JPH0475026A - 強誘電性液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
強誘電性液晶表示素子およびその製造方法Info
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- JPH0475026A JPH0475026A JP18793790A JP18793790A JPH0475026A JP H0475026 A JPH0475026 A JP H0475026A JP 18793790 A JP18793790 A JP 18793790A JP 18793790 A JP18793790 A JP 18793790A JP H0475026 A JPH0475026 A JP H0475026A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、強誘電性液晶表示素子およびその製造方法に
関するものである。
関するものである。
［従来の技術］
従来より、液晶表示素子において、液晶を配向させる機
能を有する配向膜には、ポリイミドなどの有機高分子膜
が用いられてきた。その配向膜の形成方法としては、電
極を設けた基板上に高分子溶液あるいはその前駆体をス
ピンナー塗布法、フレキソ印刷法などによって塗布した
後、加熱処理し、硬化させる方法が行なわれてきた。そ
の中でも、フレキソ印刷法は、基板への塗布部を限定す
ることが出来、また生産性が良い点から、−Ｍに使用さ
れている。
能を有する配向膜には、ポリイミドなどの有機高分子膜
が用いられてきた。その配向膜の形成方法としては、電
極を設けた基板上に高分子溶液あるいはその前駆体をス
ピンナー塗布法、フレキソ印刷法などによって塗布した
後、加熱処理し、硬化させる方法が行なわれてきた。そ
の中でも、フレキソ印刷法は、基板への塗布部を限定す
ることが出来、また生産性が良い点から、−Ｍに使用さ
れている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上記の従来例の印刷方法により基板上に
フッ素系ポリイミド配向膜を形成する場合、印刷状態が
不安定で、印刷されたフッ素ボリイミド配向膜のエツジ
がきれいに出ながったり、膜の凹凸が激しかったりし、
安定して基板全面に均一な配向膜を形成することが困難
であった。
フッ素系ポリイミド配向膜を形成する場合、印刷状態が
不安定で、印刷されたフッ素ボリイミド配向膜のエツジ
がきれいに出ながったり、膜の凹凸が激しかったりし、
安定して基板全面に均一な配向膜を形成することが困難
であった。
また、均一な配向膜が印刷された場合でも、配向状態を
見ると、一部に欠陥が残ったりして液晶セル全面に均一
な配向を安定的に実現することは難しかった。
見ると、一部に欠陥が残ったりして液晶セル全面に均一
な配向を安定的に実現することは難しかった。
本発明は、この様な従来技術の欠点を改善するためにな
されたものであり、電極を設けた基板上に特定の条件下
でフレキソ印刷をすることにより、印刷状態が良好で、
均一な配向状態を安定して得ることができるフッ素系ポ
リイミド配向膜を形成した強誘電性液晶表示素子および
その製造方法を提供することを目的とするものである。
されたものであり、電極を設けた基板上に特定の条件下
でフレキソ印刷をすることにより、印刷状態が良好で、
均一な配向状態を安定して得ることができるフッ素系ポ
リイミド配向膜を形成した強誘電性液晶表示素子および
その製造方法を提供することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
即ち、本発明は、一対の電極とポリイミド系配向膜を有
する基板間に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶
表示素子において、前記ポリイミド系配向膜が１５０〜
４００人の膜厚を有するフッ素系ポリイミド配向膜がら
なり、がっフレキソ印刷により形成された全面にわたっ
て膜厚が均一である印刷状態を有することを特徴とする
強誘電性液晶表示素子である。
する基板間に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶
表示素子において、前記ポリイミド系配向膜が１５０〜
４００人の膜厚を有するフッ素系ポリイミド配向膜がら
なり、がっフレキソ印刷により形成された全面にわたっ
て膜厚が均一である印刷状態を有することを特徴とする
強誘電性液晶表示素子である。
また、本発明は、一対の電極とポリイミド系配向膜を有
する基板間に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶
表示素子の製造方法において、電極を設けた基板上に樹
脂濃度２．０〜６．０％のフッ素系ポリイミド溶液ある
いはその前駆体を４２〜４８％ＲＨの湿度雰囲気下で、
フレキソ印刷により塗布した後、加熱処理して１５０〜
４００人の膜厚を有するフッ素系ポリイミド配向膜を形
成することを特徴とする強誘電性液晶表示素子の製造方
法である。
する基板間に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶
表示素子の製造方法において、電極を設けた基板上に樹
脂濃度２．０〜６．０％のフッ素系ポリイミド溶液ある
いはその前駆体を４２〜４８％ＲＨの湿度雰囲気下で、
フレキソ印刷により塗布した後、加熱処理して１５０〜
４００人の膜厚を有するフッ素系ポリイミド配向膜を形
成することを特徴とする強誘電性液晶表示素子の製造方
法である。
［作用コ
本発明は、一対の電極とポリイミド系配向膜を有する基
板間に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶表示素
子において、該ポリイミド系配向膜がフッ素系ポリイミ
ドであり、その形成において、フッ素系ポリイミド溶液
あるいは、その前駆体を４２〜４８％ＲＨの湿度雰囲気
下で、フレキソ印刷により塗布した後、加熱処理し、１
５０〜４００人の膜厚を有する該ポリイミド系配向膜を
形成するものであり、特にフレキソ印刷における湿度雰
囲気を４２〜４８％ＲＨに保つことにより、安定した印
刷状態を実現し、かつ均一な配向状態を安定して得るこ
とを可能とするものである。
板間に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶表示素
子において、該ポリイミド系配向膜がフッ素系ポリイミ
ドであり、その形成において、フッ素系ポリイミド溶液
あるいは、その前駆体を４２〜４８％ＲＨの湿度雰囲気
下で、フレキソ印刷により塗布した後、加熱処理し、１
５０〜４００人の膜厚を有する該ポリイミド系配向膜を
形成するものであり、特にフレキソ印刷における湿度雰
囲気を４２〜４８％ＲＨに保つことにより、安定した印
刷状態を実現し、かつ均一な配向状態を安定して得るこ
とを可能とするものである。
［実施例］
以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１
第１図は本発明の強誘電性液晶表示素子の製造方法に使
用するポリイミド系配向膜の形成装置の一例を示す説明
図である。同図に示すように、このフレキソ印刷装置は
、展色ロール１、印刷ロール３および印刷ステージ５を
備えている。展色ロールｌは銅にクロムメツキを施した
ものであり、数ミクロンから数十ミクロンの深さの溝が
エツチングされている。印刷ロール３上には印刷パター
ン形状に対応する凸版２が貼り付けられており、印刷ス
テージ５の動きと同期して回転する。印刷ステージ５に
は印刷すべき基板４が載置される。フッ素系ポリイミド
溶液は溶液供給タンク１０から溶液供給チューブ９を通
り、フィルター８を経て溶液供給ノズル７から展色ロー
ルｌの上に滴下され、ブレード６でスキージされて展色
された後、印刷ロール３上の凸版２に転写される。
用するポリイミド系配向膜の形成装置の一例を示す説明
図である。同図に示すように、このフレキソ印刷装置は
、展色ロール１、印刷ロール３および印刷ステージ５を
備えている。展色ロールｌは銅にクロムメツキを施した
ものであり、数ミクロンから数十ミクロンの深さの溝が
エツチングされている。印刷ロール３上には印刷パター
ン形状に対応する凸版２が貼り付けられており、印刷ス
テージ５の動きと同期して回転する。印刷ステージ５に
は印刷すべき基板４が載置される。フッ素系ポリイミド
溶液は溶液供給タンク１０から溶液供給チューブ９を通
り、フィルター８を経て溶液供給ノズル７から展色ロー
ルｌの上に滴下され、ブレード６でスキージされて展色
された後、印刷ロール３上の凸版２に転写される。
この凸版２に転写されたフッ素系ポリイミド溶液が印刷
ステージ上の基板４に印刷される。さらに、加湿器１３
、除湿器１２を備えたブース１１で印刷機全体が囲まれ
、フレキソ印刷を特定の湿度雰囲気で行なうことができ
る様に構成されている。
ステージ上の基板４に印刷される。さらに、加湿器１３
、除湿器１２を備えたブース１１で印刷機全体が囲まれ
、フレキソ印刷を特定の湿度雰囲気で行なうことができ
る様に構成されている。
第２図は本発明の製造方法により作成された強誘電性液
晶表示素子の一例を示す平面図、第３図はそのＸＸ′線
断面図である。同図において、本発明の強誘電性液晶表
示素子は、ガラス板又はプラスチック板などからなる一
対の基板１０１．１０１’をスペーサ１０４で所定の間
隔に保持し、この一対の基板１０１．１０１’をシーリ
ングするために接着剤１０６で接着したセル構造を有し
いる。さらに、基板１０１の上には複数の透明電極１０
２からなる電極群（例えば、マトリクス電極構造のうち
の走査電圧印加用電極群）が、例えば帯状パターンなど
の所定パターンで形成されている。また、基板１０１′
の上には前述の透明電極１０２と交差させた複数の透明
電極１０２′からなる電極群（例えば、マトリクス電極
構造のうちの信号電圧印加用電極群）が形成されている
。
晶表示素子の一例を示す平面図、第３図はそのＸＸ′線
断面図である。同図において、本発明の強誘電性液晶表
示素子は、ガラス板又はプラスチック板などからなる一
対の基板１０１．１０１’をスペーサ１０４で所定の間
隔に保持し、この一対の基板１０１．１０１’をシーリ
ングするために接着剤１０６で接着したセル構造を有し
いる。さらに、基板１０１の上には複数の透明電極１０
２からなる電極群（例えば、マトリクス電極構造のうち
の走査電圧印加用電極群）が、例えば帯状パターンなど
の所定パターンで形成されている。また、基板１０１′
の上には前述の透明電極１０２と交差させた複数の透明
電極１０２′からなる電極群（例えば、マトリクス電極
構造のうちの信号電圧印加用電極群）が形成されている
。
この様な透明電極１０２．１０２’を設けた基板１０１
゜１０１′には、フッ素系ポリイミド配向膜１０５．１
０５’が設けられ、そして基板上の配向膜１０５．１０
５’の間に強誘電性液晶１０３が挟持されている。
゜１０１′には、フッ素系ポリイミド配向膜１０５．１
０５’が設けられ、そして基板上の配向膜１０５．１０
５’の間に強誘電性液晶１０３が挟持されている。
次に、同図に示すセル構造体１００を次のようにして作
成した。上下基板用として２枚の１．１ｍｍ厚のガラス
板を用い、それぞれにＩＴＯのストライブ状電極を形成
し、この上に第１図に例示した装置を用いて、フレキソ
印刷により、フッ素系ポリイミド膜形成材料を塗布し、
その後約１時間、３００℃の加熱焼成処理をしてフッ素
系ポリイミド配向膜を形成した。
成した。上下基板用として２枚の１．１ｍｍ厚のガラス
板を用い、それぞれにＩＴＯのストライブ状電極を形成
し、この上に第１図に例示した装置を用いて、フレキソ
印刷により、フッ素系ポリイミド膜形成材料を塗布し、
その後約１時間、３００℃の加熱焼成処理をしてフッ素
系ポリイミド配向膜を形成した。
この際、フッ素系ポリイミド配向膜形成材料として、Ｌ
Ｑ−１８０２（商品名：日立化成社製）を、ＮＭＰ （
Ｎ−メチル−ピロリドン）と混合させ、樹脂濃度を０．
７５〜８．２５％まで、０．７５％きざみに調合し、塗
膜の厚さが５０人〜５５０人まで５０人きざみに変化す
るようにフッ素系ポリイミド溶液を調製した。さらに、
フレキソ印刷時に、前記の各濃度のフッ素系ポリイミド
溶液に対し、湿度を３４〜５４％ＲＨまで２％ＲＨきざ
みに変化させた。
Ｑ−１８０２（商品名：日立化成社製）を、ＮＭＰ （
Ｎ−メチル−ピロリドン）と混合させ、樹脂濃度を０．
７５〜８．２５％まで、０．７５％きざみに調合し、塗
膜の厚さが５０人〜５５０人まで５０人きざみに変化す
るようにフッ素系ポリイミド溶液を調製した。さらに、
フレキソ印刷時に、前記の各濃度のフッ素系ポリイミド
溶液に対し、湿度を３４〜５４％ＲＨまで２％ＲＨきざ
みに変化させた。
次に、加熱焼成処理したこれらのフッ素系ポリイミド配
向膜に対し、ラビング処理を施し、その後、スペーサ材
料として平均粒径１．５ｐｍのアルミナビーズを一方の
ガラス基板上に散布してから、これに対し他方のガラス
基板を貼り合わせてセルを作成した。このようにして得
られたセルにチッソ■社製の強誘電性液晶ｒＣＳ−１０
１４Ｊを注入し、得られた強誘電性液晶表示素子の配向
性の評価結果及びフッ素系ポリイミド配向膜形成の印刷
状態の目視評価結果を第１表に示す。ここで、第１表に
おける領域Ａ〜Ｇは第４図に示す。第４図はフッ素系ポ
リイミド配向膜の厚さとフレキソ印刷時の湿度で印刷状
態と配向性の異なる領域を示した図であり、Ａ−Ｇの領
域で、第１表に示すように、印刷状態と配向性が異なる
。
向膜に対し、ラビング処理を施し、その後、スペーサ材
料として平均粒径１．５ｐｍのアルミナビーズを一方の
ガラス基板上に散布してから、これに対し他方のガラス
基板を貼り合わせてセルを作成した。このようにして得
られたセルにチッソ■社製の強誘電性液晶ｒＣＳ−１０
１４Ｊを注入し、得られた強誘電性液晶表示素子の配向
性の評価結果及びフッ素系ポリイミド配向膜形成の印刷
状態の目視評価結果を第１表に示す。ここで、第１表に
おける領域Ａ〜Ｇは第４図に示す。第４図はフッ素系ポ
リイミド配向膜の厚さとフレキソ印刷時の湿度で印刷状
態と配向性の異なる領域を示した図であり、Ａ−Ｇの領
域で、第１表に示すように、印刷状態と配向性が異なる
。
第 １ 表
第１表の結果から、Ａの領域では、印刷時の湿度が高す
きる為に、印刷時の塗膜がはじき、均一な膜が形成され
ない為、配向性も悪くなっている。Ｂの領域では、印刷
された膜としては、目視評価上問題はないが、配向膜の
厚さが薄すぎる為、配向性が悪い。Ｃ及びＥの領域では
、印刷された膜として目視評価上問題ないが、配向性が
若干悪い。これらの領域は、印刷が良好に出来る湿度範
囲の境界領域であり、微視的に膜を見ると、印刷面内の
均一性が若干悪い。このため、配向欠陥が生じている。
きる為に、印刷時の塗膜がはじき、均一な膜が形成され
ない為、配向性も悪くなっている。Ｂの領域では、印刷
された膜としては、目視評価上問題はないが、配向膜の
厚さが薄すぎる為、配向性が悪い。Ｃ及びＥの領域では
、印刷された膜として目視評価上問題ないが、配向性が
若干悪い。これらの領域は、印刷が良好に出来る湿度範
囲の境界領域であり、微視的に膜を見ると、印刷面内の
均一性が若干悪い。このため、配向欠陥が生じている。
Ｄの領域では、印刷された膜、配向性とも良好である。
Ｆの領域では、印刷された膜の厚さが大きすぎるために
、膜の厚さの均一性が悪く、配向欠陥も生じている。Ｇ
の領域では、湿度が低すぎる為に印刷版が乾いてしまい
、均一な膜を印刷出来ないため配向性も悪い。
、膜の厚さの均一性が悪く、配向欠陥も生じている。Ｇ
の領域では、湿度が低すぎる為に印刷版が乾いてしまい
、均一な膜を印刷出来ないため配向性も悪い。
第１表及び上記の説明から、フッ素系ポリイミド配向膜
の形成時の湿度雰囲気を４２〜４８％ＲＨ１その時の膜
厚な１５０〜４００人に制御すれば、印刷状態及び配向
性ともに良好になることが認められる。
の形成時の湿度雰囲気を４２〜４８％ＲＨ１その時の膜
厚な１５０〜４００人に制御すれば、印刷状態及び配向
性ともに良好になることが認められる。
［発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、膜厚が１５０〜
４００人のフッ素系ポリイミド配向膜をフレキソ印刷に
より形成する際に、４２〜４８％ＲＨに雰囲気湿度を制
御することにより、印刷状態が良好で、均一な配向状態
を安定して得ることができる強誘電性液晶表示素子が得
られる。
４００人のフッ素系ポリイミド配向膜をフレキソ印刷に
より形成する際に、４２〜４８％ＲＨに雰囲気湿度を制
御することにより、印刷状態が良好で、均一な配向状態
を安定して得ることができる強誘電性液晶表示素子が得
られる。
第１図は本発明の強誘電性液晶表示素子の製造方法に使
用するポリイミド系配向膜の形成装置の一例を示す説明
図、第２図は本発明の製造方法により作成された強誘電
性液晶表示素子の一例を示す平面図、第３図はそのＸＸ
′線断面図および第４図はフッ素系ポリイミド配向膜の
厚さとフレキソ印刷時の湿度で印刷状態と配向性の異な
る領域を示した図である。 １・・・展色ロール ３・・・印刷ロール ５・・・印刷ステージ ７・・・溶液供給ノズル ９・・・溶液供給チューブ １１・・・ブース １３・・・加湿器 １００・・・セル構造体 １０１、１０１’・・・基板 １０２、１０２’・・・透明電極 ２・・・凸版 ４・・・基板 ６・・・ブレード ８・・・フィルター １０・・・溶液供給タンク １２・・・除湿器 １０３・・・強誘電性液晶 １０４・・・スペーサー １０５、１０５’・・・配向膜 １０６・・・接着剤
用するポリイミド系配向膜の形成装置の一例を示す説明
図、第２図は本発明の製造方法により作成された強誘電
性液晶表示素子の一例を示す平面図、第３図はそのＸＸ
′線断面図および第４図はフッ素系ポリイミド配向膜の
厚さとフレキソ印刷時の湿度で印刷状態と配向性の異な
る領域を示した図である。 １・・・展色ロール ３・・・印刷ロール ５・・・印刷ステージ ７・・・溶液供給ノズル ９・・・溶液供給チューブ １１・・・ブース １３・・・加湿器 １００・・・セル構造体 １０１、１０１’・・・基板 １０２、１０２’・・・透明電極 ２・・・凸版 ４・・・基板 ６・・・ブレード ８・・・フィルター １０・・・溶液供給タンク １２・・・除湿器 １０３・・・強誘電性液晶 １０４・・・スペーサー １０５、１０５’・・・配向膜 １０６・・・接着剤
Claims (2)
- （１）一対の電極とポリイミド系配向膜を有する基板間
に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶表示素子に
おいて、前記ポリイミド系配向膜が１５０〜４００Åの
膜厚を有するフッ素系ポリイミド配向膜からなり、かつ
フレキソ印刷により形成された全面にわたって膜厚が均
一である印刷状態を有することを特徴とする強誘電性液
晶表示素子。 - （２）一対の電極とポリイミド系配向膜を有する基板間
に強誘電性液晶を挟持してなる強誘電性液晶表示素子の
製造方法において、電極を設けた基板上に樹脂濃度２．
０〜６．０％のフッ素系ポリイミド溶液あるいはその前
駆体を４２〜４８％ＲＨの湿度雰囲気下で、フレキソ印
刷により塗布した後、加熱処理して１５０〜４００Åの
膜厚を有するフッ素系ポリイミド配向膜を形成すること
を特徴とする強誘電性液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18793790A JPH0475026A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | 強誘電性液晶表示素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18793790A JPH0475026A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | 強誘電性液晶表示素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0475026A true JPH0475026A (ja) | 1992-03-10 |
Family
ID=16214791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18793790A Pending JPH0475026A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | 強誘電性液晶表示素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0475026A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6169592B1 (en) | 1998-01-20 | 2001-01-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Photosensitive resin plate with polyimide pattern edge portion having greater hardness than polyimide pattern portion |
-
1990
- 1990-07-18 JP JP18793790A patent/JPH0475026A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6169592B1 (en) | 1998-01-20 | 2001-01-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Photosensitive resin plate with polyimide pattern edge portion having greater hardness than polyimide pattern portion |
| US6249331B1 (en) | 1998-01-20 | 2001-06-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods for forming an orientation layer on LCD panels |
| US6323925B1 (en) | 1998-01-20 | 2001-11-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for fabricating an orientation layer on LCD panels |
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