JPH0471626B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は溶融装置を内蔵した溶融室と該溶融室
の下に配設され昇降及び側方旋回可能である鋳型
室とを備えた真空式の精密溶融兼鋳造炉であつ
て、鋳型室が真空弁を備えた弁室を介して溶融室
と接続されておりかつ該鋳型室内に、鋳型を前記
溶融装置の下まで上昇させるための昇降テーブル
が配設されており、しかも鋳型室のための昇降駆
動装置と真空弁のための操作棒とが配設されてい
る形式のものに関する。

従来の技術 イギリス国特許第1349099号明細書で公知の上
記形式を真空炉においては、鋳型のための昇降テ
ーブルを備えた鋳型室が回転台の１部分として形
成され、この回転台には更に別の昇降テーブルを
備えた少なくとも１つの別の鋳型室が配属されて
いる。この場合の鋳型室のための昇降駆動装置は
昇降可能な旋回コラムによつて形成され、該コラ
ムはその側方において炉ケーシングに並んで炉フ
レーム内に支承されており、また該コラムは必要
なシール性の形成のために該炉ケーシング対して
正確に位置決めされていなければならない。全部
で３つの炉室の間に配置された真空弁のための駆
動棒は、それぞれの昇降駆動装置に対して直角に
延びている。この真空炉の構造全体は複雑であり
かつ大きなスペースを必要とする。またこの公知
構造においては、例えば既存の溶融装置を有する
溶融炉に後から適当な付帯構造物を補充すること
はできない。

冒頭に述べた形式の真空炉は本願発願人によつ
て、より単純な構造を有する型式名IS2／１とし
ても公知である。この場合、予備加熱された鋳型
は側方に回し出された鋳型室内にそう着される。
この鋳型室の旋回運動のためにやはり炉フレーム
の側方に旋回コラムが配設されており、該コラム
は弁室と鋳型室との間のシール面に対して正確に
位置調節されなければならない。真空弁のための
駆動棒はやはり旋回コラムに対して直角に延びて
いる。この場合にも簡単な溶融炉を後から精密鋳
造炉へ再装備することは困難であり、何故なら
種々の可動な炉部分のための各駆動装置の位置調
節が難しいからである。

発明の課題 本発明の課題は冒頭に述べた形式の真空炉にお
いて、個々の可動部分の正確な相互位置調節が最
初から保証され得、かつ特に既存の単純な鋳造炉
を後から再装備することによつて製造可能である
ものを提供することである。

課題を解決するための手段 上記の課題を解決するための本発明による手段
は、鉛直方向の中空軸が弁室に固定されており、
該軸の内部を通つて真空弁のための操作棒が真空
シールされて貫通案内されておりかつ、該中空軸
の外面上には鋳型室のためのガイドスリーブが配
置されていることである。

実施態様 本発明の１実施態様によれば、真空弁のための
操作棒の下端に制御軌道が配置されており、この
制御軌道によつて操作棒がその鉛直方向運動路の
１部分において回転運動を重ねて行なうことが可
能であると有利である。

この制御軌道によれば唯一つの駆動装置を以つ
て、まず弁板をその所属の弁座に整合するまで旋
回し、続いて該弁板を弁座に圧着することが、そ
の際に別の旋回運度を行なう必要なしに可能であ
る。

実施例 第１図に示された真空式の精密溶融兼鋳造炉の
中央部分は、上側の制限壁２と下側の制限壁３と
を備えた弁室１である。上側の制限壁２の下面に
は弁座４が配置されており、該弁座４は制限壁２
内に交換可能に取付られたリング５の下面によつ
て形成されている。弁室１の上にはリングフラン
ジ６によつて溶融室７が固定されており、この溶
融室７内に溶融装置８が配設されている。この溶
融装置８としては例えば、誘導コイル９によつて
加熱されかつ図示されていない水平軸を中心に傾
動可能なるつぼ１０が用いられ、該るつぼ１０内
の溶融した液状の内容物はほぼ、垂直な炉軸線Ａ
−Ａの方向で放出される。この傾動可能なるつぼ
１０の代りに、炉軸線Ａ−Ａに対して同心的に配
置された底開口を有する位置固定的なるつぼを用
いてもよい。傾動可能な溶融装置８を使用する場
合にな溶融室７が側方に湾曲部７ａを有し、この
湾曲部７ａ内に溶融装置が配設される。

下側の制限壁３も同様に、炉軸線Ａ−Ａに対し
て同心的に形成されたシール座部１１を有する。
この座部１１に鋳型室１２が圧着可能であり、該
鋳型室１２はその開口の範囲内にリングフランジ
１３を有しかつその下端部は、昇降駆動装置１５
を取付られた底部１４によつて閉じられている。
この昇降駆動装置１５の有するピストン棒１６の
上型端部には、鋳型１８の鉛直方向運動のための
昇降テーブル１７が固定されている。昇降テーブ
ル１７と底部１４との間に確実なシールを形成す
るためにベローズ１９が働いている。昇降テーブ
ル１７が鋳型室１２に対して回動するのを防ぐた
めに該昇降テーブル１７には、真空シールされた
ガイド管２１内で案内されたガイド棒２０が配設
されている。この昇降テーブル１７によつて鋳型
が、鎖線で示された上側の鋳込み位置にもたらさ
れ得る。

また下側の制限壁３には鉛直方向の中空軸２２
が取付けられており、この中空軸２２の内部を通
つて真空弁２４のための操作棒２３が案内されて
おり、該真空弁２４は弁室１内で張出しアーム２
５に、旋回可能にかつ昇降可能に配設されてい
る。こ張出しアーム２５には更に、閉じた状態で
真空弁２４に、予備加熱された鋳型１８からの過
剰な熱負荷がかかならいように守るための放射保
護部材２６が取付けられている。

前記の操作棒２３によつて真空弁２４に軸線方
向運動を与えられ、弁座４に対して厚着及び離動
せしめられる。更にこの操作棒２３の別個の又は
前記軸線方向運動に重ねて行なわれる旋回運動に
よつて真空弁２４は、鋳型１８が鎖線で示された
位置１８ａまで上方に持上げられるのに邪魔にな
らない位置に旋回可能である。真空弁２４が閉じ
られている間に溶融室７内では鋳造材料の溶融が
行なわれ、鋳型室１２へは装入が行なわれ得る。
また上側の制限壁２には保守及び組立てのために
２つのカバー２７，２８が配設されている。

昇降と旋回とを組合せた運動を形成するために
操作棒２３の下端部にはカム体２９が配設されて
いる（第２図に詳しく図示）。このカム体２９の
有する制御軌道３０は、周方向で互いにずらされ
た２つの軸線平行な区分３１，３３と、この軸線
平行な各区分を互いに接続する斜め区分３２とか
ら形成されており、この斜め区分３２は、カム体
２９の軸線平行な母線に対して例えば45°の角度
を以つて延びている。弁板の閉鎖運動は次のよう
な階段に分けられる、即ち、１直線的な上昇運
動、２弁座の下での旋回、３弁座への直線的な圧
着運動である。

第３図から分かるようにカム体２９はころホル
ダ３４内で案内されかつ３つのスペーサピン３５
によつて、前記中空軸２２に回動不能に結合され
たリングフランジ３６に懸吊されている。ころホ
ルダ３４はリング３７から成り、該リング３７内
には半径方向に向けられた回転軸線を有する１つ
ころ３８が、略示されたボールベアリングによつ
て支承されている。ころ３８はそのシリンダ状の
ヘツド３９を以つてカム体２９の制御軌道３０内
に係合している。これによつてカム体２９がその
鉛直方向運動時に、ころホルダ３４に対して昇降
と回転から合成された運動を行ない、この運動は
制御軌道３０の三次元的な形状に対応して、真空
弁２４に所望の運動を行なわしめる。この場合の
制御軌道３０の三次元的な形状は、その両方の区
分３１と３３とが90°の角度ずれを有するように
選択形成されている。これによつて操作棒２３は
その全昇降運動を行なう際に90°の旋回運動も行
なうことになる。

操作棒２３に昇降運動を与えるためにカム体２
９が行程シリンダ４１のピストン棒４０に結合さ
れており、該行程シリンダ４１はフランジプレー
ト４２を介してスペーサピン３５の延長部に支持
されている。ピストン棒４０上には、選択的に２
つのリミツトスイツチ４４，４５と協働する１つ
の回転対照的なカム４３が取付けられている。こ
れによつて２つの位置報知機構が形成されている
ことになり、該機構によつて真空弁２４の各終端
位置が図示されていない制御装置に報知され得
る。リミツトスイツチ４４，４５はスペーサピン
３５又はその延長部に固定されている。

中空軸２２内の上端と下端には、必要な真空シ
ールを作用せしめる栓状パツキン部材が配設され
ている。また中空軸２２の円筒状外面の上には、
半径方向の結合部材４７を介して鋳型室１２と結
合されたガイドスリーブ４６が配設されている。
ガイドスリーブ４６は中空軸２２上で回転運でだ
けでなく縦方向運動も行ない、それによつて例え
ば鋳型室１２が第１図の位置に旋回された後にリ
ングフランジ１３がシール弁座１１に圧着可能で
ある。この目的のために炉軸線Ａ−Ａの範囲内に
ピストン棒４９を有する昇降駆動装置４８が配置
されており、該ピストン棒４９は鋳型室１２の旋
回そう入後に昇降駆動装置１５の下面に作用す
る。昇降駆動装置４８の作動によつて昇降駆動装
置１５全体及び、該装置１５を以つて鋳型室１２
と昇降テーブル１７とが持上げられ、鋳型室１２
が弁室１と真空シール的に結合される。

第４図には弁室１の上側の制限壁２内へのリン
グ５のそう着部分が拡大して示されている。この
場合のシールは詳説されていないが既に公知の方
法によるものである複数のシールリングによつて
形成されている。

第５図には弁室１がより詳しく示されている。
弁室１は水平平面で投影した時にはほぼ円形セク
タの形状を有し、その横断面は、真空弁２４が左
又は前位置から右又は後位置へ旋回可能なように
設計されている。この際に張出しアーム２５は鎖
線の位置から一点鎖線の位置２５ａに達する。ま
た、図面から分かるように上側の制限壁２は外気
圧に対抗するために補強リブ５０，５１によつて
補強されている。この場合の真空弁２４は旋回ス
ライダの原理によつて形成され、その詳細は公知
技術に属する。

発明の効果 本発明の構成によれば弁室が該弁室に取り付け
られた中空軸と共に、容易に高い精度を以つて製
造可能な１つの関連系を形成している。それによ
つて特に鉛直方向の中空軸の弁室の、水平に延び
る制限壁、即ち一方は真空弁のための弁座を有
し、他方は鋳型室のためのシール座部を有する各
制限壁に対して正確に垂直に位置決めされ得る。
この中空軸によつて弁板と鋳型室との正確な半径
方向ガイドが同時に保証されるので、その都度の
シール対の正確な平坦位置が常に確保され得る。
鉛直方向の中空軸を有する弁室は特に、従来の鋳
造炉に後から一体装着することも可能な構造グル
ープとして簡単な製造可能である。全ての案内機
能が鉛直方向の中空軸によつて行なわれるので、
溶融室に対する相対的な位置調節が、そのために
複雑な取付け及び調節作業の必要なしに行なわれ
得る。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の１実施例を示すものであつて、
第１図は本発明による炉の主要部分を示す鉛直方
向断面図、第２図は弁操作のための制御軌道を備
えたカム体を示す側面図、第３図は第１図の−
線に沿つた横断面図、第４図は第１図の円弧
内の範囲を示す部分拡大図、第５図は弁室を上か
ら見た図である。 １……弁室、２，３……制限壁、４……弁座、
５，３７……リング、６，１３，３６……リング
フランジ、７……溶融室、７ａ……湾曲部、８…
…溶融装置、９……誘導コイル、１０……るつ
ぼ、１１……シール座部、１２……鋳型室、１４
……底部、１５，４８……昇降駆動装置、１６，
４０，４９……ピストン棒、１７……昇降テーブ
ル、１８……鋳型、１８ａ……鋳込み位置、１９
……ベローズ、２０……ガイド棒、２１……ガイ
ド管、２２……中空軸、２３……操作棒、２４…
…真空弁、２５……張出しアーム、２６……放射
保護部材、２７，２８……カバー、２９……カム
体、３０……制御軌道、３１，３３……区分、３
２……斜め区分、３４……ころホルダ、３５……
スペーサピン、３８……ころ、３９……ヘツド、
４１……行程シリンダ、４２……フランジプレー
ト、４３……カム、４４，４５……リミツトスイ
ツチ、４６……ガイドスリーブ、４７……結合部
材、５０，５１……補強リブ。

【特許請求の範囲】

１ 底部フレームと、該底部フレームの上面に昇
降自在に装着した第１の昇降架台と、該第１の昇
降架台の上面に前後動自在に装着した移動架台
と、該移動架台の上面に載置した第１の半田槽
と、前記移動架台の上面に昇降自在に装着した第
２の昇降架台と、該第２の昇降架台の上面に載置
した第２の半田槽とを備えてなる自動半田付装置
の半田槽装置。

Claims (1)

1. 特許請求の範囲第１項記載の真空式の精密溶融兼
   鋳造炉。 ３ 真空弁２４のための弁座４が弁室１の上側の
   制限壁２に交換可能に配置されている、特許請求
   の範囲第１項記載の真空式の精密溶融兼鋳造炉。