酸素の発生方法に関するものである。
[従来の技術]
分子状酸素では酸化力が不足する時、従来原子状酸素を
用いる公知の方法はあるにはあった。例えば、酸素(0
2)あるいは−酸化二窒素(N2○)を紫外線によって
分解する方法、あるいは酸素中で放電する方法(R,J
、 Cvet、anovicによる’Ad−ditio
n of Atoms to 01efins in
the Gas Phase(Advances in
Photochemistry Vol、1f196
3)pp、115−182) 、 L、 L Avra
menko、 R,V、 Kolesnikovaによ
る”Mechanisms and Rate
Con5tants of Elementary
Gas Phase Reactions In
volving Hydroxyl andOxy
gen Atoms”(同Vo1.2 (1964)
pp、 25−62) )である。
用いる公知の方法はあるにはあった。例えば、酸素(0
2)あるいは−酸化二窒素(N2○)を紫外線によって
分解する方法、あるいは酸素中で放電する方法(R,J
、 Cvet、anovicによる’Ad−ditio
n of Atoms to 01efins in
the Gas Phase(Advances in
Photochemistry Vol、1f196
3)pp、115−182) 、 L、 L Avra
menko、 R,V、 Kolesnikovaによ
る”Mechanisms and Rate
Con5tants of Elementary
Gas Phase Reactions In
volving Hydroxyl andOxy
gen Atoms”(同Vo1.2 (1964)
pp、 25−62) )である。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、酸素あるいは一酸化二窒素を紫外線によって分
解する方法では、強力な紫外線源か必要であり、これを
真空装置中で実現するのは困難である。
解する方法では、強力な紫外線源か必要であり、これを
真空装置中で実現するのは困難である。
一酸化二窒素ガスの光分解は、214nmより短波長の
紫外線によって起こるが、−酸化二窒素ガスの光吸収断
面積が極めて小さいので、強力な紫外9fJA源が必要
である。また、反応により窒素分子と原子状酸素以外に
、励起状態の窒素分子、原子状窒素、−酸化−窒素分子
が生ずる。
紫外線によって起こるが、−酸化二窒素ガスの光吸収断
面積が極めて小さいので、強力な紫外9fJA源が必要
である。また、反応により窒素分子と原子状酸素以外に
、励起状態の窒素分子、原子状窒素、−酸化−窒素分子
が生ずる。
また、酸素中で放電する方法では、原子状酸素以外の粒
子が多く発生し、生成粒子の運動エネルギーが熱エネル
ギーに比べかなり高い場合があるため、酸化しようとす
るものの表面が損傷を受けることがある。
子が多く発生し、生成粒子の運動エネルギーが熱エネル
ギーに比べかなり高い場合があるため、酸化しようとす
るものの表面が損傷を受けることがある。
このように、従来の方法には、それぞれの問題点があっ
た。
た。
この発明は、上記の問題点を解決するためになされたも
ので、有害な副生成物が少ない原子状酸素発生方法を提
供することを目的とするものである。
ので、有害な副生成物が少ない原子状酸素発生方法を提
供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段1
この発明にかかる原子状酸素発生方法は、−酸化二窒素
ガスを、真空装置に設置された熱クラッキングセルに導
入し、この熱クラッキングセル中で一酸化二窒素を窒素
分子と原子状酸素とに解離させ、原子状酸素を取り出す
ものである。
ガスを、真空装置に設置された熱クラッキングセルに導
入し、この熱クラッキングセル中で一酸化二窒素を窒素
分子と原子状酸素とに解離させ、原子状酸素を取り出す
ものである。
[作用]
この発明においては、低温度で一酸化二窒素が熱分解し
、窒素分子と原子状酸素とに解離される。
、窒素分子と原子状酸素とに解離される。
この発明の方法で得られる原子状酸素との被反応物は、
当該真空装置内で使用可能な物質であり、気相、液相、
同相の何れを問わない。
当該真空装置内で使用可能な物質であり、気相、液相、
同相の何れを問わない。
[実施例1
第1図はこの発明の原子状酸素発生方法に用いる装置を
説明するための区である。第1図において、101は真
空装置、102は一酸化二窒素を熱分解する熱クラッキ
ングセルであり、下記103〜106から構成される。
説明するための区である。第1図において、101は真
空装置、102は一酸化二窒素を熱分解する熱クラッキ
ングセルであり、下記103〜106から構成される。
すなわち、103は原子状酸素を取り出す開口部、10
4は前記熱クラッキングセル102の加熱部、105は
配管107と接続するための前記熱クラッキングセル1
02の開口部、106は前記熱クラッキングセル102
のガスが通過する管である。また、107は前記熱クラ
ッキングセル102に一酸化二窒素ガスを導入する配管
である。
4は前記熱クラッキングセル102の加熱部、105は
配管107と接続するための前記熱クラッキングセル1
02の開口部、106は前記熱クラッキングセル102
のガスが通過する管である。また、107は前記熱クラ
ッキングセル102に一酸化二窒素ガスを導入する配管
である。
次に、動作について説明する。
配管107を通して供給される一酸化二窒素ガスは、真
空装置101に取り付けられた熱クラッキングセル10
2に導入される。
空装置101に取り付けられた熱クラッキングセル10
2に導入される。
配管107から導入される一酸化二窒素ガスは管106
の内壁の高温部と繰り返し衝突し、分子の運動エネルギ
ーを増し、次のように解離反応をする。
の内壁の高温部と繰り返し衝突し、分子の運動エネルギ
ーを増し、次のように解離反応をする。
N20−Nz+0 −・・・・ (1)
この反応で得られた原子状酸素(○)は、窒素分子(N
2)と共に開口部103から真空装置101内へ放出さ
れる。
この反応で得られた原子状酸素(○)は、窒素分子(N
2)と共に開口部103から真空装置101内へ放出さ
れる。
以上により原子状酸素が得られる。
また、窒素分子は、反応性に乏しいので被酸化物にほと
んど影響を与えずに排気される。
んど影響を与えずに排気される。
第2図は、第1図の熱クラッキングセル102の1つの
実施例で、第1図と同一符号は同一部分を示す。
実施例で、第1図と同一符号は同一部分を示す。
管106はアルミナ、ジルコニア等で構成される。加熱
部104は白金、白金ロジウム合金などのコイル状ヒー
タとアルミナなどのヒータ支持材からなる。104a、
104bはヒータに流す電流を供給する電線であるCた
だし、104bは図示は省略) 10Bは前記熱クラ
ッキングセル102の温度をモニタするための熱電対で
、108a、108bがその引出し線である(なお、1
08bは図示は省略)。さらに、熱クラツキラグセル1
02からの輻射熱を遮るために熱遮蔽板109をおくこ
ともできる。
部104は白金、白金ロジウム合金などのコイル状ヒー
タとアルミナなどのヒータ支持材からなる。104a、
104bはヒータに流す電流を供給する電線であるCた
だし、104bは図示は省略) 10Bは前記熱クラ
ッキングセル102の温度をモニタするための熱電対で
、108a、108bがその引出し線である(なお、1
08bは図示は省略)。さらに、熱クラツキラグセル1
02からの輻射熱を遮るために熱遮蔽板109をおくこ
ともできる。
この実施例では、加熱部104のヒータの通電加熱で管
106か加熱されている。配管107から導入される一
酸化二窒素ガスは、管106の内壁の高温部と繰り返し
衝突し、分子の運動エネルギーを増し、第 (1)式の
ように解離反応をする。
106か加熱されている。配管107から導入される一
酸化二窒素ガスは、管106の内壁の高温部と繰り返し
衝突し、分子の運動エネルギーを増し、第 (1)式の
ように解離反応をする。
この反応で得られた原子状酸素は、窒素分子とともに開
口部103から真空装置101内へ放出される。
口部103から真空装置101内へ放出される。
第3図は、第2図の熱クラッキングセル102を用い、
固体サンプルを酸化させるための装置の構成例である。
固体サンプルを酸化させるための装置の構成例である。
201は原子状酸素を供給すべきサンプルである。11
0は前記熱クラッキングセル102に接続するフランジ
で、熱クラッキングセル102を機械的に支持し、ガス
および電流導大端子を有する。111は前記熱クラッキ
ングセル102の加熱用ヒータの電源および温度調節器
、112は一酸化二窒素ガスの流量を調節する流量調節
バルブで、管113から一酸化二窒素ガスが供給される
。114は、前記真空装置101の排気系である。
0は前記熱クラッキングセル102に接続するフランジ
で、熱クラッキングセル102を機械的に支持し、ガス
および電流導大端子を有する。111は前記熱クラッキ
ングセル102の加熱用ヒータの電源および温度調節器
、112は一酸化二窒素ガスの流量を調節する流量調節
バルブで、管113から一酸化二窒素ガスが供給される
。114は、前記真空装置101の排気系である。
次に、動作について説明する。
管113から供給される一酸化二窒素ガスは、流量調節
バルブ112で適正流量に調節されて、真空装置101
に取り付けられた熱クラッキングセル102に導入され
る。この熱クラッキングセル102内で、上記過程によ
り原子状酸素が生成される。
バルブ112で適正流量に調節されて、真空装置101
に取り付けられた熱クラッキングセル102に導入され
る。この熱クラッキングセル102内で、上記過程によ
り原子状酸素が生成される。
この原子状酸素のうち、サンプル201に到達したもの
はサンプル201上での酸化反応に寄与する。窒素分子
は、反応性に乏しいのでサンプル201にほとんど影響
を与えずに排気される。
はサンプル201上での酸化反応に寄与する。窒素分子
は、反応性に乏しいのでサンプル201にほとんど影響
を与えずに排気される。
以上の原子状酸素発生方法によってサンプル201が酸
化される。
化される。
具体例として、サンプル201にシリコン上に蒸着した
銀(Ag)の薄膜(厚さ120nm)を置き、熱クラッ
キングセル102への一酸化二窒素の流量を2 sec
mとし、配管107にはステンレスパイプを、熱クラッ
キングセル102とじで管106には高純度アルミナ管
を用い、その寸法を、例えば外径6mm、内径4mm、
長さ130mmとする。開口部103は直径約013m
mの小穴とし、管106の開口部103側から50mm
までを加熱部104のヒータで囲った。加熱部]04は
、白金ロジウム合金のコイル状ヒータと高純度アルミナ
管で構成した。
銀(Ag)の薄膜(厚さ120nm)を置き、熱クラッ
キングセル102への一酸化二窒素の流量を2 sec
mとし、配管107にはステンレスパイプを、熱クラッ
キングセル102とじで管106には高純度アルミナ管
を用い、その寸法を、例えば外径6mm、内径4mm、
長さ130mmとする。開口部103は直径約013m
mの小穴とし、管106の開口部103側から50mm
までを加熱部104のヒータで囲った。加熱部]04は
、白金ロジウム合金のコイル状ヒータと高純度アルミナ
管で構成した。
熱クラッキングセル102の温度を1200′Cに12
0分保ったところ、サンプル201の銀薄膜は酸化され
た。
0分保ったところ、サンプル201の銀薄膜は酸化され
た。
第4図(a)は、2.9MeVのHe++をサンプル2
01に垂直に入射し、入射ビームに対し170度の角度
に置かれた検出器で測定されたラブフォード後方散乱法
による測定結果である。同図の中で曲線aは、同図中破
線の長方形で囲まれた部分を縦方向に10倍に拡大した
図である。左から第1.第2のビークP、、P2がそれ
ぞれ酸素と銀の信号強度であり、この信号の強度から銀
薄膜のサンプル201に取り込まれた酸素原子の量は1
cm2当たり2×1017個である。これにより、毎秒
1 cm2当たり3 x l Q 13個の割合で膜に
○が取り込まれている。
01に垂直に入射し、入射ビームに対し170度の角度
に置かれた検出器で測定されたラブフォード後方散乱法
による測定結果である。同図の中で曲線aは、同図中破
線の長方形で囲まれた部分を縦方向に10倍に拡大した
図である。左から第1.第2のビークP、、P2がそれ
ぞれ酸素と銀の信号強度であり、この信号の強度から銀
薄膜のサンプル201に取り込まれた酸素原子の量は1
cm2当たり2×1017個である。これにより、毎秒
1 cm2当たり3 x l Q 13個の割合で膜に
○が取り込まれている。
第4図(b)は、He+“の入射エネルギーか酸素に共
鳴する3、05MeVにおけるラブフォード後方散乱法
による測定結果である。検出感度の低い酸素がこの入射
エネルギーでは強調されて測定される。ビークp3.p
4がそれぞれ酸素と銀の信号強度である。この結果から
も銀薄膜に酸素が取り込まれていることが分かる。
鳴する3、05MeVにおけるラブフォード後方散乱法
による測定結果である。検出感度の低い酸素がこの入射
エネルギーでは強調されて測定される。ビークp3.p
4がそれぞれ酸素と銀の信号強度である。この結果から
も銀薄膜に酸素が取り込まれていることが分かる。
また、サンプル201にシリコン上に蒸着した銅(Cu
)の薄膜(厚さ200 nm)を置き、上記と同じ条件
で行った実験でも、このサンプル201の銅薄刃莫は酸
化された。
)の薄膜(厚さ200 nm)を置き、上記と同じ条件
で行った実験でも、このサンプル201の銅薄刃莫は酸
化された。
第4図(c)は、第4図(a)と同様の条件で測定され
た酸化の程度を示すラブフォード後方散乱法による測定
結果である。左から第1 第2のビークP5.P、がそ
れぞれ酸素と銅の信号強度であり、この信号の強度から
銅薄膜に取り込まれた酸素原子の量は1cm2当たり8
×1016個である。これより、毎秒1 cm2当たり
lXl013(固の割合で銅薄膜にOが取り込まれてい
る。Siからの信号に重なってOの信号が見られ、この
信号の強度から表面の厚さ約60nmの部分に、Slと
○の原子数比1:0.3程度の酸化膜が確かに得られて
いることが分かる。
た酸化の程度を示すラブフォード後方散乱法による測定
結果である。左から第1 第2のビークP5.P、がそ
れぞれ酸素と銅の信号強度であり、この信号の強度から
銅薄膜に取り込まれた酸素原子の量は1cm2当たり8
×1016個である。これより、毎秒1 cm2当たり
lXl013(固の割合で銅薄膜にOが取り込まれてい
る。Siからの信号に重なってOの信号が見られ、この
信号の強度から表面の厚さ約60nmの部分に、Slと
○の原子数比1:0.3程度の酸化膜が確かに得られて
いることが分かる。
以上の説明から明らかなように、Ag、Cuともに02
では極めて酸化されにくい物質であることが一舷に公知
の事実として知られているか、この発明によれば十分に
酸化されていることが分かる。
では極めて酸化されにくい物質であることが一舷に公知
の事実として知られているか、この発明によれば十分に
酸化されていることが分かる。
第5図(a)〜(C)は、この発明に用いる熱クラッキ
ングセル102の変形実施例をそれぞれ示す。
ングセル102の変形実施例をそれぞれ示す。
第5図(a)の実施例では、熱クラッキングセル102
の中のガスの通り道である管106が複数のクラッキン
グパネル106Aを有する構造を持つ。この構造では、
第 (1)式の解離反応が低温においても起こるので、
特に高温のセルを真空装置101内に入れることが望ま
しくない時に有効である。
の中のガスの通り道である管106が複数のクラッキン
グパネル106Aを有する構造を持つ。この構造では、
第 (1)式の解離反応が低温においても起こるので、
特に高温のセルを真空装置101内に入れることが望ま
しくない時に有効である。
第5図(b)は管106と加熱部104を一体化した直
熱型のパイプ状ヒータ104Aからなる実施例である。
熱型のパイプ状ヒータ104Aからなる実施例である。
104a、104bはヒータ104Aに通電するための
電極であり、これらの電極104a、104b間に電圧
を印加する。この構造では、直熱型のため効率が優れて
いる。104Aの材料として、白金、白金ロジウム等を
使用すると、耐酸化性に優れているので、特に有効であ
る。
電極であり、これらの電極104a、104b間に電圧
を印加する。この構造では、直熱型のため効率が優れて
いる。104Aの材料として、白金、白金ロジウム等を
使用すると、耐酸化性に優れているので、特に有効であ
る。
第5図(c)の実施例では原子状酸素を取り出す開口部
が、面積の小さい小孔103Aの構造を持つ。この構造
では、小孔103Aにおけるコンダクタンスが小さいた
め、熱クラッキングセル102から原子状酸素が小さい
流量で取り出されるので、真空装置101内の圧力が低
い状態を保持できる。小孔103Aの口径は、直径0.
1〜4mmであると特に有効である。この場合、MBE
装置などの超高真空装置におてもこの発明が有効である
。
が、面積の小さい小孔103Aの構造を持つ。この構造
では、小孔103Aにおけるコンダクタンスが小さいた
め、熱クラッキングセル102から原子状酸素が小さい
流量で取り出されるので、真空装置101内の圧力が低
い状態を保持できる。小孔103Aの口径は、直径0.
1〜4mmであると特に有効である。この場合、MBE
装置などの超高真空装置におてもこの発明が有効である
。
第6図は、この発明をMBE法による酸化物超伝導体の
作製に適用した時の実施例である。301はM B E
”A置である。102はこの発明の熱クラッキングセ
ルである。302は酸化物超伝導体を構成する金属元素
の蒸発源である。また、20]は酸化物超伝導体薄膜を
成長すべきサンプルである。
作製に適用した時の実施例である。301はM B E
”A置である。102はこの発明の熱クラッキングセ
ルである。302は酸化物超伝導体を構成する金属元素
の蒸発源である。また、20]は酸化物超伝導体薄膜を
成長すべきサンプルである。
なお、この発明で得られる原子状酸素との被反応物であ
るサンプル201は、当該真空装置101内で使用可能
な物質であり、気相、液相、同相の何れかを問わない。
るサンプル201は、当該真空装置101内で使用可能
な物質であり、気相、液相、同相の何れかを問わない。
[発明の効果1
この発明は以上詳細に説明したように、−酸化窒素ガス
を、真空装置に設定された熱クランキングセルに導入し
、この熱クラッキングセル中で酸化二窒素を窒素分子と
原子状酸素とに解離させ、原子状酸素を取り出すように
したので、酸化物作製に一般的に広範囲に使用すること
ができるが、特に分子状酸素の供給では酸化作用か不十
分な銅や銀の酸化物作製に有効である。そして、この発
明の方法で得られる原子状酸素は、従来の方法に比べ有
害な副生成物が少ないので、窒化物等の目的外の物質を
作らずに、効率的な反応速度で酸化物を作製することが
できる。
を、真空装置に設定された熱クランキングセルに導入し
、この熱クラッキングセル中で酸化二窒素を窒素分子と
原子状酸素とに解離させ、原子状酸素を取り出すように
したので、酸化物作製に一般的に広範囲に使用すること
ができるが、特に分子状酸素の供給では酸化作用か不十
分な銅や銀の酸化物作製に有効である。そして、この発
明の方法で得られる原子状酸素は、従来の方法に比べ有
害な副生成物が少ないので、窒化物等の目的外の物質を
作らずに、効率的な反応速度で酸化物を作製することが
できる。
また、従来用いられた分子状酸素にはない原子状酸素の
もつ高い反応性により、効率的な酸化反応、つまり被酸
化物の酸化数を効率的に増加させる反応が実現できる。
もつ高い反応性により、効率的な酸化反応、つまり被酸
化物の酸化数を効率的に増加させる反応が実現できる。
酸化物超伝導体、例えば、La+ −xSrxCu20
<YBa2CuaOx、 YBa2Cu3Ox 、 B
1zSr2CuOx、 BLzSr2CaCu20x
、 BizSr2CazCu40.、 TIJazCa
CuzOx 。
<YBa2CuaOx、 YBa2Cu3Ox 、 B
1zSr2CuOx、 BLzSr2CaCu20x
、 BizSr2CazCu40.、 TIJazCa
CuzOx 。
TIJazCa2CuaO,、T1zBa2Ca3Cu
40xは、一般にその構成元素中に酸化されにくい元素
であるCuを含み、MBE法などにより結晶成長を行う
場合、結晶中へ酸素の供給を効率的に行う必要があるた
めに、この発明の原子状酸素発生方法は、酸化物超伝導
体の作製に特に有効である。
40xは、一般にその構成元素中に酸化されにくい元素
であるCuを含み、MBE法などにより結晶成長を行う
場合、結晶中へ酸素の供給を効率的に行う必要があるた
めに、この発明の原子状酸素発生方法は、酸化物超伝導
体の作製に特に有効である。
また、この発明の方法は、酸化物超伝導体の作製に限ら
ず、真空装置中での酸化物の作製、例λば、BaTiO
3,5rTi03. pb丁103等の誘電体の作製に
も有効である。
ず、真空装置中での酸化物の作製、例λば、BaTiO
3,5rTi03. pb丁103等の誘電体の作製に
も有効である。
さらに、従来用いられた分子状酸素にはない原子状酸素
のもつ高い反応性により、効率的な酸化反応、つまり被
酸化物の酸化数を効率的に増加させる反応が実現できる
。
のもつ高い反応性により、効率的な酸化反応、つまり被
酸化物の酸化数を効率的に増加させる反応が実現できる
。
第1図はこの発明の原子状酸素発生方法に用いる装置を
説明するための断面略図、第2図は、第1図の熱クラッ
キングセルの1つの実施例の断面略図、第3図は、第2
図の熱クラッキングセルを用い、固体サンプルを酸化さ
せるための装置の構成図、第4図(a)〜(c)は酸化
の程度を示すラブフォード後方散乱法による測定結果を
示す図、第5図(a)〜(c)はこの発明の基本実施要
素である熱クラッキングセルの変形実施例をそれぞれ示
す図、第6図はこの発明をMBE法による酸化物超伝導
体の作製に適用した場合の構成例を示す図である。 図中、 ○ は真空装置、 102は熱クラツキ ングセル、 O3は開口部、 O4は加熱部、 O5は開口部、 O6は管、 O7は配管、 O8は熱電対、 09は熱遮蔽板、 ○ はす 第 図 第 図 1tJL/ 館りラッ予〕りAzノ糾103j05間
ロ郡 ]06v# 107 配管 第 図 サシフ勺し 第 図(a> □士Vネル善号 第 図(C) 一チでネル番号 第 図(b) □テアネーレ番号 第 図 (a)
説明するための断面略図、第2図は、第1図の熱クラッ
キングセルの1つの実施例の断面略図、第3図は、第2
図の熱クラッキングセルを用い、固体サンプルを酸化さ
せるための装置の構成図、第4図(a)〜(c)は酸化
の程度を示すラブフォード後方散乱法による測定結果を
示す図、第5図(a)〜(c)はこの発明の基本実施要
素である熱クラッキングセルの変形実施例をそれぞれ示
す図、第6図はこの発明をMBE法による酸化物超伝導
体の作製に適用した場合の構成例を示す図である。 図中、 ○ は真空装置、 102は熱クラツキ ングセル、 O3は開口部、 O4は加熱部、 O5は開口部、 O6は管、 O7は配管、 O8は熱電対、 09は熱遮蔽板、 ○ はす 第 図 第 図 1tJL/ 館りラッ予〕りAzノ糾103j05間
ロ郡 ]06v# 107 配管 第 図 サシフ勺し 第 図(a> □士Vネル善号 第 図(C) 一チでネル番号 第 図(b) □テアネーレ番号 第 図 (a)
Claims (1)
- 一酸化二窒素ガスを、真空装置に設置された熱クラッキ
ングセルに導入し、この熱クラッキングセル中で一酸化
二窒素を窒素分子と原子状酸素とに解離させ、原子状酸
素を取り出すことを特徴とする原子状酸素発生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2178291A JPH0639321B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 原子状酸素発生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2178291A JPH0639321B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 原子状酸素発生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0465303A true JPH0465303A (ja) | 1992-03-02 |
| JPH0639321B2 JPH0639321B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=16045903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2178291A Expired - Lifetime JPH0639321B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 原子状酸素発生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0639321B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0691418A1 (en) * | 1994-07-04 | 1996-01-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Process for preparing high crystallinity oxide thin film |
| WO1996017803A1 (en) * | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Kao Corporation | Method of evolving negatively charged oxygen atoms and equipment therefor |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0215762A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-01-19 | Mitsubishi Electric Corp | 音声メール装置 |
| JPH03199108A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-08-30 | Toshiba Corp | 酸化物超電導体薄膜の製造方法 |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP2178291A patent/JPH0639321B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0215762A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-01-19 | Mitsubishi Electric Corp | 音声メール装置 |
| JPH03199108A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-08-30 | Toshiba Corp | 酸化物超電導体薄膜の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0691418A1 (en) * | 1994-07-04 | 1996-01-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Process for preparing high crystallinity oxide thin film |
| WO1996017803A1 (en) * | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Kao Corporation | Method of evolving negatively charged oxygen atoms and equipment therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0639321B2 (ja) | 1994-05-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |