JPH0473581B2 - - Google Patents
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- JPH0473581B2 JPH0473581B2 JP58075322A JP7532283A JPH0473581B2 JP H0473581 B2 JPH0473581 B2 JP H0473581B2 JP 58075322 A JP58075322 A JP 58075322A JP 7532283 A JP7532283 A JP 7532283A JP H0473581 B2 JPH0473581 B2 JP H0473581B2
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真用キヤリア材に関する。さら
に詳しくは、本発明は耐久性および表面帯電性が
改良された電子写真用キヤリア材に関する。 従来、トナーを用いて静電潜像を現像する方法
としてはカスケード現像法や磁気ブラシ現像法が
知られている。このいずれの方法においても２成
分現像剤が用いられているが、この２成分現像剤
は粒径が10数μｍのトナー粒子と、粒径が約25μ
ｍ〜約200μｍのキヤリア粒子の混合体からなり、
これら粒子の接触によつて生ずる反対極性の静電
力によつて、キヤリア粒子表面へトナー粒子が保
持される。そして、この現像剤が光導電体の静電
潜像と接触するとトナー粒子が潜像に引きつけら
れて画像が形成される。この場合トナー粒子は必
ず光導電体上の所望の像領域へ優先的に引きつけ
られるような正確な帯電性および電荷の大きさを
有していなければならない。 電子写真用キヤリアとしては現在、直径約25μ
ｍ〜約200μｍの鉄、フエライト、鋼、ガラス等
の粒状物が一般に使用されている。これらの粒状
物をそのままの形でキヤリアとして用いた場合
は、次のような欠点が生じやすい。 すなわち () キヤリアの体積抵抗が低く、複写時に正常
な画像が得られない。 () キヤリアとトナーとの長期間に渡る機械的
衝突により、トナーの主成分である熱可塑性樹
脂がキヤリア表面に付着し膜を形成する。この
ため、トナーの摩擦帯電量が不均一となり良好
な画像を持つた複写物が得られなくなる。 () 高湿度環境下におけるキヤリア表面の吸湿
により（）と同様な帯電の不均一が生じる。 () 鉄又は鋼の場合には、空気中の水分と酵素
により表面が酸化され、表面特性が微妙に変化
する。 そこで、かかる欠点を解消させるために、キヤ
リアの表面を処理する方法が提案され、その中で
も、キヤリア粒子をたとえばメチルメタクリレー
ト／スチレン共重合体の如きポリマーで被覆する
ことはよく行われている。被覆方法としては、ポ
リマー溶液を流動床内のキヤリア粒子に噴霧して
乾燥させるやり方が一般に採用されているようで
ある。また、キヤリアを核にして、モノマーを含
む系で懸濁重合せしめることにより被覆する方法
も提案されている。キヤリア粒子を被覆するため
のポリマーとしては、前記のメチルメタクリレー
ト／スチレン共重合体の他に、エポキシ樹脂及び
フルオロポリマー（特開昭49−51950）、アルコキ
シビニルシラン化合物とアクリルエステル又はス
チレンとの共重合体（特開昭50−147947）等があ
る。このようなポリマー被覆キヤリアの採用によ
り、前記の欠点は一時的には解消されるが、長時
間にわたる使用によりポリマーがキヤリア表面か
ら脱離してしまい、ポリマー被覆キヤリアといえ
ども耐久性に優れるキヤリア材とは言えない。 本発明者らは、キヤリア材に関する前述の現状
に鑑み鋭意研究の結果、ケテンダイマー系化合物
で表面を被覆されたキヤリア材は、トナーの帯電
安定性を可能にし、かつ耐久性にも優れることを
見い出し本発明を完成させた。すなわち本発明
は、次式（） （式中、R1及びR2は各々炭素数４〜24の炭化水
素基を表わす）で表わされるケテンダイマーで被
覆された層を有することを特徴とする電子写真用
キヤリア材を提供するものである。 本発明に用いられるケテンダイマーは、前記の
式（）で表わされる化合物である。式中のR1
及びR2は各々、炭素数４〜24、好ましくは12〜
22の炭化水素基である。これら炭化水素基として
は例えばオクチル、デシル、ドデシル、テトラデ
シル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル
等のアルキル基、オクテニル、デセニル、トデセ
ニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタ
デセニル、エイコセニル等のアルケニル基、オク
チルフエニル、ノニルフエニル、ドデシルフエニ
ル等のアルカリール基等が例示できる。これらケ
テンダイマーは一種単独でもまた二種以上混合し
ても使用できる。また、これらのケテンダイマー
は、たとえば公知の方法である酸クロライドの脱
塩酸反応により得ることができる。 本発明において、前記のケテンダイマーで被覆
されたキヤリア材を得る方法は特に限定されない
が、不活性有機溶媒、ケテンダイマーおよびキヤ
リア粒子を混合し、加熱撹拌する方法が簡便であ
る。ここに用いることができる不活性有機溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチ
ルケトン、シクロヘキサノン等をあげることがで
きる。これら溶媒の使用量は特に限定されず、加
熱撹拌に支障のない粘度になるように調整すれば
よい。 前記の方法によつて得られた表面被覆キヤリア
材を、さらにメチルメタクリレート／スチレン共
重合体等のポリマーで被覆することは何らさしつ
かえない。 本発明において用いることができるキヤリアと
しては、鉄、フエライト、鋼、ガラス、砂等の、
従来キヤリアとして一般に使用されている粒子を
あげることができる。 ケテンダイマーの使用量は、キヤリア粒子に対
して0.5〜４重量％程度、好ましくは１〜３重量
％である。 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。なお、実施例および比較例中の部はす
べて重量部を表わす。 実施例 １ 冷却管付４ツ口フラスコに、鉄粒子（日本鉄粉
(株)のEF−250）100部、トルエン300部、およびヘ
キシルケテンダイマー２部をとり、100℃で２時
間撹拌した。その後、多量のトルエンで鉄粒子を
洗浄、次いで乾燥させてケテンダイマーで被覆さ
れた鉄粒子を得た。次に、この鉄粒子をさらにメ
チルメタクリレート（MMA）／スチレン（st）
共重合体（共重合比MMA／st＝50／50、分子量
約20万）で被覆し、キヤリア材とした。共重合体
による被覆に際しては、流動床被覆試験機（富士
見産業(株)製）を用いた。また、前記共重合体は固
形分５％のトルエン溶液にして用いた。 次いで、該キヤリア材95部とトナー（スチレン
（st）／ブチルアクリレート（BA）共重合体、共
重合モル比st／BA＝85／15、分子量約10万を主
成分とし、少量のカーボンブラツクを含む）５部
を混合して、電子写真用現像剤を作つた。 ＜トナー帯電量安定性（TEC安定性）の評価＞ ポリエステルフイルムを巻き付けたAlドラム
と磁気ブラシ式現像ユニツトからなるトナー帯電
量試験装置に上記の現像剤を仕込み、磁気ブラシ
を回転させる。回転させて８時間後のトナーと回
転前（以下初期という）のトナーを一部採取し、
その帯電量（TEC）をブローオフ試験機（東京
芝浦電気(株)製）で測定する。８時間回転後の
TECの初期のTECに対する変化率を計算し、
TEC安定性を１〜５の数値で表わす。数値と変
化率の対応は次の通りである。 数 値 変化率（％） ５ ０〜20 ４ 21〜40 ３ 41〜60 ２ 61〜80 １ 81〜100 数値が大きい程変化率が小さく、従がつて
TEC安定性が良好であることを意味する。 ＜TEC分布安定性の評価＞ 前記の＜TEC安定性の評価に用いてトナーを、
特願昭56−212442号明細書に記載されているトナ
ー粒子特性の測定装置を用いて、TECの分布を
調べた。８時間回転後のトナーの分布パターンと
初期のトナーの分布パターンを比較し、８時間回
転後のトナーのTEC分布安定性を１〜３の数値
で表わした。数値の意味は次の通りである。 数 値 意 味 ３ ●８時間後のTEC分布パターンが初期の
それと同等であり、TEC分布安定性が
極めて良好である。 ２ ●８時間後のTEC分布パターンが初期の
それに比べてやや広がり、TEC分布安
定性としては中程度である。 １ ●８時間後のTEC分布パターンが初期の
それに比べてかなり広がり、TEC分布
安安定性としては不良である。 TEC安定性およびTEC分布安定性の評価の結
果は表−１に示す。 実施例 ２ 実施例１で用いたヘキシルケテンダイマーのか
わりに、ヘキサデシルケテンダイマーを２部用い
る以外は、実施例１と同様にして、ケテンダイマ
ーで被覆された鉄粒子を得た。以下、実施例１の
方法に準じて、この鉄粒子をさらに、MMA／st
共重合体で被覆してキヤリア材とし、電子写真用
現像剤を作つた。該現像剤を用いて、実施例１と
同一の方法により、TEC安定性およびTEC分布
安定性の評価を行つた。これらの結果は表−１に
示す。 実施例 ３ 実施例１で用いたヘキシルケテンダイマーのか
わりに、オクタデセニルケテンダイマー２部を用
いる以外は、実施例１と同様にして、該ケテンダ
イマーで被覆された鉄粒子を得た。以下、実施例
１の方法に準じて、この鉄粒子をさらにMMA／
st共重合体で被覆してキヤリア材とし、電子写真
用現像剤を作つた。該現像剤を用いて、実施例１
と同一の方法により、TEC安定性およびTEC分
布安定性の評価を行つた。これらの結果は表−１
に示す。 実施例 ４ 実施例１で用いたヘキシルケテンダイマーのか
わりに、エイコシルケテンダイマーを２部用いる
以外は、実施例１と同様にして、ケテンダイマー
で被覆された鉄粒子を得た。以下、実施例１の方
法に準じて、この鉄粒子をさらにMMA／st共重
合体で被覆してキヤリア材とし、電子写真現像剤
を作つた。該現像剤を用いて、実施例１と同一の
方法により、TEC安定性およびTEC分布安定性
の評価を行つた。これらの結果は表−１に示す。 比較例 １ 実施例１で用いた鉄粒子をケテンダイマーで被
覆せずに、実施例１で用いた流動床被覆試験機に
より、実施例１で用いたMMA／st共重合体で被
覆した。次いで、該被覆鉄粒子をキヤリア材と
し、実施例１の方法に準じて電子写真用現像剤を
作つた。該現像剤を用いて、実施例１と同一の方
法により、TEC安定性およびTEC分布安定性の
評価を行つた。これらの結果は表−１に示す。 【表】
に詳しくは、本発明は耐久性および表面帯電性が
改良された電子写真用キヤリア材に関する。 従来、トナーを用いて静電潜像を現像する方法
としてはカスケード現像法や磁気ブラシ現像法が
知られている。このいずれの方法においても２成
分現像剤が用いられているが、この２成分現像剤
は粒径が10数μｍのトナー粒子と、粒径が約25μ
ｍ〜約200μｍのキヤリア粒子の混合体からなり、
これら粒子の接触によつて生ずる反対極性の静電
力によつて、キヤリア粒子表面へトナー粒子が保
持される。そして、この現像剤が光導電体の静電
潜像と接触するとトナー粒子が潜像に引きつけら
れて画像が形成される。この場合トナー粒子は必
ず光導電体上の所望の像領域へ優先的に引きつけ
られるような正確な帯電性および電荷の大きさを
有していなければならない。 電子写真用キヤリアとしては現在、直径約25μ
ｍ〜約200μｍの鉄、フエライト、鋼、ガラス等
の粒状物が一般に使用されている。これらの粒状
物をそのままの形でキヤリアとして用いた場合
は、次のような欠点が生じやすい。 すなわち () キヤリアの体積抵抗が低く、複写時に正常
な画像が得られない。 () キヤリアとトナーとの長期間に渡る機械的
衝突により、トナーの主成分である熱可塑性樹
脂がキヤリア表面に付着し膜を形成する。この
ため、トナーの摩擦帯電量が不均一となり良好
な画像を持つた複写物が得られなくなる。 () 高湿度環境下におけるキヤリア表面の吸湿
により（）と同様な帯電の不均一が生じる。 () 鉄又は鋼の場合には、空気中の水分と酵素
により表面が酸化され、表面特性が微妙に変化
する。 そこで、かかる欠点を解消させるために、キヤ
リアの表面を処理する方法が提案され、その中で
も、キヤリア粒子をたとえばメチルメタクリレー
ト／スチレン共重合体の如きポリマーで被覆する
ことはよく行われている。被覆方法としては、ポ
リマー溶液を流動床内のキヤリア粒子に噴霧して
乾燥させるやり方が一般に採用されているようで
ある。また、キヤリアを核にして、モノマーを含
む系で懸濁重合せしめることにより被覆する方法
も提案されている。キヤリア粒子を被覆するため
のポリマーとしては、前記のメチルメタクリレー
ト／スチレン共重合体の他に、エポキシ樹脂及び
フルオロポリマー（特開昭49−51950）、アルコキ
シビニルシラン化合物とアクリルエステル又はス
チレンとの共重合体（特開昭50−147947）等があ
る。このようなポリマー被覆キヤリアの採用によ
り、前記の欠点は一時的には解消されるが、長時
間にわたる使用によりポリマーがキヤリア表面か
ら脱離してしまい、ポリマー被覆キヤリアといえ
ども耐久性に優れるキヤリア材とは言えない。 本発明者らは、キヤリア材に関する前述の現状
に鑑み鋭意研究の結果、ケテンダイマー系化合物
で表面を被覆されたキヤリア材は、トナーの帯電
安定性を可能にし、かつ耐久性にも優れることを
見い出し本発明を完成させた。すなわち本発明
は、次式（） （式中、R1及びR2は各々炭素数４〜24の炭化水
素基を表わす）で表わされるケテンダイマーで被
覆された層を有することを特徴とする電子写真用
キヤリア材を提供するものである。 本発明に用いられるケテンダイマーは、前記の
式（）で表わされる化合物である。式中のR1
及びR2は各々、炭素数４〜24、好ましくは12〜
22の炭化水素基である。これら炭化水素基として
は例えばオクチル、デシル、ドデシル、テトラデ
シル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル
等のアルキル基、オクテニル、デセニル、トデセ
ニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタ
デセニル、エイコセニル等のアルケニル基、オク
チルフエニル、ノニルフエニル、ドデシルフエニ
ル等のアルカリール基等が例示できる。これらケ
テンダイマーは一種単独でもまた二種以上混合し
ても使用できる。また、これらのケテンダイマー
は、たとえば公知の方法である酸クロライドの脱
塩酸反応により得ることができる。 本発明において、前記のケテンダイマーで被覆
されたキヤリア材を得る方法は特に限定されない
が、不活性有機溶媒、ケテンダイマーおよびキヤ
リア粒子を混合し、加熱撹拌する方法が簡便であ
る。ここに用いることができる不活性有機溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチ
ルケトン、シクロヘキサノン等をあげることがで
きる。これら溶媒の使用量は特に限定されず、加
熱撹拌に支障のない粘度になるように調整すれば
よい。 前記の方法によつて得られた表面被覆キヤリア
材を、さらにメチルメタクリレート／スチレン共
重合体等のポリマーで被覆することは何らさしつ
かえない。 本発明において用いることができるキヤリアと
しては、鉄、フエライト、鋼、ガラス、砂等の、
従来キヤリアとして一般に使用されている粒子を
あげることができる。 ケテンダイマーの使用量は、キヤリア粒子に対
して0.5〜４重量％程度、好ましくは１〜３重量
％である。 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。なお、実施例および比較例中の部はす
べて重量部を表わす。 実施例 １ 冷却管付４ツ口フラスコに、鉄粒子（日本鉄粉
(株)のEF−250）100部、トルエン300部、およびヘ
キシルケテンダイマー２部をとり、100℃で２時
間撹拌した。その後、多量のトルエンで鉄粒子を
洗浄、次いで乾燥させてケテンダイマーで被覆さ
れた鉄粒子を得た。次に、この鉄粒子をさらにメ
チルメタクリレート（MMA）／スチレン（st）
共重合体（共重合比MMA／st＝50／50、分子量
約20万）で被覆し、キヤリア材とした。共重合体
による被覆に際しては、流動床被覆試験機（富士
見産業(株)製）を用いた。また、前記共重合体は固
形分５％のトルエン溶液にして用いた。 次いで、該キヤリア材95部とトナー（スチレン
（st）／ブチルアクリレート（BA）共重合体、共
重合モル比st／BA＝85／15、分子量約10万を主
成分とし、少量のカーボンブラツクを含む）５部
を混合して、電子写真用現像剤を作つた。 ＜トナー帯電量安定性（TEC安定性）の評価＞ ポリエステルフイルムを巻き付けたAlドラム
と磁気ブラシ式現像ユニツトからなるトナー帯電
量試験装置に上記の現像剤を仕込み、磁気ブラシ
を回転させる。回転させて８時間後のトナーと回
転前（以下初期という）のトナーを一部採取し、
その帯電量（TEC）をブローオフ試験機（東京
芝浦電気(株)製）で測定する。８時間回転後の
TECの初期のTECに対する変化率を計算し、
TEC安定性を１〜５の数値で表わす。数値と変
化率の対応は次の通りである。 数 値 変化率（％） ５ ０〜20 ４ 21〜40 ３ 41〜60 ２ 61〜80 １ 81〜100 数値が大きい程変化率が小さく、従がつて
TEC安定性が良好であることを意味する。 ＜TEC分布安定性の評価＞ 前記の＜TEC安定性の評価に用いてトナーを、
特願昭56−212442号明細書に記載されているトナ
ー粒子特性の測定装置を用いて、TECの分布を
調べた。８時間回転後のトナーの分布パターンと
初期のトナーの分布パターンを比較し、８時間回
転後のトナーのTEC分布安定性を１〜３の数値
で表わした。数値の意味は次の通りである。 数 値 意 味 ３ ●８時間後のTEC分布パターンが初期の
それと同等であり、TEC分布安定性が
極めて良好である。 ２ ●８時間後のTEC分布パターンが初期の
それに比べてやや広がり、TEC分布安
定性としては中程度である。 １ ●８時間後のTEC分布パターンが初期の
それに比べてかなり広がり、TEC分布
安安定性としては不良である。 TEC安定性およびTEC分布安定性の評価の結
果は表−１に示す。 実施例 ２ 実施例１で用いたヘキシルケテンダイマーのか
わりに、ヘキサデシルケテンダイマーを２部用い
る以外は、実施例１と同様にして、ケテンダイマ
ーで被覆された鉄粒子を得た。以下、実施例１の
方法に準じて、この鉄粒子をさらに、MMA／st
共重合体で被覆してキヤリア材とし、電子写真用
現像剤を作つた。該現像剤を用いて、実施例１と
同一の方法により、TEC安定性およびTEC分布
安定性の評価を行つた。これらの結果は表−１に
示す。 実施例 ３ 実施例１で用いたヘキシルケテンダイマーのか
わりに、オクタデセニルケテンダイマー２部を用
いる以外は、実施例１と同様にして、該ケテンダ
イマーで被覆された鉄粒子を得た。以下、実施例
１の方法に準じて、この鉄粒子をさらにMMA／
st共重合体で被覆してキヤリア材とし、電子写真
用現像剤を作つた。該現像剤を用いて、実施例１
と同一の方法により、TEC安定性およびTEC分
布安定性の評価を行つた。これらの結果は表−１
に示す。 実施例 ４ 実施例１で用いたヘキシルケテンダイマーのか
わりに、エイコシルケテンダイマーを２部用いる
以外は、実施例１と同様にして、ケテンダイマー
で被覆された鉄粒子を得た。以下、実施例１の方
法に準じて、この鉄粒子をさらにMMA／st共重
合体で被覆してキヤリア材とし、電子写真現像剤
を作つた。該現像剤を用いて、実施例１と同一の
方法により、TEC安定性およびTEC分布安定性
の評価を行つた。これらの結果は表−１に示す。 比較例 １ 実施例１で用いた鉄粒子をケテンダイマーで被
覆せずに、実施例１で用いた流動床被覆試験機に
より、実施例１で用いたMMA／st共重合体で被
覆した。次いで、該被覆鉄粒子をキヤリア材と
し、実施例１の方法に準じて電子写真用現像剤を
作つた。該現像剤を用いて、実施例１と同一の方
法により、TEC安定性およびTEC分布安定性の
評価を行つた。これらの結果は表−１に示す。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次式（） （式中、R1及びR2は各々炭素数４〜24の炭化水
素基を表わす）で表わされるケテンダイマーで被
覆された層を有することを特徴とする電子写真用
キヤリア材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58075322A JPS59200263A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 電子写真用キヤリア材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58075322A JPS59200263A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 電子写真用キヤリア材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59200263A JPS59200263A (ja) | 1984-11-13 |
| JPH0473581B2 true JPH0473581B2 (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=13572905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58075322A Granted JPS59200263A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 電子写真用キヤリア材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59200263A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69132298T2 (de) * | 1990-07-26 | 2001-02-22 | Kyocera Mita Corp., Osaka | Elektrophotographischer Entwickler |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP58075322A patent/JPS59200263A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59200263A (ja) | 1984-11-13 |
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