JPH0466814A - エンコーダ - Google Patents
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- JPH0466814A JPH0466814A JP2179558A JP17955890A JPH0466814A JP H0466814 A JPH0466814 A JP H0466814A JP 2179558 A JP2179558 A JP 2179558A JP 17955890 A JP17955890 A JP 17955890A JP H0466814 A JPH0466814 A JP H0466814A
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/003—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring position, not involving coordinate determination
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- G—PHYSICS
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- G11B9/14—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using near-field interactions; Record carriers therefor using microscopic probe means, i.e. recording or reproducing by means directly associated with the tip of a microscopic electrical probe as used in Scanning Tunneling Microscopy [STM] or Atomic Force Microscopy [AFM] for inducing physical or electrical perturbations in a recording medium; Record carriers or media specially adapted for such transducing of information
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q70/00—General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
- G01Q70/06—Probe tip arrays
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q80/00—Applications, other than SPM, of scanning-probe techniques
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/86—Scanning probe structure
- Y10S977/874—Probe tip array
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49764—Method of mechanical manufacture with testing or indicating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49764—Method of mechanical manufacture with testing or indicating
- Y10T29/49771—Quantitative measuring or gauging
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
- Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、微小位置決め、寸法測長、測距、および速度
計測等における位置情報測定、特に原子オーダー（数人
）の分解能を必要とする計測制御に用いるエンコーダに
関する。
計測等における位置情報測定、特に原子オーダー（数人
）の分解能を必要とする計測制御に用いるエンコーダに
関する。
［従来技術］
従来、この種のエンコーダは、位置または角度に関する
情報を有する基準目盛と、これと相対的に移動して位置
または角度に関する情報を検出する検出手段とで構成さ
れていた。そして、このようなエンコーダは、その基準
目盛と検出手段によっていくつかのタイプに分類され、
例えば光学式エンコーダ、磁気式エンコーダ、静電容量
エンコーダ等があった。
情報を有する基準目盛と、これと相対的に移動して位置
または角度に関する情報を検出する検出手段とで構成さ
れていた。そして、このようなエンコーダは、その基準
目盛と検出手段によっていくつかのタイプに分類され、
例えば光学式エンコーダ、磁気式エンコーダ、静電容量
エンコーダ等があった。
また、原子オーダーの分解能を有するエンコーダには、
既に周知の、試料表面の情報を原子分解能で観察可能な
米国特許第４３４３９９３号記載の走査型トンネル顕微
鏡の基本原理を応用した、特開昭８２−２０９３０２号
公報記載の平行移動量検出装置があった。
既に周知の、試料表面の情報を原子分解能で観察可能な
米国特許第４３４３９９３号記載の走査型トンネル顕微
鏡の基本原理を応用した、特開昭８２−２０９３０２号
公報記載の平行移動量検出装置があった。
従来、このようなエンコーダには長さに関する基準とな
る目盛と、この目盛に近接して設けられている探針とか
具備されており、駆動機構を備えた基準目盛と探針との
間に流れるトンネル電流を信号源とし、その情報を信号
処理してエンコードする機能がある。
る目盛と、この目盛に近接して設けられている探針とか
具備されており、駆動機構を備えた基準目盛と探針との
間に流れるトンネル電流を信号源とし、その情報を信号
処理してエンコードする機能がある。
上記エンコーダのトンネル電流を検知する探針は、既に
周知の電解研摩法を用いて、先鋭な針を作製し用いるの
が一般的であった。他には、機械研摩を用いる方法等が
あった。
周知の電解研摩法を用いて、先鋭な針を作製し用いるの
が一般的であった。他には、機械研摩を用いる方法等が
あった。
［発明が解決しようとする課題］
しかしなから、トンネル電流を検出する原子オーターの
先鋭さを有する探針の機能は、エンコーダの核となる部
分で、この探針の性能は、直接エンコーダの性能にかか
わってくるものであるが、基準目盛と探針との間に流れ
るｐＡ〜ｎＡオーターのトンネル電流を制御し検知する
のに、前記基準目盛と探針との距離を数ｎｍの非常に近
接した状態にする必要かあり、音響振動や床振動により
接触するという可能性が生じ、探針先端部か損傷して原
子分解能を持たない探針となり、原子オーダーの測長が
で鮒なくなってしまうという問題点を有していた。
先鋭さを有する探針の機能は、エンコーダの核となる部
分で、この探針の性能は、直接エンコーダの性能にかか
わってくるものであるが、基準目盛と探針との間に流れ
るｐＡ〜ｎＡオーターのトンネル電流を制御し検知する
のに、前記基準目盛と探針との距離を数ｎｍの非常に近
接した状態にする必要かあり、音響振動や床振動により
接触するという可能性が生じ、探針先端部か損傷して原
子分解能を持たない探針となり、原子オーダーの測長が
で鮒なくなってしまうという問題点を有していた。
本発明は、上記従来例における問題点に鑑みてなされた
もので、より高い安定性で位置情報測定が可能なエンコ
ーダを提供することを目的とする。
もので、より高い安定性で位置情報測定が可能なエンコ
ーダを提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段および作用］上記課題を解
決するため、本発明のエンコーダは、長さに関する基準
となる基準目盛面に先端を近つけて配置された探針と、
該基準目盛の目盛情報を該探針を介して検出する手段と
、該検出手段の検出結果に基づき該基準目盛と該探針の
横方向相対変位量を計数する手段とを具備したエンコー
ダにおいて、前記探針および検出手段を複数組設け、か
つ各探針のエンコーダとしての探針性能を検査する探針
性能検査手段を設けたことを特徴とする。
決するため、本発明のエンコーダは、長さに関する基準
となる基準目盛面に先端を近つけて配置された探針と、
該基準目盛の目盛情報を該探針を介して検出する手段と
、該検出手段の検出結果に基づき該基準目盛と該探針の
横方向相対変位量を計数する手段とを具備したエンコー
ダにおいて、前記探針および検出手段を複数組設け、か
つ各探針のエンコーダとしての探針性能を検査する探針
性能検査手段を設けたことを特徴とする。
［作用〕
本発明によれは、トンネル電流検知用の導電性探針を複
数個設けたことによって、１つの探針が損傷を受けても
他のトンネル電流検知用探針を用いてそのままニンコー
ディングを行なうことか可能である。
数個設けたことによって、１つの探針が損傷を受けても
他のトンネル電流検知用探針を用いてそのままニンコー
ディングを行なうことか可能である。
したかって、本発明によれば、トンネル電流検知用探針
か１つしかない従来のエンコーダよりも高安定な位置情
報計測を行なうことかできる。
か１つしかない従来のエンコーダよりも高安定な位置情
報計測を行なうことかできる。
［実施例］
第１図は、本発明の一実施例に係るエンコーダの構成を
示し、第２図は、第１図における信号処理回路Ａと信号
処理回路Ｂに共通のブロック回路構成を示す。
示し、第２図は、第１図における信号処理回路Ａと信号
処理回路Ｂに共通のブロック回路構成を示す。
第１図において、対象物１０１と対象物１０２は、相対
的に横方向（紙面的左右の方向）にのみ移動できるよう
に設置されている。
的に横方向（紙面的左右の方向）にのみ移動できるよう
に設置されている。
対象物１０１には、２つの探針１１ａおよび１１ｂか設
けられており、各探針１１ａ、ｌｌｂの表面には、探針
被覆材料１２ａおよび１２ｂと微小突起（微小突起の形
成方法については後述する）１３ａおよび１３ｂがそれ
ぞれに設けられている。対象物１０２には、それぞれ試
料台回転機構１９ａおよび１９ｂによって回転される試
料台１８ａおよび１８ｂ上に、基準目盛１５ａおよび１
５ｂと探針再生用電極１４ａおよび１４ｂが設置されて
いる。探針１１ａ、１１ｂの先端部に形成された微小突
起１３ａ、１３ｂの先端と基準目盛１５ａ、１５ｂとの
間には、バイアス電源２１ａ、２１ｂによってバイアス
電圧か加えられている。微小突起１３ａ、１３ｂの先端
と基準目盛１５ａ、１５ｂとは、それらの間にトンネル
電流ｆｏａ、１０ｂが流れる程度まで近づけらねでいる
。
けられており、各探針１１ａ、ｌｌｂの表面には、探針
被覆材料１２ａおよび１２ｂと微小突起（微小突起の形
成方法については後述する）１３ａおよび１３ｂがそれ
ぞれに設けられている。対象物１０２には、それぞれ試
料台回転機構１９ａおよび１９ｂによって回転される試
料台１８ａおよび１８ｂ上に、基準目盛１５ａおよび１
５ｂと探針再生用電極１４ａおよび１４ｂが設置されて
いる。探針１１ａ、１１ｂの先端部に形成された微小突
起１３ａ、１３ｂの先端と基準目盛１５ａ、１５ｂとの
間には、バイアス電源２１ａ、２１ｂによってバイアス
電圧か加えられている。微小突起１３ａ、１３ｂの先端
と基準目盛１５ａ、１５ｂとは、それらの間にトンネル
電流ｆｏａ、１０ｂが流れる程度まで近づけらねでいる
。
ここで、２つの微小突起１３ａ、１３ｂから流れるトン
ネル電流１０ａ、１０ｂは、それぞれ信号処理回路Ａと
信号処理回路Ｂに入り、第２図に示す電流電圧変換回路
１０７によって電圧に変換され、増幅回路１０８によっ
て増幅された後、対数変換回路１０９によって対数変換
される。
ネル電流１０ａ、１０ｂは、それぞれ信号処理回路Ａと
信号処理回路Ｂに入り、第２図に示す電流電圧変換回路
１０７によって電圧に変換され、増幅回路１０８によっ
て増幅された後、対数変換回路１０９によって対数変換
される。
また、２つの探針１１ａ、Ｉｌｂは、探針振動手段１１
０ａ、１１０ｂによって、対象物１０１と対象物１０２
の相対移動方向に振動数ｆ、振幅ｄて振動する。探針振
動信号は、発振器１１１から出力される振動数ｎｆの矩
形波２ａを分周回路１１２および波形変換回路１１２ａ
、１２ｂによって振動数ｆの三角波に変換したものて、
増幅器１１４によって増幅後（信号２ｃ）、探針振動手
段１１０ａ、１１０ｂに加えられる。ここで、探針１１
ａ、１１ｂを振動させる代わりに、基準目盛振動手段を
対象物１０２に設け、基準目盛１５ａ、１５ｂを振動さ
せてもよい。
０ａ、１１０ｂによって、対象物１０１と対象物１０２
の相対移動方向に振動数ｆ、振幅ｄて振動する。探針振
動信号は、発振器１１１から出力される振動数ｎｆの矩
形波２ａを分周回路１１２および波形変換回路１１２ａ
、１２ｂによって振動数ｆの三角波に変換したものて、
増幅器１１４によって増幅後（信号２ｃ）、探針振動手
段１１０ａ、１１０ｂに加えられる。ここで、探針１１
ａ、１１ｂを振動させる代わりに、基準目盛振動手段を
対象物１０２に設け、基準目盛１５ａ、１５ｂを振動さ
せてもよい。
ざらに、対象物１０１と対象物１０２が横方向に相対移
動する際、探針と基準目盛の平均間隔が一定となるよう
に（検知トンネル電流の平均値が一定となるように）、
対数変換回路１０９からの出力信号を検知し、平均トン
ネル電流値設定回路１１５、ローパスフィルタ１１６、
および増幅回路１１７によってフィート・ハックループ
を形成し、探針縦方向位首制御手段１７ａ、１７ｂによ
って探針と基準目盛の間隔を制御する。このとき、ロー
パスフィルタ１１５のカットオフ周波数は、基準目盛上
を探針か横方向に振動することによって生ずるトンネル
電流の速い変調成分を取り除き、対象物１０１と対象物
１０２か横方向に相対移動する際、基準目盛の傾き等に
よるトンネル電流のゆっくりとした変化分を通すように
選ぶ。
動する際、探針と基準目盛の平均間隔が一定となるよう
に（検知トンネル電流の平均値が一定となるように）、
対数変換回路１０９からの出力信号を検知し、平均トン
ネル電流値設定回路１１５、ローパスフィルタ１１６、
および増幅回路１１７によってフィート・ハックループ
を形成し、探針縦方向位首制御手段１７ａ、１７ｂによ
って探針と基準目盛の間隔を制御する。このとき、ロー
パスフィルタ１１５のカットオフ周波数は、基準目盛上
を探針か横方向に振動することによって生ずるトンネル
電流の速い変調成分を取り除き、対象物１０１と対象物
１０２か横方向に相対移動する際、基準目盛の傾き等に
よるトンネル電流のゆっくりとした変化分を通すように
選ぶ。
探針振動手段１１０ａ、１１０ｂによる探針の振動によ
って、探針−基準目盛間に流れるトンネル電流１０ａ、
１０ｂには探針か基準目盛上を走査することによる周波
数（２ｄ／ｐ）ｆの変調成分か現われる（ｐは基準目盛
間隔）。ここで、対象物１０１と対象物１０２が相対的
に横方向に移動すると、上記トンネル電流１０ａ、ｊｏ
ｂに現われる周波数（２ｄ／ｐ）ｆの変調成分か基準信
号（例えば、探針振動信号）に対して位相ずれを起こす
。信号の１周朋（２πの位相ずれ）が基準目盛１目盛分
の探針と基準目盛との相対横ずれに対応しているので、
この位相ずれを検知することにより対象物１０１と対象
物１０２の相対的横方向移動量を検知することができる
。
って、探針−基準目盛間に流れるトンネル電流１０ａ、
１０ｂには探針か基準目盛上を走査することによる周波
数（２ｄ／ｐ）ｆの変調成分か現われる（ｐは基準目盛
間隔）。ここで、対象物１０１と対象物１０２が相対的
に横方向に移動すると、上記トンネル電流１０ａ、ｊｏ
ｂに現われる周波数（２ｄ／ｐ）ｆの変調成分か基準信
号（例えば、探針振動信号）に対して位相ずれを起こす
。信号の１周朋（２πの位相ずれ）が基準目盛１目盛分
の探針と基準目盛との相対横ずれに対応しているので、
この位相ずれを検知することにより対象物１０１と対象
物１０２の相対的横方向移動量を検知することができる
。
以下、第３図および第４図を用いて第２図の信号処理回
路の動作を説明する。
路の動作を説明する。
トンネル電流に現われる周波数（２ｄ／ｐ）ｆの変調成
分は、電流電圧変換回路１０７、増幅回路１０８、対数
変換回路１０９、およびバントパスフィルタ１１８を経
て取り出され（図中、２ｄ）、二値化回路１１９によっ
て二値化された後、信号２ｅとなる。ここで、ｄ ＝
２ ｐ ／ ｎとなるように探針振動手段１１０ （１
１０ａ、１１０ｂ）に加える探針振動信号２Ｃの振幅（
増幅回路１１４のゲイン）を調整し、信号２ｅの周波数
をｎｆに一致させる。さらに発振器１１１からの信号２
ａを分周回路１１２によって周波数を１ ／ ｎに分周
した信号２ｂを参照信号として、信号２ｅをアナログス
イッチ１２０によって２つの信号２ｆと２ｇに分離する
。
分は、電流電圧変換回路１０７、増幅回路１０８、対数
変換回路１０９、およびバントパスフィルタ１１８を経
て取り出され（図中、２ｄ）、二値化回路１１９によっ
て二値化された後、信号２ｅとなる。ここで、ｄ ＝
２ ｐ ／ ｎとなるように探針振動手段１１０ （１
１０ａ、１１０ｂ）に加える探針振動信号２Ｃの振幅（
増幅回路１１４のゲイン）を調整し、信号２ｅの周波数
をｎｆに一致させる。さらに発振器１１１からの信号２
ａを分周回路１１２によって周波数を１ ／ ｎに分周
した信号２ｂを参照信号として、信号２ｅをアナログス
イッチ１２０によって２つの信号２ｆと２ｇに分離する
。
また、信号２ｂを参照信号として、信号２ａをアナログ
スイッチ１２１によりて２つの信号２ｈと２１に分離す
る。
スイッチ１２１によりて２つの信号２ｈと２１に分離す
る。
ここて、信号２ｆと信号２ｈとを位相比較器１２２に入
力し、位相差出力信号２ｊを平均化回路１２３によって
平均化し信号２ｋを得る。さらに位相差が２ｎπ（ｎ
整数）となるごとに、例えば位相差出力信号２ｋ（３ａ
）のゼロ・クロス点を二値化回路１２４によって検知し
、パルスを発生させ（信号３ｂ）、アップ・ダウンカウ
ンタ１２５でパルス数を計数することにより、信号２ｆ
と信号２ｈの相対位相ずれを検知することができる。
力し、位相差出力信号２ｊを平均化回路１２３によって
平均化し信号２ｋを得る。さらに位相差が２ｎπ（ｎ
整数）となるごとに、例えば位相差出力信号２ｋ（３ａ
）のゼロ・クロス点を二値化回路１２４によって検知し
、パルスを発生させ（信号３ｂ）、アップ・ダウンカウ
ンタ１２５でパルス数を計数することにより、信号２ｆ
と信号２ｈの相対位相ずれを検知することができる。
このとき、カウンタ１２５に人力する位相ずれ方向信号
すなわち、アップ・ダウン条件（符号）は次にようにし
て求める。発振器１１１からの出力信号２ａから位相シ
フタ１２６、およびアナログスイッチ１２７を用いて信
号２ｈに対して位相が９０°ずれた信号２ｊ２を生成す
る。信号２ｆと信号２ｋを位相比較器１２８に人力し、
位相差出力信号２ｍを平均化回路１２９によって平均化
し、信号２ｎ（３ｄ）を得る。さらに信号３ｄをｍ個化
回路１２ａ、１２ｂＯによって二値化して位相ずれ方向
信号すなわち、アップダウンカウンタ入力アップダウン
信号３ｅとする。
すなわち、アップ・ダウン条件（符号）は次にようにし
て求める。発振器１１１からの出力信号２ａから位相シ
フタ１２６、およびアナログスイッチ１２７を用いて信
号２ｈに対して位相が９０°ずれた信号２ｊ２を生成す
る。信号２ｆと信号２ｋを位相比較器１２８に人力し、
位相差出力信号２ｍを平均化回路１２９によって平均化
し、信号２ｎ（３ｄ）を得る。さらに信号３ｄをｍ個化
回路１２ａ、１２ｂＯによって二値化して位相ずれ方向
信号すなわち、アップダウンカウンタ入力アップダウン
信号３ｅとする。
このようにして、対象物１０１と対象物１０２の横方向
相対移動量を検知することかできる。この相対移動量信
号３ｃは、各信号処理回路ＡおよびＢからそれぞれエン
コーダ出力ａおよびｂとして送出される。２つの信号ａ
、ｂが共に正常に出ている時は、信号ａを優先し、信号
ａのみから測長値を出すようにする。この代りに２つの
信号ａ、ｂの平均値を出しこれから測長値を出す様にし
ても良い。
相対移動量を検知することかできる。この相対移動量信
号３ｃは、各信号処理回路ＡおよびＢからそれぞれエン
コーダ出力ａおよびｂとして送出される。２つの信号ａ
、ｂが共に正常に出ている時は、信号ａを優先し、信号
ａのみから測長値を出すようにする。この代りに２つの
信号ａ、ｂの平均値を出しこれから測長値を出す様にし
ても良い。
なお、この実施例による方式では、位相ずれ１周期分（
２π）が、基準目盛１目盛分の相対移動量に対応してい
る。また、この実施例中では触れなかったが、信号２ｇ
と２１についても同様の信号処理を行なって相対移動量
を検知することかできる。
２π）が、基準目盛１目盛分の相対移動量に対応してい
る。また、この実施例中では触れなかったが、信号２ｇ
と２１についても同様の信号処理を行なって相対移動量
を検知することかできる。
次に第１図のエンコーダ出力ａとエンコーダ出力すの信
号を比較する。第５図に、信号処理回路Ａと信号処理回
路Ｂ内の各信号３ａ、３ｅ、３ｃの波形を示す。微小突
起１３ａおよび１３ｂに対向した位置に設けられている
基準目盛１５ａおよび１５ｂには同一の基準目盛を用い
た。したかって、エンコーダ出力ａおよびｂは、同一波
形となるはすであるが、第５図において両者の波形を比
較してみると、信号処理回路ＢのＸ位置で信号に非周期
性か現われていることがわかる。こねは、信号処理回路
ＢのＸの位置で、微小突起１３ｂの先端か、接触による
損傷等の影響で、原子分解能を有する本実施例のエンコ
ーダ用探針としては不適当なものになってしまったもの
である。
号を比較する。第５図に、信号処理回路Ａと信号処理回
路Ｂ内の各信号３ａ、３ｅ、３ｃの波形を示す。微小突
起１３ａおよび１３ｂに対向した位置に設けられている
基準目盛１５ａおよび１５ｂには同一の基準目盛を用い
た。したかって、エンコーダ出力ａおよびｂは、同一波
形となるはすであるが、第５図において両者の波形を比
較してみると、信号処理回路ＢのＸ位置で信号に非周期
性か現われていることがわかる。こねは、信号処理回路
ＢのＸの位置で、微小突起１３ｂの先端か、接触による
損傷等の影響で、原子分解能を有する本実施例のエンコ
ーダ用探針としては不適当なものになってしまったもの
である。
この際の探針性能の良否は第２図の探針性能検査回路２
００内で判定される。検査するための回路構成について
は、探針１０４から検知されるトンネル電流の変化を、
電流電圧変換回路１０７、増幅回路１０８、および対数
変換回路１０９により電気信号に変換し、バントパスフ
ィルタ２０１で、対数変換回路１０９の出力信号に乗っ
て来る周波数（２ｄ／ｐ）ｆ＋の変調成分を取り比し、
全波整流回路２０２により整流し、積分回路２０３て平
均化し、この平均化信号を、比較器２０４で基準電源２
０５から出力される予め設定、された探針性能の基準と
なる信号すなわち、針が正常な場合には変調成分信号の
平均値は一定値になるので、この値と同し値に設定され
た信号とを比較する。針が損傷した場合には変調成分を
含め検出信号全体か０あるいは微弱となるので、変調成
分信号の平均値は基￥信号に比へ減少する。この変化を
比較器により検出することにより、探針性能の良否を決
定し、検査出力とする。この検査出力から、微小突起１
３ （１３ａ、 １３ｂ）先端の損傷を判断すること
かできる。
００内で判定される。検査するための回路構成について
は、探針１０４から検知されるトンネル電流の変化を、
電流電圧変換回路１０７、増幅回路１０８、および対数
変換回路１０９により電気信号に変換し、バントパスフ
ィルタ２０１で、対数変換回路１０９の出力信号に乗っ
て来る周波数（２ｄ／ｐ）ｆ＋の変調成分を取り比し、
全波整流回路２０２により整流し、積分回路２０３て平
均化し、この平均化信号を、比較器２０４で基準電源２
０５から出力される予め設定、された探針性能の基準と
なる信号すなわち、針が正常な場合には変調成分信号の
平均値は一定値になるので、この値と同し値に設定され
た信号とを比較する。針が損傷した場合には変調成分を
含め検出信号全体か０あるいは微弱となるので、変調成
分信号の平均値は基￥信号に比へ減少する。この変化を
比較器により検出することにより、探針性能の良否を決
定し、検査出力とする。この検査出力から、微小突起１
３ （１３ａ、 １３ｂ）先端の損傷を判断すること
かできる。
第７図は、この損傷情報に基づいて各部の制御を行なう
シーケンス制御回路とその周辺部材の信号の流わを説明
するブロック構成図である。同図において、３０１はシ
ーケンス制御回路、３０４は信号処理回路Ａ、Ｂそれぞ
れからのエンコーダ出力ａ、ｂのいずれかのみを出力す
るようスイッチングするアナログスイッチである。シー
ケンス制御回路３０１は、各信号／Ａ埋四回路らの検査
出力信号を取り込み、いずれの突起にも損傷かない場合
および突起１３ｂに損傷があると判断された場合にはス
イッチ３０４にエンコーダ出力ａを出力させ、突起１３
ａに損傷かあると判断された場合にはエンコーダ出力す
を出力させるように制御する。シーケンス制御回路３０
１は、また、図中の他の要素に後述する制御を行なうた
めに指令信号を発生する。
シーケンス制御回路とその周辺部材の信号の流わを説明
するブロック構成図である。同図において、３０１はシ
ーケンス制御回路、３０４は信号処理回路Ａ、Ｂそれぞ
れからのエンコーダ出力ａ、ｂのいずれかのみを出力す
るようスイッチングするアナログスイッチである。シー
ケンス制御回路３０１は、各信号／Ａ埋四回路らの検査
出力信号を取り込み、いずれの突起にも損傷かない場合
および突起１３ｂに損傷があると判断された場合にはス
イッチ３０４にエンコーダ出力ａを出力させ、突起１３
ａに損傷かあると判断された場合にはエンコーダ出力す
を出力させるように制御する。シーケンス制御回路３０
１は、また、図中の他の要素に後述する制御を行なうた
めに指令信号を発生する。
測長け、微小突起１３ａと基準目盛１５ａとの間で途切
れずに行なわれているが、いつ、探針１１ａの先端部が
損傷するかわからないため、既に損傷したもう一方の微
小突起１３ｂを再形成しておく必要かある。
れずに行なわれているが、いつ、探針１１ａの先端部が
損傷するかわからないため、既に損傷したもう一方の微
小突起１３ｂを再形成しておく必要かある。
再形成を行なうための操作（シーケンス制御回路３０１
による制御）を以下に述べる。本実施例では、微小突起
１３ｂ先端部が損傷を受けているので、第１口紙面内左
側の再形成機構を用いた。
による制御）を以下に述べる。本実施例では、微小突起
１３ｂ先端部が損傷を受けているので、第１口紙面内左
側の再形成機構を用いた。
第１口紙面内右側のエンコーダ機構はそのまま測長を続
けてもよい。まず、微小突起１３ｂと基準目盛１５ｂは
、トンネル電流が流れる距離という、かなり近接した状
態にあるのて、探針縦方向位置制御手段１７ｂを用いて
、探針１１ｂを基準目盛１５ｂから待避させる。そして
、基準目盛１５ｂと探針再生用電極１４ｂが設置された
試料台＋６ｂを試料台回転機構１９ｂと回転機構位置制
御手段３３ｂを用いて１８０°回転させ、微小突起１３
ｂの対向位置に探針再生用電極１４ｂかくるように調整
する。待避させておいた微小突起１３ｂを先端部にもっ
探針１１ｂを探針再生用電極１４ｂにトンネル電流か流
れる距離まて接近させる。そして、パルス電源２２ｂを
用いて微小突起１３ｂを再形成する。こねて、微４ｚ突
起を再形成することができたので微小突起１３ｂを待避
させ、微小突起１３ｂの対向位置に基準目盛ｆ５ｂかく
るように調整し、基準目盛１５ｂにトンネル電流が流れ
る距離まで微小突起１３ｂを接近させる。以上の操作に
より、損傷した探針先端を再形成することが可能である
。微小突起１３ａに損傷か発生した場合にはスイッチ３
０４を切り換えて、突起１３ａ側で同様の処理を行なう
。以上のシーケンス制御回路３０１の制御のフローチャ
トを第８図に示す。
けてもよい。まず、微小突起１３ｂと基準目盛１５ｂは
、トンネル電流が流れる距離という、かなり近接した状
態にあるのて、探針縦方向位置制御手段１７ｂを用いて
、探針１１ｂを基準目盛１５ｂから待避させる。そして
、基準目盛１５ｂと探針再生用電極１４ｂが設置された
試料台＋６ｂを試料台回転機構１９ｂと回転機構位置制
御手段３３ｂを用いて１８０°回転させ、微小突起１３
ｂの対向位置に探針再生用電極１４ｂかくるように調整
する。待避させておいた微小突起１３ｂを先端部にもっ
探針１１ｂを探針再生用電極１４ｂにトンネル電流か流
れる距離まて接近させる。そして、パルス電源２２ｂを
用いて微小突起１３ｂを再形成する。こねて、微４ｚ突
起を再形成することができたので微小突起１３ｂを待避
させ、微小突起１３ｂの対向位置に基準目盛ｆ５ｂかく
るように調整し、基準目盛１５ｂにトンネル電流が流れ
る距離まで微小突起１３ｂを接近させる。以上の操作に
より、損傷した探針先端を再形成することが可能である
。微小突起１３ａに損傷か発生した場合にはスイッチ３
０４を切り換えて、突起１３ａ側で同様の処理を行なう
。以上のシーケンス制御回路３０１の制御のフローチャ
トを第８図に示す。
以上説明したように、この実施例によると、損傷した探
針を再形成することが可能であり、かつ再形成している
間は、もう一方の探針が測長を継続しているため、測長
を正確に行なうことか可能となり、装置の信頓性が大き
く向上したエンコーダを提供することができた。
針を再形成することが可能であり、かつ再形成している
間は、もう一方の探針が測長を継続しているため、測長
を正確に行なうことか可能となり、装置の信頓性が大き
く向上したエンコーダを提供することができた。
以下に実施例に使用した、微小突起１３（１３ａまたは
１３ｂ）の形成方法を第１図と第６図を用いて詳細に説
明する。
１３ｂ）の形成方法を第１図と第６図を用いて詳細に説
明する。
本発明に係る探針再生用電極１４（１４ａ１４ｂ）の材
料には、白金蒸着膜を用いた。この白金膜は、コーニン
グ社製の７０５９力゛ラス基板上にイオンビームスパッ
タ装置を用いて蒸着した。探針１１ （ｌｌａ、ｊｌ
ｂ）の材料には、タングステンを用いた。タングステン
探針を尖鋭化するために、−船釣な電解研摩法を用いて
作製した。電解研摩により作製した探針１１の先端曲率
半径は、０１マイクロメートル程度であった。
料には、白金蒸着膜を用いた。この白金膜は、コーニン
グ社製の７０５９力゛ラス基板上にイオンビームスパッ
タ装置を用いて蒸着した。探針１１ （ｌｌａ、ｊｌ
ｂ）の材料には、タングステンを用いた。タングステン
探針を尖鋭化するために、−船釣な電解研摩法を用いて
作製した。電解研摩により作製した探針１１の先端曲率
半径は、０１マイクロメートル程度であった。
さらに、作製した探針１１の先端部分に、イオンビーム
スパッタ装置を用いて金を１５ナノメートル程度被覆し
た。上述の探針１１の先端部分と探針再生用電極１４と
の間の距離は、トンネル電流か流れる距離まで近接して
いる。この状態でパルス電源２２ａ、２２ｂから、パル
ス巾４マイクロセカンド、パルス高さ４ホルトの条件値
を探針１１と探針再生用電極１４との間に印加し、第６
図（ｂ）に示すような微小突起１３（１３８゜１３ｂ）
を形成した。形成された微小突起１３の大きさおよび形
状は高さ１０ナツメートル、底面積１５平方ナツメート
ルの円錐状のものであった。この微小突起か形成される
メカニズムとしては、高パルス電圧印加により局所的に
瞬時に材料か熔融し、かつ電界が探針と試料間に生して
いるため、溶融した材料は、探針−試料間で引っ張り合
う力が生し、突起状の山か形成されるものと考えている
。したかって、前述の探針材料、探針被覆材料、および
探針再生用電極の材料は、上述した材料に限定されるも
のではなく、適宜選択することができるか、探針再生用
電極よりも探針側の材料の方か低融点であることか必要
となる。
スパッタ装置を用いて金を１５ナノメートル程度被覆し
た。上述の探針１１の先端部分と探針再生用電極１４と
の間の距離は、トンネル電流か流れる距離まで近接して
いる。この状態でパルス電源２２ａ、２２ｂから、パル
ス巾４マイクロセカンド、パルス高さ４ホルトの条件値
を探針１１と探針再生用電極１４との間に印加し、第６
図（ｂ）に示すような微小突起１３（１３８゜１３ｂ）
を形成した。形成された微小突起１３の大きさおよび形
状は高さ１０ナツメートル、底面積１５平方ナツメート
ルの円錐状のものであった。この微小突起か形成される
メカニズムとしては、高パルス電圧印加により局所的に
瞬時に材料か熔融し、かつ電界が探針と試料間に生して
いるため、溶融した材料は、探針−試料間で引っ張り合
う力が生し、突起状の山か形成されるものと考えている
。したかって、前述の探針材料、探針被覆材料、および
探針再生用電極の材料は、上述した材料に限定されるも
のではなく、適宜選択することができるか、探針再生用
電極よりも探針側の材料の方か低融点であることか必要
となる。
なお、上記実施例において、探針再形成のためのパルス
高さおよびパルス巾を特定して実施したが、探針側の材
料および探針再生用電極の材料により適切な値を設定し
て実施できるものであり、なんら本実施例の条件値に限
るものでない。
高さおよびパルス巾を特定して実施したが、探針側の材
料および探針再生用電極の材料により適切な値を設定し
て実施できるものであり、なんら本実施例の条件値に限
るものでない。
［発明の効果コ
以上説明したように、本発明のエンコーダは、マルチの
エンコードかできる機構にしたことにより、エンコーデ
ィング中に１つのトンネル電流検知用探針が損傷を受け
て、正確なエンコードが出来なくなったときは、他のト
ンネル電流検知用探針によるエンコーディングを継続し
て行なうことかできるため、長時間のエンコーディング
を安定して行なえるようになった。すなわち、本発明に
よれは、従来のエンコーダよりもさらに長期に渡り安定
なエンコーダを提供できた。
エンコードかできる機構にしたことにより、エンコーデ
ィング中に１つのトンネル電流検知用探針が損傷を受け
て、正確なエンコードが出来なくなったときは、他のト
ンネル電流検知用探針によるエンコーディングを継続し
て行なうことかできるため、長時間のエンコーディング
を安定して行なえるようになった。すなわち、本発明に
よれは、従来のエンコーダよりもさらに長期に渡り安定
なエンコーダを提供できた。
第１図は、本発明の一実施例に係る、複数のトンネル電
流検知によるエンコーダの構成図、第２図は、第１図に
おける信号処理回路部分のブロック構成図、 第３図、第４図および第５図は、信号処理回路においで
得られる信号を示す波形図、 第６図は、本実施例の探針形成の基本原理図、第７図は
、シーケンス制御回路周辺のブロック構成図、そして 第８図は、シーケンス制御回路の制御フローチャートで
ある。 ０ａ １２ 、 １ １３ 、 １ １４ 、 １ ５ａ １６ ａ 。 １７ ａ 。 １ａ ２ａ ３ａ １０ｂ：トンネル電流 １ａ、１１ｂ：探針 ２ａ、１２ｂ：探針被覆材料 ３ａ、１３ｂ：微小突起 ４ａ、１４ｂ・探針再生用電極 １５ｂ 基準目盛 １６ｂ：試料台 １７ｂ：探針縦方向位置制御手段 ２１ｂ バイアス電源 ２２ｂ、パルス電源 ３３ｂ：回転機構位置制御手段 １２６、ローパスフィルタ １２７ 増幅回路、 １２８・バンドパスフィルタ １２９、二値化回路 １２０ アナログスイッチ １２１ アナログスイッチ １２２：位相比較器 １２３：平均化回路 １２４、二値化回路 １２５ニアツブ・ダウンカウンタ １２６：位相シフタ １２７ アナログスイッチ １２８、位相比較器 １２９・平均化回路 １３０．１３０：二値化回路 ２００、探針性能検査回路 ２０４ 比較器 ２０５°基準電源 ３０１ シーケンス制御回路 ２ｄ■”・− 第３図 第 図
流検知によるエンコーダの構成図、第２図は、第１図に
おける信号処理回路部分のブロック構成図、 第３図、第４図および第５図は、信号処理回路においで
得られる信号を示す波形図、 第６図は、本実施例の探針形成の基本原理図、第７図は
、シーケンス制御回路周辺のブロック構成図、そして 第８図は、シーケンス制御回路の制御フローチャートで
ある。 ０ａ １２ 、 １ １３ 、 １ １４ 、 １ ５ａ １６ ａ 。 １７ ａ 。 １ａ ２ａ ３ａ １０ｂ：トンネル電流 １ａ、１１ｂ：探針 ２ａ、１２ｂ：探針被覆材料 ３ａ、１３ｂ：微小突起 ４ａ、１４ｂ・探針再生用電極 １５ｂ 基準目盛 １６ｂ：試料台 １７ｂ：探針縦方向位置制御手段 ２１ｂ バイアス電源 ２２ｂ、パルス電源 ３３ｂ：回転機構位置制御手段 １２６、ローパスフィルタ １２７ 増幅回路、 １２８・バンドパスフィルタ １２９、二値化回路 １２０ アナログスイッチ １２１ アナログスイッチ １２２：位相比較器 １２３：平均化回路 １２４、二値化回路 １２５ニアツブ・ダウンカウンタ １２６：位相シフタ １２７ アナログスイッチ １２８、位相比較器 １２９・平均化回路 １３０．１３０：二値化回路 ２００、探針性能検査回路 ２０４ 比較器 ２０５°基準電源 ３０１ シーケンス制御回路 ２ｄ■”・− 第３図 第 図
Claims (5)
- （１）長さに関する基準となる基準目盛に先端を近づけ
て配置された探針と、該基準目盛の目盛情報を該探針を
介して検出する手段と、該検出手段の検出結果に基づき
該基準目盛と該探針の横方向相対変位量を計数する手段
とを具備したエンコーダにおいて、 前記探針および検出手段を複数組設け、かつ各探針のエ
ンコーダとしての探針性能を検査する探針性能検査手段
を設けたことを特徴とするエンコーダ。 - （２）前記探針性能検査手段の検査結果に基づいて、検
出結果により計数された横方向相対変位量が出力される
前記検出手段を選択することを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載のエンコーダ。 - （３）前記検出手段は前記探針と基準目盛との間に流れ
るトンネル電流を検出する手段を有し前記相対変位量計
数手段は前記トンネル電流検出手段の検出結果に基づい
て相対変位量の計数を行なうことを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載のエンコーダ。 - （４）前記探針性能検査手段は前記トンネル電流検出手
段の検出信号を基準となる信号と比較をすることによつ
て前記探針性能の検査を行なうことを特徴とする特許請
求の範囲第３項記載のエンコーダ。 - （５）更に前記探針性能検査手段で異常の発見された探
針の再生を行なうための再生手段を有することを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のエンコーダ。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2179558A JP2945090B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | エンコーダ |
| DE69116027T DE69116027T2 (de) | 1990-07-09 | 1991-07-05 | Gerät und Methode zur Informationsdetektion |
| EP91111192A EP0470370B1 (en) | 1990-07-09 | 1991-07-05 | Information detection apparatus and method |
| CA002046474A CA2046474C (en) | 1990-07-09 | 1991-07-08 | Information detection apparatus and displacement information measurement apparatus |
| US08/132,161 US5349735A (en) | 1990-07-09 | 1993-10-05 | Information detection apparatus and displacement information measurement apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2179558A JP2945090B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | エンコーダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0466814A true JPH0466814A (ja) | 1992-03-03 |
| JP2945090B2 JP2945090B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=16067838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2179558A Expired - Lifetime JP2945090B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | エンコーダ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5349735A (ja) |
| EP (1) | EP0470370B1 (ja) |
| JP (1) | JP2945090B2 (ja) |
| CA (1) | CA2046474C (ja) |
| DE (1) | DE69116027T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6339217B1 (en) | 1995-07-28 | 2002-01-15 | General Nanotechnology Llc | Scanning probe microscope assembly and method for making spectrophotometric, near-field, and scanning probe measurements |
| US5751683A (en) | 1995-07-24 | 1998-05-12 | General Nanotechnology, L.L.C. | Nanometer scale data storage device and associated positioning system |
| US6337479B1 (en) | 1994-07-28 | 2002-01-08 | Victor B. Kley | Object inspection and/or modification system and method |
| US5453616A (en) * | 1994-10-18 | 1995-09-26 | Seiko Instruments, Inc. | Probe microscope having error correction piezoelectric scanner |
| JP3229914B2 (ja) * | 1994-12-12 | 2001-11-19 | 日本電子株式会社 | 走査型プローブ顕微鏡 |
| US6507553B2 (en) | 1995-07-24 | 2003-01-14 | General Nanotechnology Llc | Nanometer scale data storage device and associated positioning system |
| US5901426A (en) * | 1995-12-28 | 1999-05-11 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of combining workpieces |
| DE19703690A1 (de) * | 1996-04-15 | 1997-10-16 | Zeiss Carl Fa | Meßeinrichtung zur Vermessung von Werkstücken |
| US6752008B1 (en) | 2001-03-08 | 2004-06-22 | General Nanotechnology Llc | Method and apparatus for scanning in scanning probe microscopy and presenting results |
| US7196328B1 (en) | 2001-03-08 | 2007-03-27 | General Nanotechnology Llc | Nanomachining method and apparatus |
| US6923044B1 (en) | 2001-03-08 | 2005-08-02 | General Nanotechnology Llc | Active cantilever for nanomachining and metrology |
| US6802646B1 (en) | 2001-04-30 | 2004-10-12 | General Nanotechnology Llc | Low-friction moving interfaces in micromachines and nanomachines |
| US6787768B1 (en) | 2001-03-08 | 2004-09-07 | General Nanotechnology Llc | Method and apparatus for tool and tip design for nanomachining and measurement |
| US6744268B2 (en) * | 1998-08-27 | 2004-06-01 | The Micromanipulator Company, Inc. | High resolution analytical probe station |
| US6198299B1 (en) * | 1998-08-27 | 2001-03-06 | The Micromanipulator Company, Inc. | High Resolution analytical probe station |
| WO2001003157A1 (en) | 1999-07-01 | 2001-01-11 | General Nanotechnology, Llc | Object inspection and/or modification system and method |
| US6931710B2 (en) | 2001-01-30 | 2005-08-23 | General Nanotechnology Llc | Manufacturing of micro-objects such as miniature diamond tool tips |
| US7253407B1 (en) | 2001-03-08 | 2007-08-07 | General Nanotechnology Llc | Active cantilever for nanomachining and metrology |
| US7053369B1 (en) | 2001-10-19 | 2006-05-30 | Rave Llc | Scan data collection for better overall data accuracy |
| US6813937B2 (en) | 2001-11-28 | 2004-11-09 | General Nanotechnology Llc | Method and apparatus for micromachines, microstructures, nanomachines and nanostructures |
| JP4628099B2 (ja) * | 2002-07-08 | 2011-02-09 | マルチプローブ・インコーポレーテッド | 複数の走査プローブのソフトウエア同期化 |
| EP1539637A4 (en) | 2002-09-09 | 2010-07-28 | Gen Nanotechnology Llc | FLUID FEED FOR RASTER TUNNEL MICROSCOPY |
| DE102004058483B4 (de) * | 2003-12-05 | 2009-12-17 | Hitachi High-Technologies Corp. | Vorrichtung zur Untersuchung von Produkten auf Fehler, Messfühler-Positionierverfahren und Messfühler-Bewegungsverfahren |
| US6845279B1 (en) | 2004-02-06 | 2005-01-18 | Integrated Technologies, Inc. | Error proofing system for portable tools |
| US8004958B2 (en) * | 2006-04-18 | 2011-08-23 | Pioneer Corporation | Information recording/reproducing apparatus |
| US7724007B2 (en) * | 2007-09-28 | 2010-05-25 | Tokyo Electron Limited | Probe apparatus and probing method |
| JP5088167B2 (ja) * | 2008-02-22 | 2012-12-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ装置、プロービング方法及び記憶媒体 |
| CN116893283A (zh) * | 2015-02-26 | 2023-10-17 | 沙朗特有限责任公司 | 多集成尖端扫描探针显微镜 |
| CN116699180A (zh) | 2015-02-26 | 2023-09-05 | 沙朗特有限责任公司 | 用于制造纳电子机械系统探针的系统和方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH643397A5 (de) * | 1979-09-20 | 1984-05-30 | Ibm | Raster-tunnelmikroskop. |
| JPS62209302A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-14 | Shimadzu Corp | 平行移動量検出装置 |
| DE3752099T2 (de) * | 1986-12-24 | 1997-11-13 | Canon Kk | Aufzeichnungsgerät und Wiedergabegerät |
| EP0304893B1 (en) * | 1987-08-25 | 1995-07-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Encoder |
| EP0307210A3 (en) * | 1987-09-10 | 1991-05-15 | Seiko Instruments Inc. | Memory writing apparatus |
| JP2896794B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1999-05-31 | キヤノン株式会社 | 走査型トンネル電流検出装置，走査型トンネル顕微鏡，及び記録再生装置 |
| DE3850968T2 (de) * | 1988-10-14 | 1995-03-16 | Ibm | Abstandsgesteuerter Tunneleffektwandler und den Wandler verwendende Speichereinheit mit direktem Zugriff. |
| US4924091A (en) * | 1989-02-01 | 1990-05-08 | The Regents Of The University Of California | Scanning ion conductance microscope |
| US4987303A (en) * | 1989-04-07 | 1991-01-22 | Olympus Optical Co., Inc. | Micro-displacement detector device, piezo-actuator provided with the micro-displacement detector device and scanning probe microscope provided with the piezo-actuator |
| GB8910566D0 (en) * | 1989-05-08 | 1989-06-21 | Amersham Int Plc | Imaging apparatus and method |
| JP2686645B2 (ja) * | 1989-05-08 | 1997-12-08 | キヤノン株式会社 | 走査型トンネル電流検出装置 |
-
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