JPH0475063A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH0475063A
JPH0475063A JP2187900A JP18790090A JPH0475063A JP H0475063 A JPH0475063 A JP H0475063A JP 2187900 A JP2187900 A JP 2187900A JP 18790090 A JP18790090 A JP 18790090A JP H0475063 A JPH0475063 A JP H0475063A
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JP
Japan
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reticle
cassette
stage
alignment
reticle cassette
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Pending
Application number
JP2187900A
Other languages
English (en)
Inventor
Teruya Sato
光弥 佐藤
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2187900A priority Critical patent/JPH0475063A/ja
Publication of JPH0475063A publication Critical patent/JPH0475063A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、露光装置に関し、例えばウェハステッパ装置
の内部においてレチクルに対するゴミの付着を最小にす
ることが可能なレチクル搬送系を備えた露光装置に関す
るものである [従来の技術] 従来、例えばクエハステッパにおけるレチクル搬送系で
は、まずレチクルストッカ内部のレチクルカセットから
レチクルを取り出し、この後このレチクルに表示されて
いるレチクルナンバの読み出しあるいはレチクルのプリ
アライメントを実施し、この後搬入ハントなどによりレ
チクルをレチクルステージ上に移動させるようになって
いた。
[発明が解決しようとする課題] このため、従来のウニハスチッパてはレチクルをレチク
ルカセットから取り出し、レチクルステージ上に移動さ
せる間に、レチクルにゴミか付着する可能性が少なから
ずあった。
本発明は、上述の従来例における問題点に鑑み、露光装
置内部におけるレチクルへのゴミの付着を最小限に抑え
ることのできる露光装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段および作用]上記の目的を
達成するため、本発明に係る露光装置は、露光装置例え
はウェハステッパ内部におけるレチクル搬送は、すべて
レチクルカセットごと行ない、レチクルをレチクルカセ
ットから取り出すのはレチクルステージ上もしくはレチ
クルステージ直前または近傍の位置とすることを特徴と
する。
また、ウニハスチッパ内部におけるレチクルナンバの読
み出しやプリアライメントなどの処理は、レチクルをレ
チクルカセットに保持したまま、その外部より行なうよ
うにしている。
以上のような構成により、レチクル搬送経路の殆とにお
いて、レチクルはレチクルカセットに収納されているの
で、レチクルにゴミが付着することが最小限に抑えられ
る。
[実施例コ 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る露光装置であるウニ
ハスチッパのレチクル搬送系を示す斜視図である。同図
において、1はレチクル、2はレチクル1を収納するレ
チクルカセットである。レチクルカセット2は、内部に
収納するレチクル1上のレチクルナンバおよびプリアラ
イメントマークが外部から観察可能なように、透明材質
により構成されている。
3はウェハステッパ内においてレチクル1を保持するた
めのレチクルステージ、4はレチクル1をレチクルカセ
ット2から引き出してレチクルステージ3に移動させる
ためのレチクルハンド、5はレチクルカセット2の屏を
開くためのレチクルカセット屏開閉ハンドである。また
、6はレチクルカセットストッカ8からレチクルカセッ
ト2を引き出して顕微鏡対物レンズ7の下まで移動させ
かつレチクルカセット2のレチクルステージ3に対する
位置出しまで実行するXYZθ方向に移動可能なレチク
ルカセットハンド、7はレチクル1上のレチクルナンバ
およびプリアライメントマークを観察するための顕微鏡
対物レンズ、8はレチクルカセット2を複数個収納可能
なレチクルカセットストッカである。
第2図は、本実施例のウェハステッパのレチクル搬送系
周辺の構成を示すブロック図である。
同図において、11はウェハステッパ全体をコントロー
ルするCPU (中央処理装置)、12はウェハステッ
パを動作させるプログラムなどを記憶しであるメモリで
ある。また、13はオペレーションパネルに対してデー
タの人出力を行なうオペレーションパネルインターフェ
イス、14はレチクルカセットハント6をXYZθ方向
に動かすためにパルスモータドライバ20に対して駆動
指令を出すレチクルカセットハンドインターフェイス、
15はレチクルカセット屏を開閉させるためにパルスモ
ータドライバ21に対して駆動指令を出すレチクルカセ
ット扉開閉ハントインターフェイスである。
16はレチクルハンド4をXZ方向に動かすためにパル
スモータトライバ22に対して駆動指令を出すレチクル
ハンドインターフェイス、17はレチクルステージ3を
XYθ方向に移動させるためにパルスモータトライバ2
3に対して駆動指令を出すレチクルステージインターフ
ェイスである。18は顕微鏡9の対物レンズにより観察
される画像をCCDカメラ30または31を通して入力
し、かつ入力された画像から各種の認識および位置計測
などを行なう画像処理装置である。
また、20〜23は各パルスモータPMのドライバであ
り、26はオペレータか本実施例のウニハスチッパに対
して各種の動作指示を行なうオペレーションパネルであ
る。
以上のようなウェハステッパにおいて、まずオペレータ
は、オペレーションパネル26から特定レチクルの設定
指示を出す。これに応じて、CPU11はレチクルカセ
ットハンドインターフェイス14に指令を出し、レチク
ルカセットハンド6をそのレチクルが収納されているレ
チクルカセットストッカ8の位置に移動させる。そして
、レチクルカセットハンド6を、指示されたレチクル1
が入っているレチクルカセット2の高さまで、2方向に
移動させる。この後、このレチクルカセット2を矢印A
のように引き抜かせる。
次に、引き抜いたレチクルカセット2を、顕微鏡対物レ
ンズ7の下にまで、矢印Bのように移動させる。顕微鏡
対物レンズ7は、レチクルステージ3と所定の位置関係
にある顕微鏡9に取り付けられている。顕微鏡対物レン
ズ7は、レチクル1に付されているレチクルナンバおよ
びプリアライメントマーク(図示せず)の像をCCDカ
メラ30.31の撮像面に映し出す。CCDカメラ30
.31により入力したこの画像は、画像処理装置18に
人力する。
この位置において、CPUIIは、まずレチクル1上の
プリアライメントマークが顕微鏡対物レンズ7の下に来
るようレチクルカセットハントインターフェイス14に
指令を比す。
すなわち、まずレチクルカセット2を顕微鏡対物レンズ
7の下まで移動させた後、CPUIIは画像処理装置1
8に2つのCCDカメラ30131からの画像人力およ
びプリアライメントマークの位置計測指令を出す。この
指令に応じて画像処理装置18は、プリアライメントマ
ークの位置計測を実行し、位置計測結果を出力する。も
し、この位置計測結果が、目標位置に対して許容トレラ
ンス量以上であった場合には、レチクルカセットハンド
インターフェイス14にXYθ方向の補正駆動指令を出
す。以上の処理を繰り返し、レチクルカセット2内のレ
チクル1の位置が、許容トレランス以内になるようにさ
せる。
この後、CPUIIはレチクル1上のレチクルナンバが
顕微鏡対物レンズ7の下にくるように、レチクルカセッ
トハンドインターフェイス14に指令を出す。この指令
に応じて、レチクルカセットハンド6が駆動し、レチク
ル1上のレチクルナンバが顕微鏡対物レンズ7の下に位
置する。
この移動後、CPUIIは画像処理装置18にCCDカ
メラ30.31からレチクルナンバの画像人力およびレ
チクルナンバの認識の指令を出す。画像処理装置18は
、この指令に応じて、レチクルナンバを認識し出力する
。もし、この認識されたレチクルナンバがオペレータに
より指示されたレチクルナンバと一致しない場合には、
動作の中断を行なうと同時に、オペレータに対して警報
を発生する。
レチクルナンバがオペレータにより指示されたレチクル
ナンバと一致していた場合には、CPU11はこのレチ
クル1で露光を行なう際に必要な色々なパラメータを算
出する。次に、レチクルカセットハンドインターフェイ
ス14にレチクル1をレチクルステージ3に搬入するの
に必要な所定位置への移動指令を出す。この移動指令に
応じて、レチクルカセットハンド6は、レチクル1をレ
チクルステージ3に搬入するのに必要な所定位置まで移
動する。
レチクルカセットハンド6の移動後、CPU11はレチ
クルカセット扉開閉ハンドインターフェイス15にレチ
クルカセット2の左側面の扉を開くように指令を出す。
この指令に応じて、レチクルカセット屏開閉ハンドが動
作し、レチクルカセット2の左側面の扉を開く。
この動作完了後、cpuiiはレチクルハントインター
フェイス16にレチクルカセット2内のレチクル1をレ
チクルステージ3上に搬入させる指令を出す。この指令
に応じて、レチクルハンドインターフェイス16はパル
スモータトライバ22に駆動指令を出す。
この駆動指令に応して、レチクルハント4のパルスモー
タが動作し、レチクルハント4はレチクルカセット2の
内部にその先端部を挿入する。この後、レチクルハンド
4は僅かに上昇する。これにより、レチクル1を持ち上
げ、この後矢印Cのようにレチクルステージ3側に戻り
下降する。このようにして、レチクルカセット2の内部
にあるレチクル1をレチクルステージ3に搬入する。
以上のようにして、レチクル1はレチクルステージ3に
搬入される直前までレチクルカセット2内部に保持され
る。したがって、装置内部においてのゴミの付着を最小
にすることが可能となる。
[他の実施例] 第1図のレチクルカセット2を上下分離タイプとしても
よい。この場合、レチクルステージ3の直前でレチクル
カセット2の下カバーのみ分離し、レチクル1をレチク
ルカセット2の上カバーごとレチクルステージ上に搬入
すればよい。このようにすれば、レチクルステージ3の
直前位置からレチクルステージ3上にレチクル1を移動
させる間における上方からのゴミの落下を妨げるという
利点がある。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、レチクルナンバ
の読み出しやプリアライメントなどの処理をレチクルを
レチクルカセットに保持したままで実施し、かつレチク
ルをレチクルカセットごとレチクルステージ上またはレ
チクルステージ直前または近傍の位置まで移動させるよ
うにしているので、レチクルに対する露光装置内部での
ゴミの付着を最小限に抑えることか可能となる。
このことは、近年増々微細化要求のためにより小さな(
0,4μm程度)ゴミを検出することを要求されている
大型高価なゴミ検査装置を、各々の露光装置に持たせる
必要性をかなり軽減させるものであり、露光装置の小型
化、低コスト化に大きな効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係るウェハステッパのレ
チクル搬送系を示す斜視図、 第2図は、上記実施例のウェハステッパのレチクル搬送
系周辺の構成を示すブロック図である。 1ニレチクル、 2、レチクルカセット、 3ニレチクルステージ、 4ニレチクルハント、 5ニレチクルカセツト扉開閉ハンド、 6・レチクルカセットハンド、 7:顕微鏡対物レンズ、 8ニレチクルカセツトストツカ、 9:顕微鏡、 11:CPU。 12:メモリ、 13〜17:各ユニットのインターフェイス、18:画
像処理装置、 20〜23:パルスモータドライバ、 26:オペレーションパネル。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レチクルカセットにレチクルを保持したまま、ま
    たはレチクルカセットの上側カバーでレチクルを覆った
    まま、レチクルステージ直前または近傍位置まで搬入す
    る手段と、該レチクルカセットの外部から、内部のレチ
    クルのプリアライメントマークを検出して、プリアライ
    メントを実行する手段と、 プリアライメント実行後、該レチクルカセット内のレチ
    クルを取出し、レチクルステージに搬入する手段と を備えたことを特徴とする露光装置。
  2. (2)レチクルカセットにレチクルを保持したまま、ま
    たはレチクルカセットの上側カバーでレチクルを覆った
    まま、レチクルステージ上に搬入する手段と、 該レチクルカセットの外部から、内部のレチクルのプリ
    アライメントマークを検出して、プリアライメントを実
    行する手段と、 プリアライメント実行後、該レチクルカセット内のレチ
    クルを取出し、レチクルステージに載置する手段と を備えたことを特徴とする露光装置。
  3. (3)さらに、前記レチクルカセット外部より内部のレ
    チクルのレチクルナンバを読み取り、レチクルナンバの
    確認および/またはレチクルナンバによって決定される
    種々のパラメータの設定を自動的に行なう手段を備えた
    請求項1または2に記載の露光装置。
JP2187900A 1990-07-18 1990-07-18 露光装置 Pending JPH0475063A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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