JPH0473844B2 - - Google Patents
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- JPH0473844B2 JPH0473844B2 JP14205984A JP14205984A JPH0473844B2 JP H0473844 B2 JPH0473844 B2 JP H0473844B2 JP 14205984 A JP14205984 A JP 14205984A JP 14205984 A JP14205984 A JP 14205984A JP H0473844 B2 JPH0473844 B2 JP H0473844B2
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- Japan
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- lens
- refractive power
- lens group
- meniscus
- convex
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Landscapes
- Lenses (AREA)
Description
本発明は投影露光装置によつてIC、LSI等の集
積回路を製造するときの投影レンズに関し、特に
波長150nｍ〜400nｍの範囲内の短波長の輝線に
近い発光スペクトルを放射する光源を用いて集積
回路のパターンをシリコンウエハー等に焼付ける
ときに有効な投影レンズに関するものである。 従来より投影露光装置を用いIC、LSI等の集積
回路のパターンをシリコンウエハーに焼付ける為
の投影レンズには非常に高い解像力が要求されて
いる。 一般に投影レンズによる投影像の解像力は使用
する波長が短かくなればなる程良くなる為に、な
るべく短波長を放射する光源が用いられている。
例えば現在水銀灯による波長436nｍ又は365nｍ
の光が投影露光装置に多く用いられている。そし
て投影レンズには高い解像力を得る為に収差を完
全に補正した理論限界値に近い解像力が得られる
ような光学系が要求されてきている。特にパター
ンを焼付ける為に解像力は画面中心に限らず全画
面にわたり理論的な限界値に近い解像力が得られ
るように収差補正がなされている。例えば集積回
路の製造においては集積回路のパターンの焼付工
程を複数回行う為に光学的な諸収差のうち歪曲収
差はほぼ完全に補正された投影レンズが用いられ
ている。 本発明は波長150nｍ〜400nｍ程度の範囲内で
の比較的狭い発光スペクトル分布を有する光源を
用いた投影露光装置における高性能な投影レンズ
の提供を目的とする。 特に本発明においては波長248.5nｍを主たる発
光スペクトルとするエキシマレーザーを用いイン
ジエクシヨンロツキング等の手段によつて波長幅
を狭くした場合に特有の効果を発揮する投影レン
ズの提供を目的としている。 本発明の目的を達成する為の投影レンズの主た
る特徴は物体側より順に正、負そして正の屈折力
の第１、第２そして第３レンズ群の３つのレンズ
群を有し、前記第１レンズ群は負の屈折力の第１
−１レンズ群と正の屈折力の第１−２レンズ群の
２つのレンズ群を有しており、前記第１−１レン
ズ群は少なくとも２枚の物体側の面が凹面の負の
屈折力のレンズL111、L112を有し、前記第１−２
レンズ群は両レンズ面が凸面のレンズL121と物体
側の面が凸面の正の屈折力のレンズL122を有し、
前記第２レンズ群は物体側に凸面を向けた負の屈
折力のメニスカス形状のレンズL21と両レンズ面
が凹面のレンズL22と像面側に凸面を向けた負の
屈折力のメニスカス形状のレンズL23を有し、前
記第３レンズ群は像面側に凸面を向けた正の屈折
力のメニスカス形状のレンズL31と両レンズ面が
凸面のレンズL32と少なくとも２枚の物体側に凸
面を向けた正の屈折力のレンズL33と物体側の面
が凸面の少なくとも１枚の正屈折力のメニスカス
形状のレンズL34を有していることである。 本発明は前述のような構成を採ることにより良
好に収差補正を行つた投影レンズを達成してい
る。特に投影倍率1/10、撮影画角10×10mmの範囲
内において良好なる結像性能を得ている。 次に本発明の各構成要件について詳述する。 第１−１レンズ群を少なくとも２枚の像側画が
凹面の負の屈折力のレンズL111、L112、ことに望
ましくは物体側に凸面を向けた負の屈折力のメニ
スカス形状のレンズL111、L112で構成することに
より画面全体にわたり歪曲収差を良好に補正しマ
スクパターンを歪みなく焼付けることを可能とし
ている。そして第１−１レンズ群の有する負の屈
折力を２つのレンズL111、L112に適切に分担させ
ることにより広画角化を図り焼付範囲を拡大させ
てスループツトの向上を図つている。 第１−２レンズ群を両レンズ面が凸面のレンズ
L121と正の屈折力のレンズL122で構成することに
より第１−１レンズ群で発生する内向性のコマ収
差とハロー収差を補正し高解像力化を図つてい
る。 第２レンズ群を物体側に凸面を向けた負の屈折
力のメニスカス形状のレンズL21と両レンズ面が
凹面のレンズL22そして像面側に凸面を向けた負
の屈折力のメニスカス形状のレンズL23で構成す
ることにより第１−２レンズ群で発生する負の球
面収差及び画面中間から周辺にかけてのサジタル
フレアーを補正している。特にレンズL22により
第１−２レンズ群で発生する負の球面収差及びハ
ロー収差を、又レンズL21とレンスL23により画面
周辺でのサジタルフレアーを補正している。 第２レンズ群を前述の如く構成すると軸外光線
の主光線より上方側の光束が補正過剰となり外向
性のコマ収差を発生させる原因となる。そこで第
３レンズ群を像面側に凸面を向けた正の屈折力の
メニスカス形状のレンズL31と両レンズ面が凸面
のレンズL32そして少なくとも２枚の正の屈折力
のメニスカス形状のレンズL33、L34で構成するこ
とにより第２レンズ群で発生した外向性のコマ収
差と画面中間から周辺にかけての像面湾曲及び歪
曲収差を合わせてバランス良く補正している。 本発明においては更に次の諸条件を満足するの
が好ましい。 前記第１、第２そして第３レンズ群の焦点距離
を各々f1、f2、f3とし、前記第１−１レンズ群と
前記第１−２レンズ群の焦点距離を各々f11、f12
とし、前記レンズL111の焦点距離をf111としたと
き 1.9＜｜f1／f2｜＜3.7 ……(1) 0.8＜｜f2／f3｜＜1.2 ……(2) 1.1＜｜f11／f12｜＜2.3 ……(3) 1.4＜f111／f11＜2.2 ……(4) なる諸条件を満足することである。 条件(1)、(2)はレンズ性能の基本の１つとしての
各レンズ群の屈折力を適切に設定することにより
画面全体の画面湾曲を良好に補正するためであり
下限値を越えるとペツツバール和が大となり像面
が補正不足となり、上限値を越えると像面湾曲が
補正過剰となり画面全体の収差を良好に補正する
のが困難となる。 条件(3)は条件(1)、(2)の屈折力配置のもとで第１
−１レンズ群による歪曲収差の補正と第１−２レ
ンズ群による内向性のコマ収差とハロー収差の補
正と共に画面全体の像面湾曲を少なくして高解像
力化を図る為のものである。条件(3)の下限値を越
えると像面湾曲が補正不足となり又上限値を越え
ると像面湾曲が補正過剰となつてくる。 条件(4)は負の屈折力の第１−１レンズ群の物体
側のレンズL111に対する負の屈折力の分担を適切
に設定し歪曲収差を良好に補正する為である。条
件(4)の下限値を越えると歪曲収差は補正不足とな
り又上限値を越えると歪曲収差は補正過剰となつ
てくる。 尚本発明においてレンズL122は両レンズ面が凸
面であつても良く又物体側に凸面を向けたメニス
カス形状であつても良い。 本発明において第１−１レンズ群を３つ以上の
物体側に凸面を向けた負の屈折力のメニスカス形
状のレンズで構成すれば各レンズの屈折力の分担
が少なくなりコマ収差の発生が少なくなり又他の
諸収差への影響も少ないので好ましい。 第３レンズ群のレンズL33とレンズ34を３つ以
上のレンズに分割して各レンズの屈折力の負担を
少なくすれば画面全体にわたりコマ収差及び像画
湾曲を更に良好に補正することが出来より高解像
力化が達成出来る。 後述する数値実施例では使用波長幅が非常に狭
い為に単一のガラスで構成した場合を示したが使
用波長幅に応じて複数のガラス例えばCaF2、
MgF2等で構成しても良いことは当然である。 以上説明したように本発明によれば投影露光装
置において高解像力を有した高性能な投影レンズ
を達成することができる。 次に本発明の数値実施例１〜５の諸数値を示
す。数値実施例においてRiは物体側より順に第ｉ
番目のレンズ面の曲率半径、Diは物体側より順に
第ｉ番目のレンズ厚及び空気間隔、Niは物体側
より順に第ｉ番目のレンズのガラスの屈折率であ
る。 硝材のSIO2は溶融石英であり波長248.5nｍでの
屈折率は1.521130である。 数値実施例は投影倍率1/10、NA−0.35、画面
範囲10×10である。又前述の各条件式と数値実施
例における諸数値との関係を表−１に示す。 数値実施例 １
積回路を製造するときの投影レンズに関し、特に
波長150nｍ〜400nｍの範囲内の短波長の輝線に
近い発光スペクトルを放射する光源を用いて集積
回路のパターンをシリコンウエハー等に焼付ける
ときに有効な投影レンズに関するものである。 従来より投影露光装置を用いIC、LSI等の集積
回路のパターンをシリコンウエハーに焼付ける為
の投影レンズには非常に高い解像力が要求されて
いる。 一般に投影レンズによる投影像の解像力は使用
する波長が短かくなればなる程良くなる為に、な
るべく短波長を放射する光源が用いられている。
例えば現在水銀灯による波長436nｍ又は365nｍ
の光が投影露光装置に多く用いられている。そし
て投影レンズには高い解像力を得る為に収差を完
全に補正した理論限界値に近い解像力が得られる
ような光学系が要求されてきている。特にパター
ンを焼付ける為に解像力は画面中心に限らず全画
面にわたり理論的な限界値に近い解像力が得られ
るように収差補正がなされている。例えば集積回
路の製造においては集積回路のパターンの焼付工
程を複数回行う為に光学的な諸収差のうち歪曲収
差はほぼ完全に補正された投影レンズが用いられ
ている。 本発明は波長150nｍ〜400nｍ程度の範囲内で
の比較的狭い発光スペクトル分布を有する光源を
用いた投影露光装置における高性能な投影レンズ
の提供を目的とする。 特に本発明においては波長248.5nｍを主たる発
光スペクトルとするエキシマレーザーを用いイン
ジエクシヨンロツキング等の手段によつて波長幅
を狭くした場合に特有の効果を発揮する投影レン
ズの提供を目的としている。 本発明の目的を達成する為の投影レンズの主た
る特徴は物体側より順に正、負そして正の屈折力
の第１、第２そして第３レンズ群の３つのレンズ
群を有し、前記第１レンズ群は負の屈折力の第１
−１レンズ群と正の屈折力の第１−２レンズ群の
２つのレンズ群を有しており、前記第１−１レン
ズ群は少なくとも２枚の物体側の面が凹面の負の
屈折力のレンズL111、L112を有し、前記第１−２
レンズ群は両レンズ面が凸面のレンズL121と物体
側の面が凸面の正の屈折力のレンズL122を有し、
前記第２レンズ群は物体側に凸面を向けた負の屈
折力のメニスカス形状のレンズL21と両レンズ面
が凹面のレンズL22と像面側に凸面を向けた負の
屈折力のメニスカス形状のレンズL23を有し、前
記第３レンズ群は像面側に凸面を向けた正の屈折
力のメニスカス形状のレンズL31と両レンズ面が
凸面のレンズL32と少なくとも２枚の物体側に凸
面を向けた正の屈折力のレンズL33と物体側の面
が凸面の少なくとも１枚の正屈折力のメニスカス
形状のレンズL34を有していることである。 本発明は前述のような構成を採ることにより良
好に収差補正を行つた投影レンズを達成してい
る。特に投影倍率1/10、撮影画角10×10mmの範囲
内において良好なる結像性能を得ている。 次に本発明の各構成要件について詳述する。 第１−１レンズ群を少なくとも２枚の像側画が
凹面の負の屈折力のレンズL111、L112、ことに望
ましくは物体側に凸面を向けた負の屈折力のメニ
スカス形状のレンズL111、L112で構成することに
より画面全体にわたり歪曲収差を良好に補正しマ
スクパターンを歪みなく焼付けることを可能とし
ている。そして第１−１レンズ群の有する負の屈
折力を２つのレンズL111、L112に適切に分担させ
ることにより広画角化を図り焼付範囲を拡大させ
てスループツトの向上を図つている。 第１−２レンズ群を両レンズ面が凸面のレンズ
L121と正の屈折力のレンズL122で構成することに
より第１−１レンズ群で発生する内向性のコマ収
差とハロー収差を補正し高解像力化を図つてい
る。 第２レンズ群を物体側に凸面を向けた負の屈折
力のメニスカス形状のレンズL21と両レンズ面が
凹面のレンズL22そして像面側に凸面を向けた負
の屈折力のメニスカス形状のレンズL23で構成す
ることにより第１−２レンズ群で発生する負の球
面収差及び画面中間から周辺にかけてのサジタル
フレアーを補正している。特にレンズL22により
第１−２レンズ群で発生する負の球面収差及びハ
ロー収差を、又レンズL21とレンスL23により画面
周辺でのサジタルフレアーを補正している。 第２レンズ群を前述の如く構成すると軸外光線
の主光線より上方側の光束が補正過剰となり外向
性のコマ収差を発生させる原因となる。そこで第
３レンズ群を像面側に凸面を向けた正の屈折力の
メニスカス形状のレンズL31と両レンズ面が凸面
のレンズL32そして少なくとも２枚の正の屈折力
のメニスカス形状のレンズL33、L34で構成するこ
とにより第２レンズ群で発生した外向性のコマ収
差と画面中間から周辺にかけての像面湾曲及び歪
曲収差を合わせてバランス良く補正している。 本発明においては更に次の諸条件を満足するの
が好ましい。 前記第１、第２そして第３レンズ群の焦点距離
を各々f1、f2、f3とし、前記第１−１レンズ群と
前記第１−２レンズ群の焦点距離を各々f11、f12
とし、前記レンズL111の焦点距離をf111としたと
き 1.9＜｜f1／f2｜＜3.7 ……(1) 0.8＜｜f2／f3｜＜1.2 ……(2) 1.1＜｜f11／f12｜＜2.3 ……(3) 1.4＜f111／f11＜2.2 ……(4) なる諸条件を満足することである。 条件(1)、(2)はレンズ性能の基本の１つとしての
各レンズ群の屈折力を適切に設定することにより
画面全体の画面湾曲を良好に補正するためであり
下限値を越えるとペツツバール和が大となり像面
が補正不足となり、上限値を越えると像面湾曲が
補正過剰となり画面全体の収差を良好に補正する
のが困難となる。 条件(3)は条件(1)、(2)の屈折力配置のもとで第１
−１レンズ群による歪曲収差の補正と第１−２レ
ンズ群による内向性のコマ収差とハロー収差の補
正と共に画面全体の像面湾曲を少なくして高解像
力化を図る為のものである。条件(3)の下限値を越
えると像面湾曲が補正不足となり又上限値を越え
ると像面湾曲が補正過剰となつてくる。 条件(4)は負の屈折力の第１−１レンズ群の物体
側のレンズL111に対する負の屈折力の分担を適切
に設定し歪曲収差を良好に補正する為である。条
件(4)の下限値を越えると歪曲収差は補正不足とな
り又上限値を越えると歪曲収差は補正過剰となつ
てくる。 尚本発明においてレンズL122は両レンズ面が凸
面であつても良く又物体側に凸面を向けたメニス
カス形状であつても良い。 本発明において第１−１レンズ群を３つ以上の
物体側に凸面を向けた負の屈折力のメニスカス形
状のレンズで構成すれば各レンズの屈折力の分担
が少なくなりコマ収差の発生が少なくなり又他の
諸収差への影響も少ないので好ましい。 第３レンズ群のレンズL33とレンズ34を３つ以
上のレンズに分割して各レンズの屈折力の負担を
少なくすれば画面全体にわたりコマ収差及び像画
湾曲を更に良好に補正することが出来より高解像
力化が達成出来る。 後述する数値実施例では使用波長幅が非常に狭
い為に単一のガラスで構成した場合を示したが使
用波長幅に応じて複数のガラス例えばCaF2、
MgF2等で構成しても良いことは当然である。 以上説明したように本発明によれば投影露光装
置において高解像力を有した高性能な投影レンズ
を達成することができる。 次に本発明の数値実施例１〜５の諸数値を示
す。数値実施例においてRiは物体側より順に第ｉ
番目のレンズ面の曲率半径、Diは物体側より順に
第ｉ番目のレンズ厚及び空気間隔、Niは物体側
より順に第ｉ番目のレンズのガラスの屈折率であ
る。 硝材のSIO2は溶融石英であり波長248.5nｍでの
屈折率は1.521130である。 数値実施例は投影倍率1/10、NA−0.35、画面
範囲10×10である。又前述の各条件式と数値実施
例における諸数値との関係を表−１に示す。 数値実施例 １
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
第１図は本発明の数値実施例１のレンズ断面
図、第２図〜第６図は各々本発明の数値実施例１
〜５の諸収差図である。 図中，，は各々第１、第２、第３レンズ
群、11，I12は各々第１−１、第１−２レンズ
群、Ｙは像高、Ｍはメリデイオナル像面、Ｓはサ
ジタル像面である。
図、第２図〜第６図は各々本発明の数値実施例１
〜５の諸収差図である。 図中，，は各々第１、第２、第３レンズ
群、11，I12は各々第１−１、第１−２レンズ
群、Ｙは像高、Ｍはメリデイオナル像面、Ｓはサ
ジタル像面である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 物体側より順に正、負そして正の屈折力の第
１、第２そして第３レンズ群の３つのレンズ群を
有し、前記第１レンズ群は負の屈折力の第１−１
レンズ群と正の屈折力の第１−２レンズ群の２つ
のレンズ群を有しており、前記第１−１レンズ群
は少なくとも２枚の像側の面が凹面の負の屈折力
のレンズL111、L112を有し、前記第１−２レンズ
群は両レンズ面が凸面のレンズL121と物体側の面
が凸面の正の屈折力のレンズL122を有し、前記第
２レンズ群は物体側に凸面を向けた負の屈折力の
メニスカス形状のレンズL21と両レンズ面が凹面
のレンズL22と像面側に凸面を向けた負の屈折力
のメニスカス形状のレンズL23を有し、前記第３
レンズ群は像面側に凸面を向けた正の屈折力のメ
ニスカス形状のレンズL31と両レンズ面が凸面の
レンズL32と物体側に凸面を向けた正の屈折力の
レンズL33と物体側の面が凸面の少なくとも１枚
の正の屈折力のメニスカス形状のレンズL34を有
しており、前記第１、第２そして第３レンズ群の
焦点距離を各々f1、f2、f3とし、前記第１−１レ
ンズ群と前記第１−２レンズ群の焦点距離を各々
f11、f12とし、前記レンズL111の焦点距離をf111と
したとき 1.9＜｜f1／f2｜＜3.7 0.8＜｜f2／f3｜＜1.2 1.1＜｜f11／f12｜＜2.3 1.4＜f111／f11＜2.2 なる諸条件を満足することを特徴とする投影レン
ズ。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14205984A JPS6120919A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 投影レンズ |
| GB08432300A GB2153543B (en) | 1983-12-28 | 1984-12-20 | A projection exposure apparatus |
| DE3447489A DE3447489C2 (de) | 1983-12-28 | 1984-12-27 | Verfahren und Vorrichtung zur Projektionsbelichtung |
| US07/212,081 US4891663A (en) | 1983-12-28 | 1988-06-24 | Projection exposure apparatus |
| US07/212,148 US4977426A (en) | 1983-12-28 | 1988-06-24 | Projection exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14205984A JPS6120919A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 投影レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6120919A JPS6120919A (ja) | 1986-01-29 |
| JPH0473844B2 true JPH0473844B2 (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=15306459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14205984A Granted JPS6120919A (ja) | 1983-12-28 | 1984-07-09 | 投影レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6120919A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5031245B2 (ja) * | 2006-02-23 | 2012-09-19 | 三菱重工環境・化学エンジニアリング株式会社 | ロータリーアトマイザ |
-
1984
- 1984-07-09 JP JP14205984A patent/JPS6120919A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6120919A (ja) | 1986-01-29 |
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