JPH10267860A - 異物検査装置 - Google Patents

異物検査装置

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JPH10267860A
JPH10267860A JP7146797A JP7146797A JPH10267860A JP H10267860 A JPH10267860 A JP H10267860A JP 7146797 A JP7146797 A JP 7146797A JP 7146797 A JP7146797 A JP 7146797A JP H10267860 A JPH10267860 A JP H10267860A
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JP
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Application number
JP7146797A
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English (en)
Inventor
Hajime Moriya
元 森谷
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 検査したレチクルを用いて露光した半導体集
積回路に欠陥が生じた場合、欠陥を生じさせることにな
った要因を調べる際に、検査結果を参照する為、また、
一回検査したレチクルを用いて再度異物検査したとき、
前回と同じ検査結果が出力される場合に前回検査したと
きの目視検査の結果を参照する為に、目視検査時に得ら
れる検査結果を得る。 【解決手段】 被検査物に光を照射し、被検査物から来
る光を光電変換素子で受光することにより被検査物の表
面に存在する異物を検出し、異物の位置を検出する異物
検査手段101と、異物検査手段から出力される異物が
存在する位置情報を格納する記憶手段と、異物を目視検
査する目視検査手段102と、異物検査手段により検出
された異物の位置情報と対応づけて、目視検査手段での
目視検査に関する記述を記録するコメント記憶手段とを
備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、異物検査装置に関
し、例えば半導体集積回路を製造する際のフォトマスク
股はレチクル等に付着した異物を検出して、その異物を
識別する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体集積回路を製造する際に
は、フォトマスク股はレチクル(以下、レチクルとす
る)の回路パターンを感光剤が塗られた基板に露光転写
している。かかる半導体集積回路を製造する過程におい
て、レチクルの回路パターン上に異物が付着したままの
状態で基板に焼き付けられてしまうと、製造された半導
体集積回路には異物の付着した部分が欠陥となって現れ
てしまう。したがって、半導体集積回路を製造する過程
で、レチクルの回路パターンが形成された免状に付着し
た異物の位置やその大きさを異物検査装置によって検出
して、露光手員シャする際に欠陥の原因となる異物を取
り除く必要があった。
【0003】このため異物軒砂州値では、異物の大きさ
に応じてAランク(小)、Bランク(中)、Cランク
(大)の3段階に分類し、この分類した異物の位置と大
きさを所定のブロックに区切った方眼上のマップに表示
してモニタの画面に映し出すようになされている。そし
て、使用者はそのモニタの画面を見て異物等の欠陥が存
在する位置を確認し、光学顕微鏡などによって、異物の
目視検査を行う。そして目視検査の結果をもとに、最終
的に検査したレチクルを用いるか否かの判断を行ってい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レチクルを
異物検査装置で検査した際に、異物が検出されたとして
も、必ずしもそのレチクルが使用不可能とはならない。
その検出された異物等が本当に使用するに当たって露光
時に影響を及ぼすかは、定かでないためである。よっ
て、最終的には検出された異物を目視検査によって、使
用の可否を判断する必要がある。このように、目視検査
時における検査結果が重要となってくる。例えば、検査
したレチクルを用いて露光した半導体集積回路に欠陥が
生じた場合、欠陥を生じさせることになた要因を調べる
際に、検査結果を参照する必要がある。
【0005】また、他にも一回検査したレチクルを用い
て再度異物検査したとき、前回と同じ検査結果が出力さ
れることがたびたびある。この様な場合、前回検査した
ときの目視検査の結果を参照することが必要となる。し
たがって、本発明では、目視検査時に得られる検査結果
を出力することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の第1の形態では、被検査物に光を照射し、被
検査物から来る光を光電変換素子で受光することにより
被検査物の表面に存在する異物を検出し、異物の位置を
検出する異物検査手段と、異物検査手段から出力される
異物が存在する位置情報を格納する記憶手段と、異物を
目視検査する目視検査手段と、異物検査手段により検出
された異物の位置情報と対応づけて、目視検査手段での
目視検査に関する記述を記録するコメント記憶手段とを
備えた。
【0007】この様に本発明の第1の形態では、異物検
査手段から得られる異物の位置に対応して目視検査に関
する記述をコメント記憶手段で記憶した。また、本発明
の第2の形態では、更に、少なくとも記憶手段とコメン
ト記憶手段とに記憶された異物が存在する位置情報と、
目視検査に関する記述を表示する表示手段とを備えた。
この様に本発明の第2の形態では、記憶手段に記憶され
た異物の位置情報とコメント記憶手段に記憶された目視
検査に関する記述とを表示手段で表示させた。
【0008】また、本発明の第3の形態では、コメント
記憶手段は、目視検査手段での目視検査の検査内容また
は検査結果を記録することとした。この様に本発明の第
3の形態では、目視検査時にくだした判断または目視検
査に基づく結果をコメント記憶手段で記憶させた。ま
た、本発明の第4の形態では、目視検査の検査内容また
は検査結果は、目視検査手段で目視検査された欠陥の様
子または目視検査時の使用者の判断内容であることとし
た。
【0009】また、本発明の第5の形態では、記憶手段
は、異物検査手段の光電変換素子からの信号から、異物
の大きさに関する情報を、異物の位置情報と対応づけて
記憶することとした。また、本発明の第6の形態では、
更に表示手段において、更に記憶手段で記憶された異物
の位置情報及び異物の大きさ情報と、コメント記憶手段
で記憶された目視検査に関する記述とを対応づけて表示
することとした。
【0010】また、本発明の第7の形態では、異物検査
手段は、被検査物が少なくとも一方の面にペリクル膜が
設けられたレチクルまたはフォトマスクを検査し、ペリ
クル膜、レチクルまたはフォトマスクの一方の面及び他
方の面について別々に異物を検出する異物検査手段であ
り、欠陥の位置情報は、ペリクル膜、レチクルまたはフ
ォトマスクの一方の面または他方の面のいづれかの情報
と、かつ欠陥の座標情報であることとした。この様にペ
リクル膜がも食えられたレチクルまたはフォトマスクに
ついて、レチクルまたはフォトマスクのそれぞれの面お
よびペリクル膜をそれぞれ異物検査手段で異物の有無を
検査し、そして得られた異物の位置情報には、その異物
がレチクルまたはフォトマスクのどちらかの面にある
か、それともペリクル膜に有るかの情報を共に有した。
【0011】また、本発明の第8の形態では、異物検査
手段により検出された異物の位置情報は、複数の異物が
存在する領域を示したものであり、コメント記憶手段
は、位置情報で示される領域に存在する複数の異物に関
する記述を記憶することとした。この様に、複数の異物
をまとめて、一つのコメントを付けるようにした。
【0012】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
説明する。本発明の実施の形態である異物検査装置の全
体構成を図1に示す。本発明の実施の形態の異物検査装
置は、レチクルを搬入するレチクル搬入部103と、レ
チクルを各検査部またはレチクル搬出部104に搬送す
るレチクル搬送手段105と、異物検査部101と、目
視検査部102と、レチクル搬出部104と全体制御部
106とを備えている。
【0013】このレチクル搬入部103には、これから
検査されるレチクルがレチクルケースに収納された状態
で配置されている。また、レチクル搬送手段105は。
レチクル搬入部103に配置されているレチクルケース
からレチクルを取り出すためのベルト等の搬送手段と、
異物検査部101または目視検査部102にレチクルを
投入する搬送手段から構成されている。
【0014】異物検査部101には、レチクル搬送手段
103によって搬入されたレチクルについて、光学的に
異物の有無を検査する装置であって、詳細な説明は後述
する。この異物検査部101によって異物等が確認され
たレチクルは、再びレチクル搬送手段105によって目
視検査部102に搬送させる。ところで、目視検査部1
02は図2で示した構成を有している。この目視検査部
102は、光学顕微鏡201が備えられており、光学顕
微鏡201で得られた像をCCDカメラ202で電気信
号に変換されている。電気信号に変換された光学顕微鏡
201の像は、ITVモニター203で画像表示する。
使用者は、目視検査部102の光学顕微鏡の視野内に、
異物検査部101で検出された異物の検出位置が入るよ
うにレチクルを移動して、ITVモニター203でレチ
クルを目視観察する。
【0015】また、目視検査部102には、異物検査部
101で異物検査されたレチクルを載置するステージ2
04を備えている。このステージ204は、ステージ駆
動手段205により移動可能となっている。このステー
ジ駆動手段205はステージ駆動制御部206によって
制御されており、ステージ制御部206は、全体制御部
106から出力される異物の位置座表情報が入力され
る。したがって、このステージ駆動手段205は、全体
制御部106に入力された異物の座標情報をもとに制御
されている。
【0016】次に、レチクル搬出部104について説明
する。レチクル搬出部104は、使用可能なレチクルと
使用不可能なレチクルとを選択して所定の場所にレチク
ルを載置するストッカーが設けられている。検査が終了
したレチクルは、最終的にこのレチクル搬出部104に
納められる。このレチクル搬出部104は、図1で図示
されたように使用可能なレチクルと使用不可能なレチク
ルとが同一のストッカーに収納される様になっている。
【0017】しかしながら、本発明はこれに限らず、使
用可能なレチクルと使用不可能なレチクルとを別々のス
トッカーに収納することでも良い。使用可能なレチクル
と使用不可能なレチクルとを別々のストッカーに収納す
れば、使用可能なレチクルと使用不可能なレチクルとを
間違えて使用することを防ぐことができる。ところで、
異物検査部101では、図3の様な構成を有している。
異物検査部101の説明を図3を用いて行う。この異物
検査部101では、被検査物であるレチクル2は、Y軸
方向に移動可能な一軸ステージ3に載置される。
【0018】この状態においてレチクル2の表面を異物
検査する場合、まず駆動部4Aを動作することによりス
イッチングミラー5を図中破線で示すようにレーザー光
が通過する位置に設置する。このようにセッティングし
た後、光源6からレーザー光を出力すると、そのレーザ
ー光はスキャナーミラー7、集光レンズ8、スイッチン
グミラー5及びミラー9を順に介してレチクル2の表面
に照射される。このとき駆動部4Bを動作させてスキャ
ナーミラー7の角度を変えると、レーザースポットはレ
チクル2の表面上をX軸芳香に沿って移動する。また駆
動部4Cを動作させて一軸ステージ3をY軸方向に沿っ
て移動させると、レーザースポットはレチクル2の表面
上をY軸方向に沿って移動する。
【0019】異物検査部101では、このようにスキャ
ナーミラー7及び一軸ステージ3を動作させることによ
りレーザースポットをX軸方向及びY軸方向に移動さ
せ、レーザー光によってレチクル2の表面全体を走査す
る。このようにしてレーザー光によってレチクル2の表
面を走査したとき、レチクル2の表面に異物等が存在す
ると、この様な異物によってレーザー光が乱反射する。
従って、その散乱光を検出すれば異物の存在を検出する
ことができる。このため異物検査部101には複数の光
電変換素子10A〜10Eが散乱光を検出して得るよう
な位置に配設されている。
【0020】この光電変換素子10A〜10Eは光を受
光すると、光の強さに応じた電気信号SA 〜SE をそれ
ぞれ出力する。この電気信号SA 〜SE はそれぞれ異物
検査制御部11に入力される。異物検査制御部11は電
気信号SA 〜SE を解析することにより、異物が存在す
るか否かを判断する。例えば、異物によって散乱光が発
生した場合には、無指向性の散乱光が発生するため、全
ての光電変換素子10A〜10Eが散乱光を受光して電
気信号SA 〜SE を出力する。このため異物検査制御部
11は全ての電気信号SA 〜SE を受けたことにより、
異物が存在することを検出する。また、このとき、異物
の大きさによって電気信号SA 〜SE の値が異なるた
め、その値を解析することにより異物の大きさ自体も検
出する。
【0021】また、異物検査制御部11は制御信号CA
、CB 、CC を出力して、それぞれ駆動部4A、4
B、4Cを制御しているため、レーザー光がレチクル2
のどこを照射しているかを認識している。この様な仕組
みで、異物検査制御部11は、散乱光を検出したとき
に、レーザ光の照射位置をもとにその異物の位置自体も
検出ことができる。
【0022】また、レチクル2の裏面を異物検査する場
合には、駆動部4Aを動作させることによりレーザー光
が通過して照射さることが無い位置にスイッチングミラ
ー5を移動させることによりレーザー光が通過しない位
置にスイッチングミラー5を移動させる。これにより光
源6から出力されたレーザー光はスキャナーミラー7、
集光レンズ8、ミラー15を順に介してレチクル2の裏
面に照射される。このとき、同様にしてスキャナーミラ
ー7の角度を変えると共に、レチクル2をY軸方向に沿
って移動させることにより、レーザースポットでレチク
ル2の裏面全体を走査する。これにより、異物によって
発生した散乱光を裏面側用の光電変換素子(図示せず)
によって検出し、その結果、得た電気信号を異物検査制
御部11によって解析する。
【0023】このようにして異物検査部101では、レ
チクル2の裏面についても同様に異物検査を行い、その
検査結果を全体制御部106内のメモリ12に記憶す
る。ところで、全体制御部106については、図4に示
す構成を有している。全体制御部106は、本発明の実
施の形態である異物検査装置全体の制御を司る制御部4
1と、異物検査制御部11から得られる異物の位置情
報、異物の大きさ情報などを記憶するためのメモリ12
を有している。
【0024】また、更に使用者が目視検査時に入力する
コメントを入力するための情報入力手段42と、そし
て、メモリー12に記憶されている欠陥の位置情報や欠
陥の大きさ情報、そして、レチクル名、レチクルサイズ
等を表示したり、また、コメントを入力するときの入力
画面を表示するためのディスプレイ43と、メモリ12
に記憶されている異物の位置情報、異物の大きさ情報、
レチクル名、レチクルサイズ及び使用者が入力したコメ
ント等の情報を磁気記録媒体等に出力する外部記憶手段
44とを備えている。
【0025】制御部41は、レチクル搬送部105、目
視検査部102と、ステージ駆動制御部206および異
物検査制御部11と信号のやり取りが出来るようになっ
ている。そして、更にレチクルストッカーに載層された
レチクルを取り出したときに、レチクルストッカーに載
置された場所に対応して、その場所に載置されたレチク
ルの所在管理を制御部41で行っている。
【0026】次に、以上に本発明の実施の形態による異
物検査装置の動作を図5、図6および図7のフローチャ
ートを用いて説明する。本発明の実施の形態による異物
検査装置では、ステップS001において、まず、レチ
クル搬入部103のレチクルストッカーの所定の場所に
レチクルを載置する。そして、情報入力手段42から検
査されるレチクルに関するデーターが入力される。この
ステップS001で検査されるレチクル名とレチクルサ
イズ等の情報が入力される。そして、このときに制御部
41は、今後入力される異物の位置情報および大きさ情
報、コメント、検査条件(異物検査部101での感度条
件等)等を記憶する領域をメモリー12に確保する。
【0027】また、情報入力手段42からデーターを入
力する際には、レチクルが載置されたレチクルストッカ
ーの場所に対応して、データー入力を行う。ところで、
このレチクル搬入部103に搬入されたレチクルの所在
管理は、今後制御部41で行われる。レチクル搬入部1
03のレチクルストッカーには、所定のナンバーが付け
られているので、今後はそのレチクルストッカーに載置
されたときのレチクルストッカーのナンバーでもって、
レチクルを管理する。
【0028】そして、全体制御部106に入力されたレ
チクル名及びレチクルサイズ等の情報は、制御部41を
介してメモリー12に入力される。なお、このステップ
S001では、使用者が検査されるレチクルのデーター
を入力しているが、他にも実施の形態でも構わない。例
えば、そのレチクルに関するデーターが格納されている
外部コンピューター全体制御部106を接続し、そのレ
チクルに関するデー夕を外部コンピューターから全体制
御部106に取り込むことでも構わない。
【0029】次にステップS002で、全体制御部10
6の制御部41からレチクル搬送部105へ、レチクル
搬入部103からレチクルを取り出す信号を出力する。
そこでレチクル搬送部105によって、検査されるレチ
クルを取り出される。次にステップS003では、レチ
クルをレチクル搬送部105によって、異物検査部10
1に搬入する。そして、ステップS004で制御部41
から異物検査制御部11に検査開始の命令を出力し、異
物検査部101を動作させて、レチクルに異物が存在す
るか否かを検査する。この異物検査部101の検査は、
先に説明したようにレチクルの表面と裏面を行う。
【0030】検査領域全面を検査し終わったら(ステッ
プS004)、ステップS005で異物が検出されたか
否かを判断する。そして、異物が無いときには、制御部
41はレチクル搬送部105にそのレチクルをレチクル
搬出部104に搬出する信号を出力する。そして、レチ
クル搬送部105によって異物検査が終了したレチクル
が、レチクル搬出部104の使用可能レチクルの収納箇
所まで搬送される(ステップS006)。
【0031】ところで、異物検査部101に搬送された
レチクルに異物が存在する場合には、異物検査時に得ら
れた信号からその異物の位置およびその異物の大きさを
に関する情報をメモリ12に記憶させる(ステップS0
07)。実際には、制御部41では異物の位置情報と異
物の大きさ情報とを対応させて、メモリー12に記憶さ
せる。なお、この異物の位置情報とは、レチクルの表面
か裏面かの情報も含めた情報である。このとき、異物の
位置情報と異物の大きさ情報とを対応させて、制御部4
1に出力されている。
【0032】次に、ステップSO08の行程にうつる。
この行程で、制御部41はレチクル搬送部105に異物
検査部101で検査されたレチクルを目視検査装置10
2に搬送するための信号を出力する。そして、レチクル
搬送部105では、異物検査部101で検査されたレチ
クルを目視検査部102に搬送する。目視検査部102
に搬送されたレチクルは、目視検査部のステージ204
に予め位置決めされてから設置される。そして、制御部
41は、ステージ駆動手段制御部206に欠陥の位置情
報を送信する。
【0033】次にステップS009で、今検査し終わっ
たレチクルについて、以前にこのレチクルの異物検査を
実行しているか否かを判断する。外部記憶手段44には
今まで検査したレチクル名が格納されているので、その
中から同じレチクル名のデーターが格納されているか否
かを制御部41で判断する。データが無かった場合はス
テップS010の処理を行い、有った場合にはステップ
図7のS071の処理を行う。
【0034】まず、データが無かった場合について説明
する。ステップS010における工程では、目視検査装
置のステージ駆動手段制御部206がステージ駆動手段
205を駆動させて、光学顕微鏡201の視野内に異物
の検出位置が入るようにステージ204を移動する。光
学顕微鏡201の像は、ITVモニター203に映し出
されるので、使用者はITVモニター203に映し出さ
れた像を見て、使用可能か否かを判断する。
【0035】そして、使用者は使用可能か否かの判断結
果及びコメントを情報入力手段42によって制御部41
に入力する(ステップS011)。このとき、ディスプ
レイ43には図8に示すような画面を表示する。そし
て、使用者は、必要に応じてこの表示の所定のコメント
記入欄81にコメントを入力してゆく。このようにし
て、使用者のコメントが入力できるようになっている。
また、ディスプレイ43の他の画面上では、使用可能か
否かをたずねる表示がされるので、使用者はその画面の
所定の入力欄(不図示)に、使用可能か否かを入力す
る。なお特に使用可能と入力しなくても、次の異物の観
察を指示することで、使用可能と入力したことと同じ結
果になるようにしても構わない。
【0036】そして、入力された判断結果とコメント
は、ステップS012で記憶された異物の位置情報と対
応づけられながら、メモリ12および外部記憶手段44
に記憶されるようにする。つぎに、ステップS013で
ステップS011で入力された目視検査の結果に基づ
き、使用可能と判断されたか否かの判断を行う。
【0037】ところで、目視検査で使用不可と判断され
た場合、制御部41はレチクル搬送部105に目視検査
されたレチクルをレチクル搬出部104に搬送する信号
を出力する(ステップS016)。そして、レチクル搬
送部105によって目視検査されたレチクルが搬送さ
れ、レチクル搬出部104に収納される。また、目視検
査で使用可能と判断された場合、メモリー12に記憶さ
れた異物を全て目視観察したのかを制御部41で判断す
る。このとき、全ての異物について目視観察が終了して
いない場合は、再びステップS010に戻り、全ての異
物について目視観察が終了するまで、ステップS01O
からステップSO14を繰り返し行う。
【0038】そして、ステップS014で、制御部41
がメモリ12に記憶された異物を全て目視観察したと判
断した場合は、そのレチクルは使用可能レチクルと判断
し、制御部41はレチクル搬送部105に、目視検査さ
れたレチクルをレチクル搬出部104に搬送する信号を
出力する。そして、その目視検査されたレチクルはレチ
クル搬出部104に収納される。
【0039】この様にして、初めて検査されるレチクル
は、このようにしてー連の作業が終了する。つぎに、以
前に検査されたことのあるレチクルを検査した場合を説
明する。以前に検査されたことのあるレチクルの場合
は、ステップS071で、制御部41は、前回行った検
査データを外部記憶手段44から読み出し、今回異物検
査部101で行った検査データ(以下、今回の検査デー
タという)と前回行った検査データとを比較する。そし
て、前回の検査と今回の検査とで、同じ場所に異物があ
った場合には、その前回の検査データと今回の検査デー
タとの関連付けを行い、今回の検査で異物が見つかった
位置が光学顕微鏡201の視野内に入るように、ステー
ジ駆動手段204を作動させる。
【0040】次に、現在目視検査している異物に対応す
る前回データが外部記憶手段44に記憶されていたか否
かを制御部41で判断する。この時、目視検査している
異物に対応する前回データが有る場合には、ステップS
073に進み、目視検査している異物に対応する前回の
検査データをディスプレイ43に表示する。その表示の
一例として図9に示す。図9に示される表示は、レチク
ル名表示領域91と、レチクルサイズ表示領域92、検
査実行日時表示領域93、異物位置表示領域94、異物
の大きさ情報表示領域95、コメント表示領域96、検
査結果コメント表示領域97である。このようにして、
使用者に前回行った検査についてのコメントを表示す
る。使用者はこの表示を見ながら目視検査を行う(S0
75)。そして、ステップS076では使用者が目視検
査の結果、コメントを書き換える必要があれば、図8に
示す表示画面にコメントを情報入力手段42を介して入
力する。そして、検査結果も併せて情報入力手段42を
介して入力する。
【0041】なお、ステップS072で目視検査してい
る異物に対応する前回データが無い場合には、ステップ
S073の処理を飛ばして、すぐさまステップS074
の目視検査工程に入る。次に、ステップS076で、目
視検査の結果を入力されたコメントや検査結果をその異
物の位置情報と対応させてメモリ12に記憶させる。
【0042】この様に、目視検査結果が入力された後
は、ステップS077で目視検査で使用可能とされたか
否かを制御部41で判断する。ところで、レチクルが使
用不可能と判断された場合、ステップS080で制御部
41はレチクル搬送部105に目視検査されたレチクル
をレチクル搬出部104に搬出する信号を出力する。そ
して、レチクル搬送部105はそのレチクルをレチクル
搬出部104に搬送する。また、レチクルが使用可能と
判断された場合には、次にステップS078で今回の異
物検査で検出された異物全部について目視検査したか否
かを制御部41で判断する。そして、異物全部が目視検
査されていないと判断した場合には、再びステップS0
71へ戻り、次に目視観察する異物について、ステップ
S071からステップS078の作業を繰り返し行う。
【0043】そして、今回の異物検査で検出された異物
全部について目視検査したら、制御部41はレチクル搬
送部105に目視検査したレチクルをレチクル搬出部1
04に搬送する信号を出力する。そして、ステップS0
79で、そのレチクルはレチクル搬送部105によって
レチクル搬出部104に搬送される。このようにして、
一連のレチクルの検査が終了する。
【0044】この様に本発明の実施の形態である異物検
査装置では、異物検査部101で検出された欠陥を目視
で検査したときに、異物検査部101で検出されたもの
が何によるものかを記録に残すことが出来る。例えば、
検出されたものが実際には、ノイズによるもの、レチク
ルに形成された回路パターンを修正した際に生じた修正
痕、レチクルに形成された回路パターンの力ケおよびハ
ガレによるもの、レチクルの回路パターンを形成してい
る欠陥等が検出される。この様な違いは、異物検査部1
01で判別できず、目視検査時に実際に判明する。
【0045】本発明の実施の形態である異物検査装置で
は、コメントを異物の位置情報と対応づけて記録するこ
とができるのでその異物の特徴を保存・管理できるよう
になる。また、この異物検査装置では、以前に行った検
査結果を、再び検査する際に表示できるようになってい
る。この様に以前に検査した結果が残っていると、その
情報を利用して、目視検査を行う使用者が迅速に判断を
下すことができるので、スループットの向上につなが
る。
【0046】また、更に本発明の実施の形態では、異物
の位置情報と対応づけられてる情報は、コメントの他
に、異物検査部101で検出された異物の大きさに関す
る情報を対応づけて記憶し、表示している。検出された
異物が極小さい異物の場合には、露光時に影警を及ぼさ
ないこともあるので、この様に異物の大小についても、
最終的にレチクルが使用できるか否かを判断する際に、
重要な検討事項となる。したがって、その異物の大きさ
に関する情報についても、対応づけて記憶、表示するこ
とは、大変有意義である。
【0047】さらに、異物検査部101で異物検査して
いるときの検査条件も合わせて対応づけて、記憶表示す
ることも可能である。検査条件も合わせて対応づけて、
記憶・表示をすれば、異物検査部101で検出された異
物が、検出感度を上げた際に生じやすくなる疑似欠陥で
ある可能性が高いか低いの目安を使用者に与えることが
でき、目視検査時の判断を迅速に促す効果がある。
【0048】他にも、この異物検査装置では、以上に掲
げた効果の他に、次のような効果を奏する。目視検査工
程で使用可能と判断されたレチクルを用いて、縮小投影
露光機で露光しウェハー上での回路パターン形成に失敗
したときに、その原因を掴む材料として、目視検査時の
コメントが重要となる。そのときに目視検査時のコメン
トが記録されていれば、使用可能と判断したときのコメ
ントを参照することで、原因究明の資料とすることが出
来る。また、そのコメントはレチクル上における位置と
対応して記録されているので、ウェハー上で生じた欠陥
がレチクル上のどの部分にある欠陥が原因となりうるの
かが容易に判る。
【0049】ところで、外部記憶手段44は、携帯の容
易なフロッピーディスクや光磁気ディスクでも構わな
い。このように外部記憶手段44が携帯の容易な媒体で
あれば、本発明の実施の形態である異物検査装置と、縮
小投影露光装置とが各々別々の場所に有るような場合、
欠陥の位置情報および大きさ情報と、目視検査時につけ
たコメントとをプリントアウトした紙を添付して、レチ
クルを異物検査装置のある場所から縮小投影露光装置の
ある場所まで移動させるときに、添付した紙が大変じゃ
まになる恐れがある。しかしながら、本発明の実施の形
態である異物検査装置は携帯の容易なフロッピーディス
クや光磁気ディスクにダウンロードすることができるの
で、この様な問題も解決することが出来る。
【0050】ところで、縮小投影露光装置に用いられる
レチクルは、図10に示すようにレチクル500の回路
パターンが形成されたパターン面501にペリクル膜5
03が備えられたものがー般に用いられる。この様なレ
チクルを検査するような場合、本発明の実施の形態であ
る異物検査装置では、ガラス面501、その裏側である
パターン面502及びペリクル膜503とをそれぞれ異
物検査部101で欠陥の検査を行い、欠陥が検出された
場合、目視検査を行う必要がある。
【0051】本発明の実施の形態である異物検査装置で
は、この様な場合、コメントを入力する際に図11の様
な入力画面を表示して行うことでも構わない。また、上
記の本発明の実施の形態における異物検査装置は、個々
の異物ごとにコメントを付けて、記憶・表示している
が、本発明はこれ以外にも、複数個の異物をまとめて、
一つのグループの異物として認識し、そのグループ全体
に対してコメントを付けることでも構わない。この様に
コメントを付ける場合には、図11に示す入力画面を利
用して、ガラス面501全体、パターン面502全体、
ペリクル膜503全体にそれぞれーつのコメントを入力
するようにしても構わない。
【0052】なお、ガラス面501にもペリクルが設け
られているようなレチクルを検査するような場合には、
同様にガラス面側ぺリクルについてコメントを入力する
領域を設けても構わない。また、入力するコメントが予
め決まっているような場合は、入力が予想されるコメン
トを入力画面上にリストとして表示し、使用者がそのリ
ストを選択することで目動的に入力するようにすると、
更に操作性が向上する。
【0053】
【発明の効果】本発明の様に、異物または欠陥の位置情
報に対応して、目視検査時にコメントを付加すること
で、欠陥の形状等の特徴を保存管理できるようになる。
また、更に再び異物検査を行ったときに、以前に行った
検査情報を得ることが出来るので、目視検査時での使用
可否の判断を迅速に行えるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】:本発明の実施の形態である異物検査装置の全
体構成概略図である。
【図2】:本発明の実施の形態である異物検査装置の異
物検査部の構成図である。
【図3】:本発明の実施の形態である異物検査装置の目
視検査部の構成図である。
【図4】:本発明の実施の形態である異物検査装置の全
体制御部の概略構成図である。
【図5】:本発明の実施の形態である異物検査装置のフ
ローチャートを示した図である。
【図6】:本発明の実施の形態である異物検査装置のフ
ローチャートを示した図である(図5の続き)。
【図7】:本発明の実施の形態である異物検査装置のフ
ローチャートを示した図である(図5の続き)。
【図8】:本発明の実施の形態である異物検査装置で表
示されるコメント入力画面の図である。
【図9】:本発明の実施の形態である異物検査装置で表
示される前回の検査データを表示したときの図である。
【図10】:ペリクル付きレチクルの断面図である。
【図11】:本発明の実施の形態である異物検査装置で
表示されるコメント入力画面の図で、図10のペリクル
付きレチクルを検査したときの表示画面である。
【符号の説明】
101 異物検査部 2…レチクル、3…一軸ステージ、4A〜4C…駆動
部、5…スイッチングミラー、6…光源、7…スキャナ
ーミラー、8…集光レンズ、9、15…ミラー、10A
〜10E…光亀変換素子、11…異物検査制御部 102 目視検査部 201…光学顕微鏡、202…CCDカメラ、203…
ITVモニター、204…ステージ、205…ステージ
駆動手段、206…ステージ駆動制御部 103 レチクル搬入部 104 レチクル搬出部 105 レチクル搬送部 106 全体制御部 12…メモリ、41…制御部、42…情報入力手段、4
3…ディスプレイ、44…外部記憶手段 81…コメント記入欄 91…レチクル名表示領域、92…レチクルサイズ表示
領域、93…検査実行日時表示領域、94…異物位置表
示領域、95…異物大きさ情報表示領域、96…コメン
ト表示領域、97…検査結果コメント表示領域 501…レチクル、502…ガラス面、503…パター
ン面、504…ガラス面の入力領域、505…パターン
面の入力領域、506…ペリクルの入力領域

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査物に光を照射し、前記被検査物か
    ら来る光を光電変換素子で受光することにより前記被検
    査物の表面に存在する異物を検出し、前記異物の位置を
    検出する異物検査手段と、 前記異物検査手段から出力される前記異物が存在する位
    置情報を格納する記憶手段と、 前記異物を目視検査する目視検査手段と、 前記異物検査手段により検出された異物の位置情報と対
    応づけて、前記目視検査手段での目視検査に関する記述
    を記録するコメント記憶手段とを備えたことを特徴とす
    る異物検査装置
  2. 【請求項2】 更に、少なくとも前記記憶手段と前記コ
    メント記憶手段とに記憶された前記異物が存在する位置
    情報と、前記目視検査に関する記述を表示する表示手段
    とを備えたことを特徴とする請求項1記載の異物検査装
  3. 【請求項3】 前記コメント記憶手段は、前記目視検査
    手段での目視検査の検査内容または検査結果を記録する
    ことを特徴とする請求項1記載の異物検査装置
  4. 【請求項4】 前記目視検査の検査内容または検査結果
    は、前記目視検査手段で目視検査された欠陥の様子また
    は目視検査時の使用者の判断内容であることを特徴とす
    る請求項3記載の異物検査装置
  5. 【請求項5】 前記記憶手段は、前記異物検査手段の光
    電変換素子からの信号から、異物の大きさに関する情報
    を、前記異物の位置情報と対応づけて記憶することを特
    徴とする請求項1記載の異物検査装置
  6. 【請求項6】 前記表示手段は、更に前記記憶手段で記
    憶された前記異物の位置情報及び前記異物の大きさ情報
    と、前記コメント記憶手段で記憶された目視検査に関す
    る記述とを対応づけて表示することを特徴とする請求項
    5記載の異物検査装置
  7. 【請求項7】 前記異物検査手段は、前記被検査物が少
    なくとも一方の面にペリクル膜が設けられたレチクルま
    たはフォトマスクを検査し、前記ペリクル膜、前記レチ
    クルまたはフォトマスクの一方の面及び他方の面につい
    て別々に異物を検出する異物検査手段であり、 前記欠陥の位置情報は、前記ペリクル膜、前記レチクル
    またはフォトマスクの一方の面または他方の面のいづれ
    かの情報と、かつ前記欠陥の座標情報であることを特徴
    とする請求項1記載の異物検査装置
  8. 【請求項8】 前記異物検査手段により検出された異物
    の位置情報は、複数の異物が存在する領域を示したもの
    であり、前記コメント記憶手段は、前記位置情報で示さ
    れる領域に存在する複数の異物に関する記述を記憶する
    ことを特徴とする請求項1記載の異物検査装置
JP7146797A 1997-03-25 1997-03-25 異物検査装置 Pending JPH10267860A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007271952A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Toppan Printing Co Ltd ステンシルマスクの検査方法およびその装置
JP2008076169A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Olympus Corp 基板検査システム
JP2008251042A (ja) * 2008-06-13 2008-10-16 Hitachi High-Technologies Corp 遠隔保守システム
US8235212B2 (en) 2002-12-27 2012-08-07 Asml Netherlands B.V. Mask transport system configured to transport a mask into and out of a lithographic apparatus
JPWO2016153052A1 (ja) * 2015-03-26 2018-01-18 大日本印刷株式会社 フォトマスクの製造方法および検査装置
JP2019212235A (ja) * 2018-06-08 2019-12-12 アンリツインフィビス株式会社 物品検査システム及びそのプログラム

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8235212B2 (en) 2002-12-27 2012-08-07 Asml Netherlands B.V. Mask transport system configured to transport a mask into and out of a lithographic apparatus
JP2007271952A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Toppan Printing Co Ltd ステンシルマスクの検査方法およびその装置
JP2008076169A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Olympus Corp 基板検査システム
JP2008251042A (ja) * 2008-06-13 2008-10-16 Hitachi High-Technologies Corp 遠隔保守システム
JPWO2016153052A1 (ja) * 2015-03-26 2018-01-18 大日本印刷株式会社 フォトマスクの製造方法および検査装置
JP2019212235A (ja) * 2018-06-08 2019-12-12 アンリツインフィビス株式会社 物品検査システム及びそのプログラム

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