JPH0473983A - レーザパルスストレッチャー - Google Patents
レーザパルスストレッチャーInfo
- Publication number
- JPH0473983A JPH0473983A JP18535190A JP18535190A JPH0473983A JP H0473983 A JPH0473983 A JP H0473983A JP 18535190 A JP18535190 A JP 18535190A JP 18535190 A JP18535190 A JP 18535190A JP H0473983 A JPH0473983 A JP H0473983A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical
- condenser lens
- optical fiber
- incident
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明はレーザ光のパルス幅を任意に変更するレーザパ
ルスストレッチャーに関する。
ルスストレッチャーに関する。
（従来の技術）
たとえば色素レーザシステムでは、金属（銅）蒸気レー
ザ発振装置からのパルスレーザ光でレーザ物質である色
素を励起し、出力した色素レーザ光を増幅する際、パル
ス幅を延ばすことが行われている。このようなパルス幅
の変更は特開昭６４４４９１６号等に開示され、それは
第２図に示すように、パルス発振された入射光Ｌｌを反
射光Ｌ２と透過光Ｌ３とに分岐し、さらに反射光Ｌ２を
入射面（１）の反対面（２）で部分的に反射して上記透
過光Ｌ３との合成光Ｌ４とする光学体（３）と、反射光
Ｌ２を直角に反射させて反対面（２）に入射させる４枚
の高反射平面鏡（４）乃至（７）で構成された装置で行
われている。第２図において、反射光Ｌ２は高反射平面
鏡（４）乃至（７）の反射光路の長さ分時間的に遅延さ
れ、入射光Ｌｌの元のパルス幅の変更は、この遅延時間
と光学体（３）の入射面（１）および反対面（２）の各
反射率（透過率）によって決められる。
ザ発振装置からのパルスレーザ光でレーザ物質である色
素を励起し、出力した色素レーザ光を増幅する際、パル
ス幅を延ばすことが行われている。このようなパルス幅
の変更は特開昭６４４４９１６号等に開示され、それは
第２図に示すように、パルス発振された入射光Ｌｌを反
射光Ｌ２と透過光Ｌ３とに分岐し、さらに反射光Ｌ２を
入射面（１）の反対面（２）で部分的に反射して上記透
過光Ｌ３との合成光Ｌ４とする光学体（３）と、反射光
Ｌ２を直角に反射させて反対面（２）に入射させる４枚
の高反射平面鏡（４）乃至（７）で構成された装置で行
われている。第２図において、反射光Ｌ２は高反射平面
鏡（４）乃至（７）の反射光路の長さ分時間的に遅延さ
れ、入射光Ｌｌの元のパルス幅の変更は、この遅延時間
と光学体（３）の入射面（１）および反対面（２）の各
反射率（透過率）によって決められる。
（発明が解決しようとする課題）
上記従来の構成では、遅延時間を変更するには高反射平
面鏡（４）乃至（７）の各間隔を変更することになるが
、変更した場合の光学調整に時間がかかるという問題が
あった。また、たとえば２０ｎｓｅｃずつ遅延をとって
パルスを重ね会わせてパルス幅を広げようとした場合、
空気中の光束はおよそ３Ｘ１０８ （ｍ／Ｓ）であるの
で、２０ｎｓｅｃの遅延時間を得るためには約６ｍの距
離が必要である。このような距離を高反射平面鏡（４）
乃至（７）で構成すると占有面積が極めて広くなってし
まう問題があった。本発明はこのような問題を解決する
ためになされたもので、面倒な光学調整を必要とせずま
た、場所のとらないパルス幅変更装置を提供することを
目的とする。
面鏡（４）乃至（７）の各間隔を変更することになるが
、変更した場合の光学調整に時間がかかるという問題が
あった。また、たとえば２０ｎｓｅｃずつ遅延をとって
パルスを重ね会わせてパルス幅を広げようとした場合、
空気中の光束はおよそ３Ｘ１０８ （ｍ／Ｓ）であるの
で、２０ｎｓｅｃの遅延時間を得るためには約６ｍの距
離が必要である。このような距離を高反射平面鏡（４）
乃至（７）で構成すると占有面積が極めて広くなってし
まう問題があった。本発明はこのような問題を解決する
ためになされたもので、面倒な光学調整を必要とせずま
た、場所のとらないパルス幅変更装置を提供することを
目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段と作用）
入射面およびこの入射面の反対面とがともに部分反射面
になり、入射光を入射方向以外の方向に反射させる角度
に設けられた光学体と、上記入射面での反射光を集光す
る第１の集光レンズと、この第１の集光レンズの集光さ
れた光を伝送する光ファイバと、この光ファイバから出
光した光を上記反対面における上記入射面での反射光お
よび透過光に重畳みさせる面に集光する第２の集光レン
ズとを備えた構成としたもので、装置自体の占有面積が
減少した。
になり、入射光を入射方向以外の方向に反射させる角度
に設けられた光学体と、上記入射面での反射光を集光す
る第１の集光レンズと、この第１の集光レンズの集光さ
れた光を伝送する光ファイバと、この光ファイバから出
光した光を上記反対面における上記入射面での反射光お
よび透過光に重畳みさせる面に集光する第２の集光レン
ズとを備えた構成としたもので、装置自体の占有面積が
減少した。
（実施例）
以下、実施例を示す図面に基づいて本発明を説明する。
なお、第２図と共通する部分には同一符号を付し、重複
を避ける意味でその部分の説明は省略する。すなわち、
第２図に示した従来技術とは、高反射平面鏡（４）乃至
（７）の部分の構成を光ファイバ（１０）と、この光フ
ァイ／１１０）の一端面に反射光Ｌ２を入射させる第１
の集光レンズ（１１）と、光ファイバ（Ｉ［ｌｌで伝送
され他端面から出光した反射光Ｌ２を光学体（３）の反
対面（２）に集光する第２の集光レンズ（１２）とで構
成した点にある。
を避ける意味でその部分の説明は省略する。すなわち、
第２図に示した従来技術とは、高反射平面鏡（４）乃至
（７）の部分の構成を光ファイバ（１０）と、この光フ
ァイ／１１０）の一端面に反射光Ｌ２を入射させる第１
の集光レンズ（１１）と、光ファイバ（Ｉ［ｌｌで伝送
され他端面から出光した反射光Ｌ２を光学体（３）の反
対面（２）に集光する第２の集光レンズ（１２）とで構
成した点にある。
次に、上記の構成の作用について説明する。入射光Ｌ１
のパルス幅をＴ１ピーク値を１、光学体（３）の入射面
（１）および反対面（２）のそれぞれの反射率を共にＲ
１パルスどうしの遅延時間をΔｔとする。入射光Ｌ１の
一部は入射面（１）で反射し、ピーク値がＲになる反射
光Ｌ２は第１の集光レンズ（１１）で集光され光ファイ
バ（１０）に入射し、ピーク値が（１−Ｒ）になる透過
光Ｌ３は第１の出射光となる。反射光Ｌ２は光ファイバ
（１０）を出光し第２の集光レンズ（１２）を経て反対
面（２）で反射と透過が行われ、その反射光はピーク値
Ｒ２を有し第２の出射光となって上記第１の出射光にΔ
ｔだけ遅れて重なり合う。一方、反対面（２）を透過し
た光はピーク値が（１−Ｒ）Ｒとなり、光ファイバ（１
０）で伝送され、反対面（２）で反射と透過が繰り返さ
れる。このような反射と透過の繰り返しで光パルスの波
形はΔｔずつ遅れて重なり合い、出射光のピーク値は（
１−Ｒ）、ＲＲ（１−Ｒ）、Ｒ（１−Ｒ） ・・
・、Ｒ２（１−Ｒ）“ となり、全体としてみた光パル
ス波形はそれぞれの出射パルス波形の和になる。したが
って、反射率Ｒと遅延時間との選択でパルス幅を変化さ
せられる。光ファイバ（１０）が石英の場合、光の速度
はおよそ、２．ｌＸＩＯ３［ｍ／ｓ］ となり、２０ｎ
ｓｅｃの遅延時間を得たい場合、光ファイバ（ＩＣ）の
長さを約１０ｍにすればよい。
のパルス幅をＴ１ピーク値を１、光学体（３）の入射面
（１）および反対面（２）のそれぞれの反射率を共にＲ
１パルスどうしの遅延時間をΔｔとする。入射光Ｌ１の
一部は入射面（１）で反射し、ピーク値がＲになる反射
光Ｌ２は第１の集光レンズ（１１）で集光され光ファイ
バ（１０）に入射し、ピーク値が（１−Ｒ）になる透過
光Ｌ３は第１の出射光となる。反射光Ｌ２は光ファイバ
（１０）を出光し第２の集光レンズ（１２）を経て反対
面（２）で反射と透過が行われ、その反射光はピーク値
Ｒ２を有し第２の出射光となって上記第１の出射光にΔ
ｔだけ遅れて重なり合う。一方、反対面（２）を透過し
た光はピーク値が（１−Ｒ）Ｒとなり、光ファイバ（１
０）で伝送され、反対面（２）で反射と透過が繰り返さ
れる。このような反射と透過の繰り返しで光パルスの波
形はΔｔずつ遅れて重なり合い、出射光のピーク値は（
１−Ｒ）、ＲＲ（１−Ｒ）、Ｒ（１−Ｒ） ・・
・、Ｒ２（１−Ｒ）“ となり、全体としてみた光パル
ス波形はそれぞれの出射パルス波形の和になる。したが
って、反射率Ｒと遅延時間との選択でパルス幅を変化さ
せられる。光ファイバ（１０）が石英の場合、光の速度
はおよそ、２．ｌＸＩＯ３［ｍ／ｓ］ となり、２０ｎ
ｓｅｃの遅延時間を得たい場合、光ファイバ（ＩＣ）の
長さを約１０ｍにすればよい。
［発明の効果］
光の遅延を光ファイバで行ったので、従来の平面鏡のよ
うな面倒な光学調整が不要となった。また、遅延させる
ための距離を短縮でき巻き上げた状態で設置可能なこと
から、従来に比べて占有面積を著しく狭めることができ
た。
うな面倒な光学調整が不要となった。また、遅延させる
ための距離を短縮でき巻き上げた状態で設置可能なこと
から、従来に比べて占有面積を著しく狭めることができ
た。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
例を示す構成図である。 （３）・・・光学体 （１０）・・９光ファイバ （１１）・・・第１の集光レンズ （１２）・・・第２の集光レンズ
例を示す構成図である。 （３）・・・光学体 （１０）・・９光ファイバ （１１）・・・第１の集光レンズ （１２）・・・第２の集光レンズ
Claims (1)
- 入射面およびこの入射面の反対面とがともに部分反射面
になり、入射光を入射方向以外の方向に反射させる角度
に設けられた光学体と、上記入射面での反射光を集光す
る第１の集光レンズと、この第１の集光レンズの集光さ
れた光を伝送する光ファイバと、この光ファイバから出
光した光を上記反対面における上記入射面での反射光お
よび透過光に重畳みさせる面に集光する第２の集光レン
ズとを備えたことを特徴とするレーザパルスストレッチ
ャー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18535190A JPH0473983A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | レーザパルスストレッチャー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18535190A JPH0473983A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | レーザパルスストレッチャー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0473983A true JPH0473983A (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=16169271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18535190A Pending JPH0473983A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | レーザパルスストレッチャー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0473983A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6389045B1 (en) | 1999-04-19 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Optical pulse stretching and smoothing for ArF and F2 lithography excimer lasers |
| CN103427316A (zh) * | 2013-08-22 | 2013-12-04 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光脉冲拉伸装置 |
| JPWO2018020564A1 (ja) * | 2016-07-26 | 2019-05-09 | ギガフォトン株式会社 | レーザシステム |
-
1990
- 1990-07-16 JP JP18535190A patent/JPH0473983A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6389045B1 (en) | 1999-04-19 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Optical pulse stretching and smoothing for ArF and F2 lithography excimer lasers |
| CN103427316A (zh) * | 2013-08-22 | 2013-12-04 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光脉冲拉伸装置 |
| CN103427316B (zh) * | 2013-08-22 | 2015-09-16 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光脉冲拉伸装置 |
| JPWO2018020564A1 (ja) * | 2016-07-26 | 2019-05-09 | ギガフォトン株式会社 | レーザシステム |
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