JPH047492Y2 - - Google Patents

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JPH047492Y2
JPH047492Y2 JP81486U JP81486U JPH047492Y2 JP H047492 Y2 JPH047492 Y2 JP H047492Y2 JP 81486 U JP81486 U JP 81486U JP 81486 U JP81486 U JP 81486U JP H047492 Y2 JPH047492 Y2 JP H047492Y2
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helium gas
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は高圧ヘリウムガスを冷却媒体として使
用し、極低温温度において寒冷を発生する蓄冷器
式冷凍機の改良に関するものである。
[従来の技術] 従来から冷凍機の1つとして、高圧ヘリウムガ
ス等を冷却媒体として使用する蓄冷器式冷凍機が
多く採用されてきている。
第4図は、この種のギフオード・マクマホン式
の蓄冷器式冷凍機の概略構成例を断面図にて示し
たものである。第4図において、1は冷却媒体と
しての高圧ヘリウムガスを供給する圧縮機、2は
高圧ヘリウムガス配管、3は低圧ヘリウムガス配
管、4,5はそれぞれ高圧ヘリウムガス配管2,
低圧ヘリウムガス配管3とのコネクタ、6はモー
タハウジング、7はモータ、8はモータ軸、9は
ヘリウムガスを制御する制御バルブ、10はモー
タハウジング6を支持する支持台、11はヘリウ
ムガスの流れを制御バルブ9と組合わせて制御す
る制御ブロツク、12,13はヘリウムガスの通
路、14はシール、15はデイスプレーサの往復
動を制御するサブピストン、16はシール、17
はヘリウムガスの通路、18は第一段デイスプレ
ーサ、19は第一段蓄冷器であり通常銅製の金網
を重ねたもの等が使用される。また、20は第一
段シリンダ、21はヘリウムガスの通路、22は
第一段寒冷発生区間、23は被冷却物を取付ける
第一段ヒートステーシヨン、24はシール、25
は第二段シリンダ、26は第二段蓄冷器であり通
常直径1mm以下の鉛球等が充填されている。さら
に、27は第二段デイスプレーサ、28はヘリウ
ムガスの通路、29は被冷却物を取付ける第二段
ヒートステーシヨン、30は第二段寒冷発生区
間、31はサブピストン15を駆動するためのヘ
リウムガス空間である。
かかる構成の蓄冷器式冷凍機において、圧縮機
1で高圧化された常温のヘリウムガスは、高圧ヘ
リウムガス配管2,コネクタ4を通つてモータハ
ウジング6内部に入る。一方、モータ7の回転に
伴いロータリ式の制御バルブ9と制御ブロツク1
1とによつて高圧ヘリウムガスの通路が、および
サブピストン15によつてデイスプレーサの動き
が夫々制御される。また、上記高圧ヘリウムガス
はヘリウムガスの通路13,17を通つて第一段
蓄冷器19で冷却され、ヘリウムガスの通路21
を通つて一部は第一段寒冷発生区間22に貯えら
れる。さらに、残りの高圧ヘリウムガスは第二段
蓄冷器26を通つて更に冷却され、ヘリウムガス
の通路28を通つて第二段寒冷発生区間30に貯
えられる。
第4図は、各デイスプレーサ18,27が最上
部に位置する場合であり、第一段寒冷発生区間2
2と第二段寒冷発生区間30には、高圧で極低温
のヘリウムガスが貯えられた状態である。ここ
で、モータ7の回転によつて制御バルブ9が回転
し、夫々の寒冷発生区間22,30は圧縮機1の
低圧ヘリウムガス配管3と連なる。その結果、
夫々の寒冷発生区間22,30のヘリウムガスは
断熱膨張を行ない、さらに低温となつて寒冷を発
生する。その後、夫々の寒冷発生区間22,30
にある低圧ヘリウムガスの寒冷を第一段蓄冷器1
9,第二段蓄冷器26で回収するために、第一段
デイスプレーサ18,第二段デイスプレーサ27
はサブピストン15の働きによつて下降する。さ
らに、高圧のヘリウムガスを第一段寒冷発生区間
22,第二段寒冷発生区間30に導入するため
に、第一段デイスプレーサ18,第二段デイスプ
レーサ27は上昇して第4図の状態に戻る。以上
のようなサイクルを繰返すことによつて、冷凍機
は間欠的に低温を発生することができる。
[考案が解決しようとする問題点] ところで、前述したような蓄冷器式冷凍機にお
いて、第二段蓄冷器26の蓄冷材に使用されてい
る蓄冷材(鉛,銅,ニツケル等)は、温度10K
下の極低温になると第5図に示すように、熱容量
すなわち比熱が小さくなつて第二段蓄冷器26の
性能が低下し、結果的に蓄冷器式冷凍機の性能が
低下するという問題がある。従つて、かかる不具
合を防止するために第二段蓄冷器26を大きくす
る、換言すれば蓄冷材を多く使用して蓄冷器26
の熱容量を増大するようにすればよいが、このよ
うにすると蓄冷器26の容積および重量が増加す
るばかりでなくコストも高くなり、結果的に蓄冷
器式冷凍機の容積および重量が増加しコストも高
いものになるという問題がある。また、蓄冷材は
直径が1mm以下であることから、その製造方法
(予め決められた直径にする)等が非常に困難で
あり、冷凍機のコストが一層高くなるという問題
がある。
そこで、本考案は上記のような問題点を解決す
るために成されたもので、その目的は蓄冷器の容
積および重量を低減すると共にコストを低下させ
つつ蓄冷器の性能を向上させ、もつて冷凍機の性
能を向上させつつその容積、重量ならびにコスト
の低減を図ることが可能な極めて製造が容易で信
頼性の高い蓄冷器式冷凍機を提供することにあ
る。
[問題点を解決するための手段] 上記の目的を達成するために本考案では、高圧
ヘリウムガスを冷却媒体として使用する蓄冷器式
冷凍機において、低温側が10K以下となる蓄冷器
を内蔵するデイスプレーサを、FRP製の薄い多
孔蓄冷板と鉛製の薄い多孔蓄冷板とをそれぞれ交
互に重ね合わせて接着した積層板形デイスプレー
サとするようにしたことを特徴とする。
[作用] 上述した構成の蓄冷器式冷凍機において、低温
側が10K以下となる蓄冷器を内蔵するデイスプレ
ーサを、FRP製の薄い多孔蓄冷板と鉛製の薄い
多孔蓄冷板とをそれぞれ交互に重ね合わせて接着
した積層板形デイスプレーサとするようにしてい
ることから、蓄冷器高温側では、第5図に示すよ
うに比熱の大きい鉛製の薄い多孔蓄冷板が、主と
して蓄冷材としての役割を果たし、蓄冷器低温側
の10k以下の温度領域においては、鉛製の薄い多
孔蓄冷板と、鉛とほぼ同等の比熱を有するFRP
製の薄い多孔蓄冷板との両方が、蓄冷材としての
役割を果たすため、10k以下の温度領域でも、従
来の蓄冷器に比べて遜色にない性能を保有するこ
とができることになる。
従つて、本考案では、低温側が10k以下となる
蓄冷器を内蔵するデイスプレーサとして、FRP
製の薄い多孔蓄冷板と、従来使用されている鉛を
用いた薄い多孔蓄冷板とをそれぞれ交互に重ね合
わせて、エポキシ系接着剤等の接着剤で接着した
積層板形デイスプレーサを使用しようとするもの
である。
[実施例] 以下、上述のような考え方に基づく本考案の一
実施例について図面を参照して説明する。
第1図は、本考案による蓄冷器式冷凍機の構成
例を断面図にて示すものであり、第4図と同一部
分には同一符号を付してその説明を省略し、ここ
では異なる部分についてのみ述べる。第1図にお
いて、32はFRP製の薄い多孔蓄冷板と、鉛製
の薄い多孔蓄冷板とをそれぞれ交互に多数枚重ね
合わせてエポキシ系接着剤で接着して製作した、
第二段デイスプレーサとしての積層板形デイスプ
レーサである。また、33は前述した第一段デイ
スプレーサ18と、上述の積層板形デイスプレー
サ32とを互いに結合するためのジヨイントであ
る。
第2図は、上述した積層板形デイスプレーサ3
2の構成例を分解斜視図にて示すものである。第
2図において、34は鉛製の薄い多孔蓄冷板であ
り、周辺部は接着のため孔は施工されていない。
また、35はFRP製の薄い多孔蓄冷板であり、
周辺部は接着のため孔は施工されていない。さら
に、36はエポキシ系接着剤であり、鉛製の薄い
多孔蓄冷板34とFRP製の薄い多孔蓄冷板35
の円周上をそれぞれ交互に接着し、積層板形デイ
スプレーサ32を形成した場合にデイスプレーサ
内部の高圧ヘリウムガスがデイスプレーサ外部に
漏れないように、充分に接着固化する役目を有し
ている。
第3図は、上述した積層板形デイスプレーサ3
2の構成例を斜視図にて示すものである。第3図
に示すように、鉛製の薄い多孔蓄冷板34と
FRP製の薄い多孔蓄冷板35とを、交互にエポ
キシ系接着剤36で接着・固化したものであり、
その外周部は前述した第二段シリンダ25の内部
に収まるように機械加工されている。なお、37
は前述したシール24を装着するためのシール溝
である。
かかる構成の蓄冷器式冷凍機において、第一段
蓄冷器19からヘリウムガスの通路21を通り、
第一段寒冷発生区間22を通つてきた高圧ヘリウ
ムガスは、第二段デイスプレーサとしての積層板
形デイスプレーサ32に入る。この時、積層形デ
イスプレーサ32の上部端面が全て入口となつて
おり、前述した第4図のようにヘリウムガスの通
路21がないため、積層形デイスプレーサ32の
内部でが偏流が発生しない。次に第二段寒冷発生
区間30で寒冷を発生した低圧ヘリウムガスは、
第二段デイスプレーサとしての積層形デイスプレ
ーサ32に入る。この時も、積層形デイスプレー
サ32の入口部は全面が入口となつており、ヘリ
ウムガスの偏流は発生しない。次に、積層形デイ
スプレーサ32で蓄冷したヘリウムガスは、第一
段蓄冷器19でさらに蓄冷した後に圧縮機1に戻
ることになる。
上述したように本実施例による蓄冷器式冷凍機
においては、次のような作用効果が得られるもの
である。
(a) 蓄冷材として、従来のような直径1mm以下の
球の代わりに薄い多孔板を使用しているので、
蓄冷材の製造が極めて容易となりコストダウン
を図ることができる。
(b) デイスプレーサの入口部,出口部にヘリウム
ガスの通路を必要としないので、その分だけデ
イスプレーサを小形でしかもコンパクトなもの
とすることができる。
(c) 使用している多孔板が、入口部,出口部と兼
用できるので、ヘリウムガスの偏流が発生せず
蓄冷器の性能を向上させることができる。
(d) 温度10K以下でも蓄冷能力が低下しないので、
蓄冷器の性能を向上させることができる。
尚、本考案は上述した実施例に限定されるもの
ではなく、次のようにしても同様に実施すること
ができるものである。
上述した第1図の実施例では、本考案を蓄冷器
式冷凍機に適用した場合を述べたが、これに限ら
れることなく例えば蓄冷器を使用した極低温機器
についても本考案を同様に適用することができる
ものである。
その他、本考案はその要旨を変更しない範囲
で、種々に変形して実施することができるもので
ある。
[考案の効果] 以上説明したように本考案によれば、高圧ヘリ
ウムガスを冷却媒体として使用する蓄冷器式冷凍
機において、低温側が10K以下となる蓄冷器を内
蔵するデイスプレーサを、FRP製の薄い多孔蓄
冷板と鉛製の薄い多孔蓄冷板とをそれぞれ交互に
重ね合わせて接着した積層板形デイスプレーサと
するようにしたので、蓄冷器の容積及び重量を低
減すると共にコストを低下させつつ蓄冷器の性能
を向上させ、もつて冷凍機の性能を向上させつつ
その容積、重量ならびにコストの低減を図ること
が可能な極めて製造が容易で信頼性の高い蓄冷器
式冷凍機が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す断面構成図、
第2図は同実施例における積層板形デイスプレー
サを示す分解斜視図、第3図は同実施例における
積層板形デイスプレーサの構成例を示す斜視図、
第4図は従来の蓄冷器式冷凍機を示す断面構成
図、第5図はFRP(G−10),鉛,ヘリウムガス
の比熱の比較図である。 1……圧縮機、2……高圧ヘリウムガス配管、
3……低圧ヘリウムガス配管、4,5……高圧ヘ
リウムガス配管2,低圧ヘリウムガス配管3との
コネクタ、6……モータハウジング、7……モー
タ、8……モータ軸、9……制御バルブ、10…
…支持台、11……制御ブロツク、12,13…
…ヘリウムガスの通路、14……シール、15…
…サブピストン、16……シール、17……ヘリ
ウムガスの通路、18……第一段デイスプレー
サ、19……第一段蓄冷器、20……第一段シリ
ンダ、21……ヘリウムガスの通路、22……第
一段寒冷発生区間、23……第一段ヒートステー
シヨン、24……シール、25……第二段シリン
ダ、26……第二段蓄冷器、27……第二段デイ
スプレーサ、28……ヘリウムガスの通路、29
……第二段ヒートステーシヨン、30……第二段
寒冷発生区間、31……ヘリウムガス空間、32
……積層板形デイスプレーサ、33……ジヨイン
ト、34……鉛製の薄い多孔蓄冷板、35……
FRP製の薄い多孔蓄冷板、36……エポキシ系
接着剤、37……シール溝。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 高圧ヘリウムガスを冷却媒体として使用する蓄
    冷器式冷凍機において、低温側が10K以下となる
    蓄冷器を内蔵するデイスプレーサを、FRP製の
    薄い多孔蓄冷板と鉛製の薄い多孔蓄冷板とをそれ
    ぞれ交互に重ね合わせて接着した積層板形デイス
    プレーサとするようにしたことを特徴とする蓄冷
    器式冷凍機。
JP81486U 1986-01-08 1986-01-08 Expired JPH047492Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP81486U JPH047492Y2 (ja) 1986-01-08 1986-01-08

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JP81486U JPH047492Y2 (ja) 1986-01-08 1986-01-08

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JPS62115059U JPS62115059U (ja) 1987-07-22
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JPS62115059U (ja) 1987-07-22

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