JPH07128592A - 縮小投影レンズ - Google Patents
縮小投影レンズInfo
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- JPH07128592A JPH07128592A JP27565893A JP27565893A JPH07128592A JP H07128592 A JPH07128592 A JP H07128592A JP 27565893 A JP27565893 A JP 27565893A JP 27565893 A JP27565893 A JP 27565893A JP H07128592 A JPH07128592 A JP H07128592A
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- lens
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- lens group
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 33
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 18
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 3
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 2
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レンズ系の硝材総肉厚を薄くして透過率を向
上させることができる高解像の縮小投影レンズ。 【構成】 負の屈折力を持つ第1群Iと、正の屈折力を
持つ第2群IIと、正の屈折力を持つ第3群III との計3
群から構成され、第1群I、第2群II、及び、全系の焦
点距離をそれぞれf1 、f2 、fとしたとき、3<|f
1 /f|<5,10<f2 /f<25の条件を満足す
る。各群に少なくとも1面の非球面を有し、各非球面
は、レンズ光軸から周縁に行くに従って光軸近傍の屈折
力を弱める形状の非球面であることが望ましく、また、
各レンズを屈折率1.6以下の硝材により構成すること
が望ましい。
上させることができる高解像の縮小投影レンズ。 【構成】 負の屈折力を持つ第1群Iと、正の屈折力を
持つ第2群IIと、正の屈折力を持つ第3群III との計3
群から構成され、第1群I、第2群II、及び、全系の焦
点距離をそれぞれf1 、f2 、fとしたとき、3<|f
1 /f|<5,10<f2 /f<25の条件を満足す
る。各群に少なくとも1面の非球面を有し、各非球面
は、レンズ光軸から周縁に行くに従って光軸近傍の屈折
力を弱める形状の非球面であることが望ましく、また、
各レンズを屈折率1.6以下の硝材により構成すること
が望ましい。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、IC、LSI等の集積
回路を製造する装置に搭載される縮小投影レンズに関
し、特に、縮小投影露光法によって回路パターンの描か
れたマスクから、その回路パターンをシリコンウェハー
上に転写する際に用いられる縮小投影レンズに関するも
のである。
回路を製造する装置に搭載される縮小投影レンズに関
し、特に、縮小投影露光法によって回路パターンの描か
れたマスクから、その回路パターンをシリコンウェハー
上に転写する際に用いられる縮小投影レンズに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】一般に、投影レンズによる投影像の解像
力は、その開口数に比例し、使用する波長に反比例す
る。近年、回路パターンの高集積化が進み、それに伴っ
て解像力の良いレンズが要求されてきており、開口数を
大きくして行くとそれに比例して解像力は良くなって行
くが、焦点深度が浅くなり、焦点合わせを非常に正確に
行う必要が生じる。また、回路パターンを転写するシリ
コンウェハーの平坦度も非常に厳しい値が要求され、実
用には向かなくなってしまう。そのため、近年では、開
口数を大きくするよりも、使用波長を短くして焦点深度
を保ちつつ解像度を上げることが行われるようになっ
た。
力は、その開口数に比例し、使用する波長に反比例す
る。近年、回路パターンの高集積化が進み、それに伴っ
て解像力の良いレンズが要求されてきており、開口数を
大きくして行くとそれに比例して解像力は良くなって行
くが、焦点深度が浅くなり、焦点合わせを非常に正確に
行う必要が生じる。また、回路パターンを転写するシリ
コンウェハーの平坦度も非常に厳しい値が要求され、実
用には向かなくなってしまう。そのため、近年では、開
口数を大きくするよりも、使用波長を短くして焦点深度
を保ちつつ解像度を上げることが行われるようになっ
た。
【0003】現在では、水銀灯による436nmから3
65nmの光が使用されるようになっているが、近年、
248nmを発光スペクトルとするKrFエキシマレー
ザを使用する特開昭60−140310号や、193n
mを発光スペクトルとするArFエキシマレーザを使用
する特開平1−315709号等の提案がある。
65nmの光が使用されるようになっているが、近年、
248nmを発光スペクトルとするKrFエキシマレー
ザを使用する特開昭60−140310号や、193n
mを発光スペクトルとするArFエキシマレーザを使用
する特開平1−315709号等の提案がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、投影露光の
使用波長が250nm以下になると、使用できる硝材の
透過率の低下が少ないという観点から、硝材はSiO2
又はCaF2 に限られる。しかも、加工性等を考慮する
と、SiO2 しか使用できる硝材はなく、さらに、波長
200nm以下では、このSiO2 を使用しても透過率
が低い。従来のエキシマレーザを光源とし、SiO2 を
使用した縮小投影レンズは、レンズ枚数が多く、硝材総
肉厚が厚いので、透過率が低く、そのため、レンズの露
光光熱吸収による倍率変動やベストフォーカス変動、露
光量不足による低スループット等の問題があった。
使用波長が250nm以下になると、使用できる硝材の
透過率の低下が少ないという観点から、硝材はSiO2
又はCaF2 に限られる。しかも、加工性等を考慮する
と、SiO2 しか使用できる硝材はなく、さらに、波長
200nm以下では、このSiO2 を使用しても透過率
が低い。従来のエキシマレーザを光源とし、SiO2 を
使用した縮小投影レンズは、レンズ枚数が多く、硝材総
肉厚が厚いので、透過率が低く、そのため、レンズの露
光光熱吸収による倍率変動やベストフォーカス変動、露
光量不足による低スループット等の問題があった。
【0005】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、レンズ系の硝材総肉厚を薄く
して透過率を向上させることができる高解像の縮小投影
レンズを提供することである。
ものであり、その目的は、レンズ系の硝材総肉厚を薄く
して透過率を向上させることができる高解像の縮小投影
レンズを提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の縮小投影レンズは、物体側より順に、負の
屈折力を持つ第1レンズ群と、正の屈折力を持つ第2レ
ンズ群と、正の屈折力を持つ第3レンズ群との計3群か
ら構成され、第1レンズ群、第2レンズ群、及び、全系
の焦点距離をそれぞれf1 、f2 、fとしたとき、以下
の条件を満足することを特徴とするものである。
に、本発明の縮小投影レンズは、物体側より順に、負の
屈折力を持つ第1レンズ群と、正の屈折力を持つ第2レ
ンズ群と、正の屈折力を持つ第3レンズ群との計3群か
ら構成され、第1レンズ群、第2レンズ群、及び、全系
の焦点距離をそれぞれf1 、f2 、fとしたとき、以下
の条件を満足することを特徴とするものである。
【0007】 3<|f1 /f|<5 ・・・(1) 10<f2 /f<25 ・・・(2) この場合、各群に少なくとも1面の非球面を有し、各非
球面は、レンズ光軸から周縁に行くに従って光軸近傍の
屈折力を弱める形状の非球面であることが望ましい。ま
た、各レンズを屈折率1.6以下の硝材により構成する
ことが望ましい。
球面は、レンズ光軸から周縁に行くに従って光軸近傍の
屈折力を弱める形状の非球面であることが望ましい。ま
た、各レンズを屈折率1.6以下の硝材により構成する
ことが望ましい。
【0008】
【作用】以下、上記構成をとった理由とその作用を詳細
に説明する。縮小投影レンズとしては、高解像度と広い
露光領域を確保するために、像面湾曲をほぼ完全に補正
しなくてはならない。像面湾曲を補正するには、ペッツ
バール和を小さく抑えればよいが、そのためには、正、
負の屈折力を持つレンズを多数枚、適切な位置に配置す
ることが必要である。そのために、縮小投影レンズはレ
ンズ枚数が多くならざるを得ない。
に説明する。縮小投影レンズとしては、高解像度と広い
露光領域を確保するために、像面湾曲をほぼ完全に補正
しなくてはならない。像面湾曲を補正するには、ペッツ
バール和を小さく抑えればよいが、そのためには、正、
負の屈折力を持つレンズを多数枚、適切な位置に配置す
ることが必要である。そのために、縮小投影レンズはレ
ンズ枚数が多くならざるを得ない。
【0009】一方、縮小投影レンズの透過率を高くする
ためには、硝材総肉厚を薄くしなければならないが、そ
のためには、レンズ一枚一枚を薄くすると同時に、レン
ズ枚数を減らすことが必要である。つまり、高解像度を
確保するという条件と硝材総肉厚を薄くするという条件
を同時に満足するのは難しい。
ためには、硝材総肉厚を薄くしなければならないが、そ
のためには、レンズ一枚一枚を薄くすると同時に、レン
ズ枚数を減らすことが必要である。つまり、高解像度を
確保するという条件と硝材総肉厚を薄くするという条件
を同時に満足するのは難しい。
【0010】本発明の縮小投影レンズは、少ないレンズ
枚数で効果的にペッツバール和を小さくするために、物
体面に近く光線高の低い位置に配置した第1レンズ群の
負の屈折力により、大きく負のペッツバール値を発生さ
せ、これ以降の像面側の光線高の高い位置に配置した第
2レンズ群、第3レンズ群の正の屈折力により正のペッ
ツバール和を小さくする構成をとっている。本構成をと
ることによって、少ないレンズ枚数でペッツバール和を
小さくすることが可能となる。
枚数で効果的にペッツバール和を小さくするために、物
体面に近く光線高の低い位置に配置した第1レンズ群の
負の屈折力により、大きく負のペッツバール値を発生さ
せ、これ以降の像面側の光線高の高い位置に配置した第
2レンズ群、第3レンズ群の正の屈折力により正のペッ
ツバール和を小さくする構成をとっている。本構成をと
ることによって、少ないレンズ枚数でペッツバール和を
小さくすることが可能となる。
【0011】|f1 /f|とf2 /fについての条件式
は、各レンズ群の屈折力を制限するものであり、高解像
の投影レンズを達成するために必要な構成要件である。
この場合、|f1 /f|が5以上であると、第1レンズ
群の屈折力が小さくなりすぎ、全体のパッツバール和を
小さく抑えられず、また、3以下であると、負の屈折力
が大きくなることによって第1レンズ群の面の曲率がき
つくなり、諸収差の発生が大きくなる。また、f2 /f
が25以上であると、少ない枚数の正の屈折力のレンズ
で光線を結像させることができず、また、10以下であ
ると、正の屈折力が大きくなることによって負の球面収
差の発生が大きくなる。
は、各レンズ群の屈折力を制限するものであり、高解像
の投影レンズを達成するために必要な構成要件である。
この場合、|f1 /f|が5以上であると、第1レンズ
群の屈折力が小さくなりすぎ、全体のパッツバール和を
小さく抑えられず、また、3以下であると、負の屈折力
が大きくなることによって第1レンズ群の面の曲率がき
つくなり、諸収差の発生が大きくなる。また、f2 /f
が25以上であると、少ない枚数の正の屈折力のレンズ
で光線を結像させることができず、また、10以下であ
ると、正の屈折力が大きくなることによって負の球面収
差の発生が大きくなる。
【0012】さらに、第3レンズ群の前側焦点位置をf
3Fとし、第2レンズ群の後側主点を基準としたf3Fとの
距離をdS としたとき、以下の条件を満足することが望
ましい。
3Fとし、第2レンズ群の後側主点を基準としたf3Fとの
距離をdS としたとき、以下の条件を満足することが望
ましい。
【0013】 −0.1<dS /f2 <0.2 ・・・(3) 式(3)の符号は、第2レンズ群の後側主点よりもf3F
が像面側にあるときをプラス、物体側にあるときをマイ
ナスとする。本発明のような縮小投影レンズにおいて
は、像面のディフォーカスや像面の平坦性の悪さによる
像の倍率変動を抑えるために、射出側テレセントリック
であることが一般的である。本発明の場合、f3Fは瞳位
置に一致する。つまり、上記条件は第2レンズ群と瞳位
置との関係を規定するものである。−0.1>dS /f
2 となると、第2レンズ群で内コマ収差が生じ、第1レ
ンズ群で生ずる内コマ収差と相乗し、第3レンズ群での
コマ収差補正を困難にする。一方、dS /f2 >0.2
では、外コマ収差が強く発生し過ぎ、第3レンズ群の非
球面は後述する通り、球面収差を補正すると共に外コマ
収差を作り出す作用を持つが、第1レンズ群の発生する
内コマ収差以上に、第2、第3レンズ群の外コマ収差が
増え、全体として外コマ収差が残ってしまう。
が像面側にあるときをプラス、物体側にあるときをマイ
ナスとする。本発明のような縮小投影レンズにおいて
は、像面のディフォーカスや像面の平坦性の悪さによる
像の倍率変動を抑えるために、射出側テレセントリック
であることが一般的である。本発明の場合、f3Fは瞳位
置に一致する。つまり、上記条件は第2レンズ群と瞳位
置との関係を規定するものである。−0.1>dS /f
2 となると、第2レンズ群で内コマ収差が生じ、第1レ
ンズ群で生ずる内コマ収差と相乗し、第3レンズ群での
コマ収差補正を困難にする。一方、dS /f2 >0.2
では、外コマ収差が強く発生し過ぎ、第3レンズ群の非
球面は後述する通り、球面収差を補正すると共に外コマ
収差を作り出す作用を持つが、第1レンズ群の発生する
内コマ収差以上に、第2、第3レンズ群の外コマ収差が
増え、全体として外コマ収差が残ってしまう。
【0014】また、別に、本構成の縮小投影レンズは、
各群に少なくとも1面の非球面を有することが望まし
い。これは、少ないレンズ枚数の上記構成では補正しき
れない諸収差を補正するためである。第1レンズ群の非
球面は、ここで発生する正の歪曲収差を補正するために
用いる。第2レンズ群の非球面は、構成レンズエレメン
トが少ないことによる負の球面収差を補正するために用
いる。第3レンズ群の非球面は、第1レンズ群で発生し
た内コマ収差を補正するためと、本レンズ群自身で発生
する球面収差を補正するために用いる。さらには、これ
らの非球面は、レンズ光軸から周縁に行くに従って光軸
近傍の屈折力を弱める形状の非球面であることが好まし
い。
各群に少なくとも1面の非球面を有することが望まし
い。これは、少ないレンズ枚数の上記構成では補正しき
れない諸収差を補正するためである。第1レンズ群の非
球面は、ここで発生する正の歪曲収差を補正するために
用いる。第2レンズ群の非球面は、構成レンズエレメン
トが少ないことによる負の球面収差を補正するために用
いる。第3レンズ群の非球面は、第1レンズ群で発生し
た内コマ収差を補正するためと、本レンズ群自身で発生
する球面収差を補正するために用いる。さらには、これ
らの非球面は、レンズ光軸から周縁に行くに従って光軸
近傍の屈折力を弱める形状の非球面であることが好まし
い。
【0015】また、別に、本構成の縮小投影レンズは、
屈折率1.6以下の硝材で構成することが好ましい。こ
れは、エキシマレーザのようなスペクトル幅が非常に狭
い光を使用するに当たり、レンズの色収差を考慮しなく
てもよく、色収差補正のために屈折率が1.6以上の硝
材を使用する必要がないからである。
屈折率1.6以下の硝材で構成することが好ましい。こ
れは、エキシマレーザのようなスペクトル幅が非常に狭
い光を使用するに当たり、レンズの色収差を考慮しなく
てもよく、色収差補正のために屈折率が1.6以上の硝
材を使用する必要がないからである。
【0016】
【実施例】以下、本発明の縮小投影レンズの実施例1〜
4について説明する。図1〜図4にそれぞれ実施例1〜
4のレンズ断面図を示すが、何れの実施例においても、
倍率は1/5、開口数は0.45、物像間距離は100
0mm、露光領域は10×10mmであり、硝材は全て
SiO2 からなる。なお、これらの実施例のレンズデー
タは後記する。
4について説明する。図1〜図4にそれぞれ実施例1〜
4のレンズ断面図を示すが、何れの実施例においても、
倍率は1/5、開口数は0.45、物像間距離は100
0mm、露光領域は10×10mmであり、硝材は全て
SiO2 からなる。なお、これらの実施例のレンズデー
タは後記する。
【0017】まず、本発明の実施例1について説明す
る。図1において、第1群Iは物体側に凸面を向けた負
のメニスカスレンズ1枚から、第2群IIは両凸レンズ1
枚と物体側に凸面を向けた正のメニスカスレンズ1枚の
計2枚から、第3群III は像側に凹面を向けた正のメニ
スカスレンズ2枚と像側に凹面を向けたパワーレスのメ
ニスカスレンズ1枚の計3枚からなる。
る。図1において、第1群Iは物体側に凸面を向けた負
のメニスカスレンズ1枚から、第2群IIは両凸レンズ1
枚と物体側に凸面を向けた正のメニスカスレンズ1枚の
計2枚から、第3群III は像側に凹面を向けた正のメニ
スカスレンズ2枚と像側に凹面を向けたパワーレスのメ
ニスカスレンズ1枚の計3枚からなる。
【0018】この実施例1と次に述べる実施例2は、特
に、第3群III の最も像面に近いところに像側に凹面を
向けたパワーレスのメニスカスレンズ1枚を配置してい
るが、この場合、高次のコマ収差を補正するために、少
なくともその1面に非球面を用いるのがさらに好まし
い。さらに、このパワーレスのメニスカスレンズの焦点
距離をf33としたとき、以下の条件を満足することが好
ましい。 2000(mm)<|f33| ・・・(4) |f33|が2000mm以下であると、球面成分で低次
のコマ収差が発生してしまう。
に、第3群III の最も像面に近いところに像側に凹面を
向けたパワーレスのメニスカスレンズ1枚を配置してい
るが、この場合、高次のコマ収差を補正するために、少
なくともその1面に非球面を用いるのがさらに好まし
い。さらに、このパワーレスのメニスカスレンズの焦点
距離をf33としたとき、以下の条件を満足することが好
ましい。 2000(mm)<|f33| ・・・(4) |f33|が2000mm以下であると、球面成分で低次
のコマ収差が発生してしまう。
【0019】次に、本発明の実施例2について説明す
る。図2において、第1群Iは物体側に凸面を向けた負
のメニスカスレンズ1枚から、第2群IIは物体側に凸面
を向けた正のメニスカスレンズ1枚から、第3群III は
両凸レンズ1枚と像側に凹面を向けた正のメニスカスレ
ンズ1枚と像側に凹面を向けたパワーレスのメニスカス
レンズ1枚の計3枚からなる。第3群III の像側に凹面
を向けたパワーレスのメニスカスレンズについては、実
施例1と同様の作用を持つ。
る。図2において、第1群Iは物体側に凸面を向けた負
のメニスカスレンズ1枚から、第2群IIは物体側に凸面
を向けた正のメニスカスレンズ1枚から、第3群III は
両凸レンズ1枚と像側に凹面を向けた正のメニスカスレ
ンズ1枚と像側に凹面を向けたパワーレスのメニスカス
レンズ1枚の計3枚からなる。第3群III の像側に凹面
を向けたパワーレスのメニスカスレンズについては、実
施例1と同様の作用を持つ。
【0020】次に、本発明の実施例3については、図3
において、第1群Iは物体側に凸面を向けた負のメニス
カスレンズ1枚から、第2群IIは物体側に凸面を向けた
正のメニスカスレンズ1枚から、第3群III は両凸レン
ズ1枚と像側に凹面を向けた正のメニスカスレンズ1枚
からなる。
において、第1群Iは物体側に凸面を向けた負のメニス
カスレンズ1枚から、第2群IIは物体側に凸面を向けた
正のメニスカスレンズ1枚から、第3群III は両凸レン
ズ1枚と像側に凹面を向けた正のメニスカスレンズ1枚
からなる。
【0021】本発明の実施例4については、図4におい
て、第1群Iは物体側に凸面を向けた負のメニスカスレ
ンズ1枚から、第2群IIは物体側に凸面を向けた正のメ
ニスカスレンズ1枚から、第3群III は両凸レンズ1枚
と像側に凹面を向けた正のメニスカスレンズ1枚からな
る。
て、第1群Iは物体側に凸面を向けた負のメニスカスレ
ンズ1枚から、第2群IIは物体側に凸面を向けた正のメ
ニスカスレンズ1枚から、第3群III は両凸レンズ1枚
と像側に凹面を向けた正のメニスカスレンズ1枚からな
る。
【0022】以下に各実施例のレンズデータを示すが、
レンズデータ中、R1 、R2 、・・・は各レンズ面の曲
率半径、d1 、d2 ・・・は各レンズ面間の間隔、
n1 、n2 、・・・は各レンズの193nmでの屈折率
であり、また、非球面形状は光軸方向をx、光軸に直交
する方向をyとしたとき、次式で表される。 x=(y2 /r)/ [1+{1−(y2 /r2 ) }
1/2 ]+Ay4 +By6 +Cy8 +Dy10 ただし、rは近軸曲率半径、A、B、C、Dはそれぞれ
4次、6次、8次、10次の非球面係数である。
レンズデータ中、R1 、R2 、・・・は各レンズ面の曲
率半径、d1 、d2 ・・・は各レンズ面間の間隔、
n1 、n2 、・・・は各レンズの193nmでの屈折率
であり、また、非球面形状は光軸方向をx、光軸に直交
する方向をyとしたとき、次式で表される。 x=(y2 /r)/ [1+{1−(y2 /r2 ) }
1/2 ]+Ay4 +By6 +Cy8 +Dy10 ただし、rは近軸曲率半径、A、B、C、Dはそれぞれ
4次、6次、8次、10次の非球面係数である。
【0023】実施例1 R1 = 149.072 d1 = 4 n1 =1.56 R2 = 53.071(非球面) d2 = 580.412 R3 = 685.808 d3 = 12.808 n2 =1.56 R4 = -855.88 d4 = 0.08 R5 = 332.732 d5 = 10.304 n3 =1.56 R6 = 970.134(非球面) d6 = 196.429 R7 = 236.31 d7 = 10.938 n4 =1.56 R8 = 1175.523 d8 = 0.714 R9 = 87.26 d9 = 42.891 n5 =1.56 R10= 194.005 d10= 53.429 R11= 68.841(非球面) d11= 13.136 n6 =1.56 R12= 59.862 非球面係数 第2面 A=-0.105×10-5 B=-0.126×10-9 C=-0.242×10-13 D=-0.176×10-16 第6面 A= 0.986×10-8 B= 0.485×10-13 C= 0.116×10-17 D= 0.44 ×10-22 第11面 A=-0.745×10-6 B=-0.359×10-9 C=-0.115×10-12 D=-0.595×10-17
。
。
【0024】実施例2 R1 = 1736.215 d1 = 5.866 n1 =1.56 R2 = 68.889(非球面) d2 = 543.701 R3 = 263.312 d3 = 11.509 n2 =1.56 R4 = 819.653(非球面) d4 = 165.728 R5 = 220.315 d5 = 22.409 n3 =1.56 R6 = -1415.823 d6 = 49.904 R7 = 106.825 d7 = 37.488 n4 =1.56 R8 = 254.313 d8 = 46.233 R9 = 96.597(非球面) d9 = 6.904 n5 =1.56 R10= 103.38 非球面係数 第2面 A=-0.639×10-6 B=-0.155×10-10 C=-0.103×10-13 D= 0.563×10-18 第4面 A= 0.223×10-7 B= 0.151×10-12 C= 0.241×10-17 D= 0.209×10-21 第9面 A=-0.277×10-6 B=-0.522×10-10 C=-0.497×10-14 D= 0.69 ×10-18
。
。
【0025】実施例3 R1 = 6336.701 d1 = 4 n1 =1.56 R2 = 65.016(非球面) d2 = 561.539 R3 = 261.005 d3 = 15.817 n2 =1.56 R4 = ∞ (非球面) d4 = 176.959 R5 = 232.483 d5 = 20.768 n3 =1.56 R6 = -632.184 d6 = 40.867 R7 = 126.144 d7 = 28.872 n4 =1.56 R8 = 413.522(非球面) 非球面係数 第2面 A=-0.779×10-6 B=-0.179×10-10 C=-0.182×10-13 D= 0.307×10-17 第4面 A= 0.268×10-7 B= 0.792×10-13 C= 0.250×10-17 D= 0.155×10-21 第8面 A= 0.438×10-7 B= 0.215×10-12 C= 0.424×10-16 D= 0.645×10-20
。
。
【0026】実施例4 R1 = 7761.76 d1 = 4 n1 =1.56 R2 = 65.426(非球面) d2 = 566.358 R3 = 260.181 d3 = 14.689 n2 =1.56 R4 = 3358.89 (非球面) d4 = 167.605 R5 = 217.213 d5 = 21.986 n3 =1.56 R6 = -768.035(非球面) d6 = 44.28 R7 = 137.413 d7 = 26.994 n4 =1.56 R8 = 634.5 (非球面) 非球面係数 第2面 A=-0.777×10-6 B=-0.144×10-10 C=-0.182×10-13 D= 0.307×10-17 第4面 A= 0.275×10-7 B= 0.13 ×10-12 C= 0.417×10-17 D= 0.175×10-21 第6面 A= 0.523×10-9 B=-0.25 ×10-12 C= 0.951×10-17 D=-0.425×10-22 第8面 A= 0.484×10-7 B= 0.678×10-12 C= 0.114×10-16 D= 0.534×10-20
。
。
【0027】次に、上記実施例1〜4の球面収差、非点
収差、歪曲収差、横収差を表す収差図をそれぞれ図5〜
図8に示す。図中、Yは像高比、Mはメリジオナル像
面、Sはサジタル像面を示す。また、各実施例の条件式
(1)〜(3)の値を次表に示す。
収差、歪曲収差、横収差を表す収差図をそれぞれ図5〜
図8に示す。図中、Yは像高比、Mはメリジオナル像
面、Sはサジタル像面を示す。また、各実施例の条件式
(1)〜(3)の値を次表に示す。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レンズ系の硝材総肉厚が薄く、透過率の良い、高解像の
縮小投影レンズを得ることができる。
レンズ系の硝材総肉厚が薄く、透過率の良い、高解像の
縮小投影レンズを得ることができる。
【図1】本発明の縮小投影レンズの実施例1のレンズ断
面図である。
面図である。
【図2】実施例2のレンズ断面図である。
【図3】実施例3のレンズ断面図である。
【図4】実施例4のレンズ断面図である。
【図5】実施例1の球面収差、非点収差、歪曲収差、横
収差を表す収差図である。
収差を表す収差図である。
【図6】実施例2の球面収差、非点収差、歪曲収差、横
収差を表す収差図である。
収差を表す収差図である。
【図7】実施例3の球面収差、非点収差、歪曲収差、横
収差を表す収差図である。
収差を表す収差図である。
【図8】実施例4の球面収差、非点収差、歪曲収差、横
収差を表す収差図である。
収差を表す収差図である。
I …第1レンズ群 II …第2レンズ群 III …第3レンズ群
Claims (3)
- 【請求項1】 物体側より順に、負の屈折力を持つ第1
レンズ群と、正の屈折力を持つ第2レンズ群と、正の屈
折力を持つ第3レンズ群との計3群から構成され、第1
レンズ群、第2レンズ群、及び、全系の焦点距離をそれ
ぞれf1 、f2 、fとしたとき、以下の条件を満足する
ことを特徴とする縮小投影レンズ。 3<|f1 /f|<5 ・・・(1) 10<f2 /f<25 ・・・(2) - 【請求項2】 各群に少なくとも1面の非球面を有し、
各非球面は、レンズ光軸から周縁に行くに従って光軸近
傍の屈折力を弱める形状の非球面であることを特徴とす
る請求項1記載の縮小投影レンズ。 - 【請求項3】 各レンズを屈折率1.6以下の硝材によ
り構成することを特徴とする請求項1記載の縮小投影レ
ンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27565893A JPH07128592A (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | 縮小投影レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27565893A JPH07128592A (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | 縮小投影レンズ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07128592A true JPH07128592A (ja) | 1995-05-19 |
Family
ID=17558539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27565893A Withdrawn JPH07128592A (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | 縮小投影レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07128592A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6008884A (en) * | 1997-04-25 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Projection lens system and apparatus |
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| US6459534B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method |
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| US11163134B2 (en) | 2018-12-20 | 2021-11-02 | Largan Precision Co., Ltd. | Imaging lens system, identification module and electronic device |
| US12541081B2 (en) | 2017-04-14 | 2026-02-03 | Largan Precision Co., Ltd. | Photographing lens assembly, image capturing unit and electronic device |
-
1993
- 1993-11-04 JP JP27565893A patent/JPH07128592A/ja not_active Withdrawn
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| US11163134B2 (en) | 2018-12-20 | 2021-11-02 | Largan Precision Co., Ltd. | Imaging lens system, identification module and electronic device |
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