JPH047511Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH047511Y2 JPH047511Y2 JP4230589U JP4230589U JPH047511Y2 JP H047511 Y2 JPH047511 Y2 JP H047511Y2 JP 4230589 U JP4230589 U JP 4230589U JP 4230589 U JP4230589 U JP 4230589U JP H047511 Y2 JPH047511 Y2 JP H047511Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dust
- heat treatment
- case
- chain
- furnace body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Tunnel Furnaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
イ 産業上の利用分野
本考案は、連続処理装置に関し、例えば、電子
部品の熱処理を連続的に行うのに好適な連続熱処
理装置に関する。[Detailed Description of the Invention] A. Field of Industrial Application The present invention relates to a continuous processing apparatus, and for example, to a continuous heat processing apparatus suitable for continuously performing heat treatment on electronic components.
ロ 従来技術
半導体部品や、セラミツクス基板にスクリーン
印刷によつて所定の回路パターンを形成し、焼成
してなる厚膜集積回路、或いは配向膜や偏向膜が
形成された液晶表示装置用ガラス基板等の電子部
品の熱処理にあつては、塵埃の付着によつて電子
部品の品質が甚だしく劣化するので、清浄な雰囲
気中で熱処理がなされる必要がある。B. Prior art Semiconductor parts, thick film integrated circuits formed by forming a predetermined circuit pattern on a ceramic substrate by screen printing and firing, or glass substrates for liquid crystal display devices on which alignment films and deflection films are formed, etc. When heat-treating electronic components, the quality of the electronic components deteriorates significantly due to adhesion of dust, so the heat treatment must be performed in a clean atmosphere.
上記電子部品の熱処理は、連続的に行うのが生
産性の観点から有利である。このような連続熱処
理炉として、従来から、炉本体の装入口から排出
口へと貫通するコンベヤ上に電子部品を載置し、
このコンベヤを駆動して電子部品を炉本体内で搬
送し、予め所定の温度分布としてある炉本体内を
移動させて所定の熱処理を施していた。ところ
が、コンベヤはガイド上で移動するようにしてあ
るので、駆動時にガイド上面に摺擦するようにな
る。この摺擦によつて好ましくない金属粉が発生
し、この金属粉が炉本体内に浮遊してこれらが被
処理物に付着すると電子部品の品質が劣化し、歩
留が低いという問題がある。 It is advantageous from the viewpoint of productivity to perform the heat treatment of the electronic components continuously. Conventionally, such continuous heat treatment furnaces place electronic components on a conveyor that passes through the furnace body from the charging port to the discharge port.
This conveyor is driven to transport the electronic components within the furnace body, and the electronic components are moved within the furnace body with a predetermined temperature distribution and subjected to a prescribed heat treatment. However, since the conveyor is designed to move on a guide, it will rub against the upper surface of the guide when it is driven. This rubbing generates undesirable metal powder, and if this metal powder floats in the furnace body and adheres to the workpiece, the quality of electronic parts deteriorates and there is a problem of low yield.
ハ 考案の目的
本考案は、清浄度の高い雰囲気中で処理を行う
ことができ、被処理物の品質が高く、高い歩留を
以て処理が遂行される連続処理装置を提供するこ
とを目的としている。C. Purpose of the invention The purpose of the invention is to provide a continuous processing device that is capable of processing in a highly clean atmosphere, with high quality workpieces, and with a high yield. .
ニ 考案の構成
即ち、本考案は、被処理物を搬送手段によつて
処理装置本体内で移動させ、この移動時に前記被
処理物に所定の処理を施す連続処理装置におい
て、前記被処理物の前記移動時に前記搬送手段の
部位から発生する塵埃を吸着する塵埃吸着手段を
有することを特徴とする連続処理装置に係るもの
である。D. Structure of the invention In other words, the present invention provides a continuous processing apparatus in which an object to be processed is moved within the main body of the processing apparatus by means of a conveyance means, and a predetermined process is performed on the object to be processed during this movement. The present invention relates to a continuous processing apparatus characterized in that it has a dust suction means for suctioning dust generated from a portion of the conveyance means during the movement.
ホ 実施例 以下、本考案の実施例を説明する。Example Examples of the present invention will be described below.
第1図は連続熱処理装置の被処理物搬送方向に
沿う断面図(第2図の−線断面図)、第2図
は第1図の−線拡大断面図、第3図は第2図
の部分拡大図である。 Figure 1 is a cross-sectional view of the continuous heat treatment apparatus along the direction of conveying the processed material (cross-sectional view taken along the - line in Figure 2), Figure 2 is an enlarged cross-sectional view taken along the - line in Figure 1, and Figure 3 is the cross-sectional view taken along the - line in Figure 2. It is a partially enlarged view.
炉本体1の天井3A、炉床3B、側壁3Cは耐
火断熱材からなつていて、これらは鋼板製炉殻5
に覆われている。天井3Aには赤外線ヒータ2が
取付けられ、天井3A、炉床3B、側壁3Cは、
ヒータ2をも含めてステンレス鋼板4で覆われて
いる。更に必要に応じて、ステンレス鋼板4の内
面に耐熱セラミツクス又は石英でライニングして
も良い。このようにして炉本体1内に塵埃が入ら
ぬようにしてある。 The ceiling 3A, the hearth 3B, and the side walls 3C of the furnace body 1 are made of fireproof insulation material, and these are made of a steel plate furnace shell 5.
covered in. An infrared heater 2 is attached to the ceiling 3A, and the ceiling 3A, hearth 3B, and side wall 3C are
The heater 2 is also covered with a stainless steel plate 4. Furthermore, if necessary, the inner surface of the stainless steel plate 4 may be lined with heat-resistant ceramics or quartz. In this way, dust is prevented from entering the furnace body 1.
炉本体1内では、4箇所で折曲する耐熱鋼板製
ケース12が炉床3B及び側壁3Cに接して設置
されていて、ケース12には、その上部側にて開
口部20が形成され、開口部20におけるケース
12の内側には、所定領域に例えばゴムの中にフ
エライト粉等が含有された帯状の磁性体7,7が
ビス止め又は耐熱性の接着剤等で固定されてい
る。 Inside the furnace body 1, a heat-resistant steel plate case 12 that is bent at four points is installed in contact with the hearth 3B and side walls 3C. On the inside of the case 12 in the section 20, band-shaped magnetic bodies 7, 7, each of which is made of rubber containing ferrite powder or the like, are fixed in a predetermined area with screws or a heat-resistant adhesive.
また、ガイドレール8が装入口1a、排出口1
bから突出してケース12の底部内側の耐熱鋼板
上に固定され、ガイドレール8に案内されるよう
にその上にチエーン9が位置する。チエーン9の
内側ピンリンクプレート9aには1つおきに支持
板10が外方(第3図では上方)に向けて固定さ
れていて、支持板10から炉本体内方へ突出する
ように軸10aが固定されている。軸10aに石
英又は耐熱セラミツクスからなる(比較的低温
(300℃以下)の熱処理にあつてはステンレス鋼製
でも良い)中空の被処理物載置管11が外嵌し、
被処理物載置管11上に被処理物Wが載置され
る。被処理物載置管11を上記の材料とすること
により、表面酸化によるスケールの発生がなく、
被処理物載置時に塵埃が発生することもなく、ま
た、高温における剛性、耐クリープ性も十分に高
い。 In addition, the guide rail 8 is connected to the charging port 1a and the discharge port 1.
b protrudes from and is fixed on a heat-resistant steel plate inside the bottom of the case 12, and the chain 9 is positioned thereon so as to be guided by the guide rail 8. Support plates 10 are fixed to every other inner pin link plate 9a of the chain 9 so as to face outward (upward in FIG. 3), and shafts 10a protrude from the support plates 10 into the furnace main body. is fixed. A hollow workpiece mounting tube 11 made of quartz or heat-resistant ceramics (stainless steel may also be used for heat treatment at a relatively low temperature (300° C. or lower)) is fitted onto the shaft 10a, and
A workpiece W is placed on the workpiece mounting tube 11 . By using the above-mentioned material for the workpiece mounting tube 11, there is no generation of scale due to surface oxidation.
No dust is generated when the object to be processed is placed, and the rigidity and creep resistance at high temperatures are sufficiently high.
第4図はケース12、チエーン9、支持板1
0、被処理物載置管11及び仮想線で示す被処理
物Wの拡大平面図、第5図はケースを除く斜視図
である。 Figure 4 shows case 12, chain 9, and support plate 1.
0 is an enlarged plan view of the workpiece mounting tube 11 and the workpiece W indicated by imaginary lines, and FIG. 5 is a perspective view excluding the case.
チエーン9は、炉本体1の外部でケース12か
ら突出し、スプロケツト13A,13Bに掛けら
れ、スプロケツト13Aの駆動によつて矢印方向
に周回するようにしてある。図中、14,14
は、チエーン9が炉本体外で弛まぬように設けら
れたテンシヨンスプロケツトである。チエーン
9、スプロケツト13A,13B及びテンシヨン
スプロケツト14,14によつてチエーンコンベ
ヤが構成される。 The chain 9 protrudes from the case 12 outside the furnace body 1, is hung on sprockets 13A and 13B, and is rotated in the direction of the arrow by the drive of the sprocket 13A. In the figure, 14, 14
is a tension sprocket installed so that the chain 9 does not loosen outside the furnace body. The chain 9, sprockets 13A, 13B, and tension sprockets 14, 14 constitute a chain conveyor.
熱処理は次のようにして遂行される。ヒータ2
に通電して炉本体1内を所定の温度分布とし、ス
プロケツト13Aを駆動させてチエーン9を周回
させ、装入口1a側のスプロケツト13Bの直後
で2本の載置管11の上に被処理物Wを載置す
る。被処理物Wは、チエーンコンベヤの駆動によ
つて次々と炉本体1内を搬送され、所定の熱処理
を施されて排出口1bから次々と炉本体1外へ排
出され、スプロケツト13Aの直前で載置管11
から取外されて次の工程へ送られる。 The heat treatment is performed as follows. Heater 2
The sprocket 13A is driven to rotate the chain 9, and the workpiece is placed on the two mounting tubes 11 immediately after the sprocket 13B on the side of the charging port 1a. Place W. The objects to be treated W are transported through the furnace body 1 one after another by the drive of a chain conveyor, are subjected to a predetermined heat treatment, are discharged from the furnace body 1 one after another from the discharge port 1b, and are loaded just before the sprocket 13A. Placement pipe 11
It is removed from the pipe and sent to the next process.
上記したチエーン方式は、搬送時にチエーン9
が炉中に露出しないので、スケール等の金属酸化
物が発生することが少ない。 The chain system described above uses chain 9 during transportation.
is not exposed in the furnace, so metal oxides such as scale are less likely to be generated.
チエーン9は、ケース12内でガイドレール8
上を移動してこれと摺擦し、この摺擦によつて塵
(摩耗粉)Dが発生する。然し、発生した塵Dは、
第3図に拡大図で示すように、ケース12の開口
部20から炉本体内に入り込もうとしても、開口
部20に存在する磁性体7,7によつて吸着され
る。従つて、炉本体内の処理領域に塵Dが浮遊す
ることがない。また、炉本体内で摺動部分は、ケ
ース12内のみにあり、熱処理領域には存在しな
いので、被処理物Wに塵が付着することが殆どな
く、熱処理後の被処理物は高品質なものとなり、
歩留も高い。なお、本例では、主に200℃以下の
比較的低温の熱処理の場合について述べている。 The chain 9 is connected to the guide rail 8 within the case 12.
It moves above and rubs against it, and this rubbing generates dust (abrasion powder) D. However, the generated dust D is
As shown in an enlarged view in FIG. 3, even if it tries to enter the furnace main body through the opening 20 of the case 12, it is attracted by the magnetic bodies 7, 7 present in the opening 20. Therefore, the dust D does not float in the processing area within the furnace main body. In addition, since the sliding parts in the furnace body are only in the case 12 and not in the heat treatment area, there is almost no dust adhering to the workpiece W, and the workpiece after heat treatment is of high quality. Become a thing,
Yield is also high. Note that this example mainly describes the case of heat treatment at a relatively low temperature of 200° C. or lower.
次に、実際の操業結果について説明する。 Next, actual operational results will be explained.
炉本体1の内部の長さを5m、炉本体内の最高
加熱温度を200℃、炉本体内の雰囲気ガスを窒素
ガスとし、その供給量及び排出量を300/分と
して、長さ400mm、幅300mmの板状被処理物(この
例では液晶表示装置のガラス基板)を14mm/秒の
搬送速度で炉本体内を搬送して連続的に熱処理を
施した。その結果、炉本体内の清浄度はクラス
102であつた。この値は、従来のメツシユベルト
コンベヤによる被処理物搬送方式の連続熱処理炉
におけるクラス105に比較して、桁違いに低い値
である。上記清浄度は、浮遊粒子の径と立方フイ
ート当たりの浮遊粒子の数とで表されるものであ
つて、例えばクラス10は1立方フイート中に粒径
0.5μmの微粒子が10個以下であることを、クラス
102は同じく100個以下であることを、クラス105
は同じく100000個以下であることを夫々示すもの
である。 The internal length of the furnace body 1 is 5 m, the maximum heating temperature inside the furnace body is 200°C, the atmospheric gas inside the furnace body is nitrogen gas, the supply rate and discharge rate are 300/min, the length is 400 mm, and the width is 400 mm. A 300 mm plate-shaped workpiece (in this example, a glass substrate for a liquid crystal display device) was transported through the furnace main body at a transport speed of 14 mm/sec to undergo continuous heat treatment. As a result, the cleanliness inside the furnace body is class
It was 10 2 . This value is an order of magnitude lower than that of Class 105 in a conventional continuous heat treatment furnace that uses a mesh belt conveyor to transport the processed material. The above cleanliness is expressed by the diameter of suspended particles and the number of suspended particles per cubic foot. For example, class 10 is the number of suspended particles per cubic foot.
The class indicates that there are 10 or less particles of 0.5 μm.
10 2 is also less than 100, class 10 5
similarly indicates that the number is 100,000 or less.
第6図〜第9図は、上述した磁性材料として異
なるものを用いた例を示す概略図とケース及びそ
の周辺の断面図である。 FIGS. 6 to 9 are schematic diagrams and cross-sectional views of the case and its surroundings, showing examples in which different magnetic materials are used as described above.
第6図〜第9図は磁性材料として例えばフエラ
イト等の微粉末を灯油等に懸濁させたコロイド状
流体(これは例えば回転シヤフトとそれをささえ
る構造の間に生じるすき間をふさぐシールとして
用いられているものであつて、強磁性をもつたコ
ロイド状流体である。以下の説明では磁性流体と
呼ぶ。)を用いた例であつて、基本的な構造は上
述の例と略同様であるので説明を省略し、以下の
説明ではその他の異なる点について主に述べる。
なお、上記磁性流体については、例えば日経サイ
エンス社1983.12.20発行の別冊サイエンス新材料
の132ページから142ページに詳細な説明が記載さ
れているので、ここでは詳細については省略す
る。 Figures 6 to 9 show a colloidal fluid made by suspending fine powder such as ferrite as a magnetic material in kerosene or the like (this is used, for example, as a seal to close the gap that occurs between a rotating shaft and the structure that supports it). This is an example using a colloidal fluid with ferromagnetism (referred to as a magnetic fluid in the following explanation), and the basic structure is almost the same as the above example. The explanation will be omitted, and the following explanation will mainly focus on other different points.
Note that a detailed explanation of the above magnetic fluid is given, for example, on pages 132 to 142 of the special issue of Science New Materials published by Nikkei Science on December 20, 1983, so the details will be omitted here.
なお、第6図〜第9図の例は主に200℃以上の
熱処理の場合について述べている。 Note that the examples shown in FIGS. 6 to 9 mainly describe the case of heat treatment at 200° C. or higher.
即ち、第6図及び第7図に示すように、6箇所
で折曲する耐熱鋼板によつて形成されたケース2
2内には、中空のガイドレール18が上述の例と
同様に設置され、また、ケース22の上部側に形
成された開口部30の所定領域では、円筒状のパ
イプ19,19がケース22の内側に固定されて
いる。そして、ガイドレール18及びパイプ1
9,19内には夫々磁性流体17が封入され、そ
れらは図示省略した外部磁場等によつて磁化され
ていて(以下の例においても同様。)、更に第6図
に示すように、炉本体の内外にパイプ31等を用
いて磁性流体17を循環させるための循環ループ
を形成している。ここで、図中の32は熱交換器
であつて、これにより磁性流体17を冷却して循
環させることができる。また、第6図及び第7図
中の符号33は循環用のポンプ、24は耐熱鋼
板、35は断熱材である。 That is, as shown in FIGS. 6 and 7, the case 2 is made of a heat-resistant steel plate that is bent at six points.
2, a hollow guide rail 18 is installed in the same manner as in the above example, and cylindrical pipes 19, 19 are installed in a predetermined area of the opening 30 formed on the upper side of the case 22. Fixed inside. Then, the guide rail 18 and the pipe 1
Magnetic fluids 17 are sealed in each of 9 and 19, and they are magnetized by an external magnetic field (not shown) (the same applies to the following examples), and as shown in FIG. A circulation loop for circulating the magnetic fluid 17 is formed inside and outside the magnetic fluid 17 using pipes 31 and the like. Here, 32 in the figure is a heat exchanger, which allows the magnetic fluid 17 to be cooled and circulated. Further, in FIGS. 6 and 7, reference numeral 33 is a circulation pump, 24 is a heat-resistant steel plate, and 35 is a heat insulating material.
この例では炉本体内の最高加熱温度を550℃と
したほかは、前記の例におけると同様であり、炉
本体内の清浄度も前記の例におけると略同様であ
つた。 This example was the same as the previous example except that the maximum heating temperature inside the furnace body was 550°C, and the cleanliness inside the furnace body was also approximately the same as in the previous example.
以上に説明したように、本例による連続熱処理
装置によれば、ガイドレール18及びパイプ1
9,19内に磁性流体17を封入しているので、
上述の例と同様に塵Dがケース22内から開口部
30を通つて炉本体内に入り込もうとしても、第
7図に示すように、ガイドレール18及びパイプ
17,17の表示に吸着する。従つて、炉本体内
の処理領域に塵Dが入り込むのを防止できる。 As explained above, according to the continuous heat treatment apparatus according to this example, the guide rail 18 and the pipe 1
Since the magnetic fluid 17 is sealed inside the 9 and 19,
Even if the dust D tries to enter the furnace main body from inside the case 22 through the opening 30 as in the above example, it will be adsorbed on the guide rail 18 and the pipes 17, 17, as shown in FIG. Therefore, it is possible to prevent dust D from entering the processing area within the furnace main body.
また、この例では、上述したように、まず、ガ
イドレール18自体を塵Dの第1の吸着手段とし
ているので、ガイドレール18とチエーン9との
摺擦によつて発生する塵Dを効果的に吸着でき、
更に、ガイドレール18で吸着しきれなかつた塵
Dを開口部30の所定領域に設けた第2の吸着手
段(磁性流体を封入したパイプ19)によつてス
トツプさせることができる。 In addition, in this example, as described above, since the guide rail 18 itself is used as the first suction means for dust D, the dust D generated by the sliding friction between the guide rail 18 and the chain 9 is effectively absorbed. It can be adsorbed to
Furthermore, the dust D that cannot be absorbed by the guide rail 18 can be stopped by a second adsorption means (pipe 19 filled with magnetic fluid) provided in a predetermined area of the opening 30.
また、上述したように、磁性流体17を熱交換
器32によつて冷却して循環させているので、ケ
ース22内等を冷却することができ、ケース22
内でスケール等が発生することなく、また、連続
熱処理装置の耐久性を向上させるのに非常に都合
がよい。 Further, as described above, since the magnetic fluid 17 is cooled and circulated by the heat exchanger 32, the inside of the case 22, etc. can be cooled, and the inside of the case 22 can be cooled.
It is very convenient to prevent scale and the like from occurring inside the heat treatment equipment and to improve the durability of the continuous heat treatment equipment.
第8図に例は、基本的には略第6図及び第7図
の例と同様の構造であるが、異なる点は、ケース
36自体を2重壁構造にしてその中の空間に磁性
流体17を導通させるようにしたことである。即
ち、第8図に示すように、ガイドレール8及びチ
エーン9を囲むように設けられた2重壁構造のケ
ース36に磁性流体17を導通させているので、
上述の例と同様に効果的に塵Dを吸着でき、炉本
体内に塵Dが入り込むのを防止できる。また、ケ
ース36自体を冷却媒体としているので、その内
部等を効率良く冷やすことができ、耐久性の向上
に非常に有利となる。 The example shown in FIG. 8 has basically the same structure as the examples shown in FIGS. 6 and 7, but the difference is that the case 36 itself has a double wall structure, and the space therein is filled with magnetic fluid. 17 is made conductive. That is, as shown in FIG. 8, since the magnetic fluid 17 is conducted through the double-walled case 36 provided to surround the guide rail 8 and the chain 9,
As in the above example, the dust D can be effectively adsorbed, and the dust D can be prevented from entering the furnace body. Further, since the case 36 itself is used as a cooling medium, the inside thereof can be efficiently cooled, which is very advantageous for improving durability.
第9図の例は、上述した第7図の例と基本的な
構造は略同様であつて、その他の異なる点は、中
空のガイドレール18の対向する側(チエーン9
の上部側)に中空の押さえガイドレール28を固
定している。そして、それらのガイドレール18
及び28には夫々磁性流体17が導通されて上述
した第6図に示すような循環ループを構成してい
ることである(即ち、第6図及び第7図で対応さ
せて考えると、パイプ19の代わりに押さえガイ
ドレール28が設けられて循環ループを構成して
いる。)。ガイドレール28によつて、チエーン9
が移動中に上下にがたつかぬようになる。また、
この例では、上述の例と異なり、被処理物載置管
11に替えて、支持板10の上端部に設けられた
軸10aから炉本体内方へ突出する突出部10b
が固定されていて、それらの突出部10b上に被
処理物Wが載置される。なお、図中の34は耐熱
鋼板、37は3箇所で折曲する耐熱鋼板からなる
ケースである。 The example shown in FIG. 9 has a basic structure that is almost the same as the example shown in FIG.
A hollow presser guide rail 28 is fixed to the upper side of the holder. And those guide rails 18
The magnetic fluid 17 is conducted through the pipes 19 and 28, respectively, to form a circulation loop as shown in FIG. In place of this, a holding guide rail 28 is provided to form a circulation loop.) By the guide rail 28, the chain 9
will no longer wobble up and down while moving. Also,
In this example, unlike the above-mentioned example, instead of the workpiece mounting tube 11, a protrusion 10b protrudes inward from the shaft 10a provided at the upper end of the support plate 10.
are fixed, and the object W to be processed is placed on the protrusions 10b. Note that 34 in the figure is a heat-resistant steel plate, and 37 is a case made of a heat-resistant steel plate that is bent at three points.
以上に説明したように、この例においても上述
した例と同様の各利点があるので、清浄度の高い
雰囲気中で熱処理を行うことができ、信頼性の高
い連続熱処理装置を提供できる。 As explained above, this example also has the same advantages as the above-mentioned example, so that heat treatment can be performed in a highly clean atmosphere, and a highly reliable continuous heat treatment apparatus can be provided.
第10図は本考案の他の例を示すものであつ
て、主な構造は上述した第1図〜第5図の例と略
同様であるが、この例の場合にはケース42とし
て、その上部側(開口部20側)に中空部42a
を対向する側に夫々設け、それらの中空部42a
に冷却用の水47等を導通してある。そして、更
にケース42を囲むようにして断熱材35が設け
られている。 FIG. 10 shows another example of the present invention, the main structure of which is almost the same as the example shown in FIGS. 1 to 5 above, but in this example, the case 42 is Hollow part 42a on the upper side (opening 20 side)
are provided on opposite sides, and their hollow parts 42a
Cooling water 47 and the like are connected to the two. Further, a heat insulating material 35 is provided to surround the case 42.
従つて、上述した第10図のような構造にする
ことによつて、第1図〜第5図の例でも200℃以
上の熱処理装置として用いることができ、信頼性
の高い連続熱処理装置を提供できる。 Therefore, by adopting the structure as shown in FIG. 10 described above, even the examples shown in FIGS. 1 to 5 can be used as a heat treatment apparatus at temperatures of 200°C or higher, thereby providing a highly reliable continuous heat treatment apparatus. can.
上述した実施例の吸着手段の他にも、例えば通
常の磁石や電磁石等を用いてもよく、その他静電
気等を利用することもできる。また、減圧等によ
つて塵を集塵バツグ等に吸着させることもでき
る。 In addition to the attraction means of the embodiments described above, for example, ordinary magnets, electromagnets, etc. may be used, and static electricity or the like may also be used. Further, dust can also be adsorbed to a dust collecting bag or the like by reducing the pressure or the like.
また、以上の実施例では、いずれも被処理物の
搬送にチエーンコンベヤを使用しているが、他の
搬送方式によつても良い。また、被処理物は、前
述した液晶表示装置用ガラス基板の熱処理以外
に、厚膜集積回路、各種プリンタ用の感熱記録ヘ
ツド、そのほか各種セラミツクス基板等の電子部
品、更に、鋼板、鋳造品、鍛造品等の材料や素形
材の熱処理やサブゼロ(零下)処理を連続的に施
す装置として適用可能である。これらの場合、被
処理物を載置する載置手段は、石英や耐熱鋼の管
のほか、適宜の形状の載置部材であつてよく、そ
れらの材料も被処理物、熱処理の種類に応じて適
宜の材料を使用することができる。 Furthermore, in all of the above embodiments, a chain conveyor is used to transport the objects to be processed, but other transport methods may also be used. In addition to the above-mentioned heat treatment of glass substrates for liquid crystal display devices, the objects to be processed include electronic parts such as thick film integrated circuits, thermal recording heads for various printers, and various other ceramic substrates, as well as steel plates, cast products, and forged products. It can be applied as a device that continuously performs heat treatment and sub-zero (below zero) treatment on materials such as products and shapes. In these cases, the mounting means for placing the object to be processed may be a quartz or heat-resistant steel tube, or a mounting member of an appropriate shape, and the material used may vary depending on the object to be processed and the type of heat treatment. Any suitable material can be used.
なお、本出願人が先に実願昭63−170036号にお
いて開示した塵埃排出手段と併用してももちろん
よい。即ち、その塵埃排出手段は、炉本体内に雰
囲気ガスを供給すると共に、排気ポンプ等によつ
て、炉本体内で発生した塵等を、供給した雰囲気
ガスと共に炉本体外へ排出するものである。例え
ば上記したケース12等の所定位置に第3図で破
線71で示す排出口を設けて排気ポンプ等で塵を
吸い出したり、また、被処理物W付近の所定位置
で上記したと同様の方法によつて塵を吸い出すこ
ともできる。従つて、塵埃排出手段と塵埃吸着手
段を併用することによつてより効果的に処理領域
における塵埃の浮遊を防止できる。 Incidentally, it is of course possible to use it in combination with the dust discharge means previously disclosed in Utility Application No. 170036/1983 by the present applicant. That is, the dust discharge means supplies atmospheric gas into the furnace main body and discharges dust generated within the furnace main body together with the supplied atmospheric gas to the outside of the furnace main body using an exhaust pump or the like. . For example, a discharge port shown by the broken line 71 in FIG. 3 may be provided at a predetermined position of the case 12, etc., and the dust may be sucked out using an exhaust pump, or the same method as described above may be used at a predetermined position near the object W to be processed. It can also be tilted to suck out dust. Therefore, by using both the dust discharge means and the dust adsorption means, floating of dust in the processing area can be more effectively prevented.
更に、本考案は上記熱処理以外にも例えば雰囲
気処理、乾燥処理等の他の各種の連続処理装置に
おいても適用可能である。 Furthermore, the present invention is applicable not only to the heat treatment described above but also to various other continuous treatment apparatuses such as atmospheric treatment and drying treatment.
ヘ 考案の効果
本考案は、上述したように、被処理物の移動時
に搬送手段の部位(特に搬送手段及び/又はその
近傍)で発生する塵埃を、塵埃吸着手段によつて
吸着するようにしているので、上記塵埃が連続処
理装置本体内の処理領域に侵入することが殆どな
い。従つて、上記処理領域は極めて良好な清浄度
が保たれ、塵埃が被処理物に付着することが殆ど
ない。その結果、特に清浄な雰囲気中で処理がな
されねばならない被処理物にあつて、被処理物は
処理後の品質が極めて高いものとなり、また、高
い歩留を以て処理が遂行される。F. Effects of the invention As described above, the present invention uses a dust adsorption means to adsorb dust generated in the conveying means (particularly in the conveying means and/or its vicinity) when the object to be processed is moved. Therefore, the dust hardly ever enters the processing area within the main body of the continuous processing apparatus. Therefore, extremely good cleanliness is maintained in the processing area, and hardly any dust adheres to the object to be processed. As a result, especially for objects to be processed that must be processed in a clean atmosphere, the quality of the objects after processing is extremely high, and the processing is carried out with a high yield.
図面はいずれも本考案の実施例を示すものであ
つて、第1図は連続熱処理装置の被処理物搬送方
向に沿う断面図、第2図は第1図の−線拡大
断面図、第3図は第2図の部分拡大図、第4図は
チエーン、支持板、被処理物載置管及び被処理物
の拡大部分平面図、第5図は同じく斜視図、第6
図は他の例による連続熱処理装置の要部を示す概
略部分正面図、第7図、第8図、第9図及び第1
0図は夫々他の例による連続熱処理装置の拡大部
分断面図である。
なお、図面に示された符号において、1……炉
本体、2……ヒータ、3A……天井、3B……炉
床、3C……側壁、4……内張りのステンレス鋼
板、7……帯状磁性体、8,18,28……ガイ
ドレール、9……チエーン、10……支持板、1
0b……被処理物載置用の突出部、11……被処
理物載置管、12,22,34,36,42……
ケース、13A,13B……スプロケツト、17
……磁性流体、19……パイプ、20,30……
開口部、D……塵埃、W……被処理物である。
The drawings all show embodiments of the present invention, and FIG. 1 is a cross-sectional view of the continuous heat treatment apparatus along the direction of conveyance of the processed material, FIG. The figure is a partially enlarged view of FIG. 2, FIG. 4 is an enlarged partial plan view of the chain, support plate, workpiece mounting tube, and workpiece, FIG. 5 is a perspective view, and FIG.
The figures are schematic partial front views showing main parts of continuous heat treatment equipment according to other examples, FIGS. 7, 8, 9, and 1.
FIG. 0 is an enlarged partial sectional view of a continuous heat treatment apparatus according to another example. In addition, in the symbols shown in the drawings, 1...furnace body, 2...heater, 3A...ceiling, 3B...hearth, 3C...side wall, 4...liner stainless steel plate, 7...magnetic band Body, 8, 18, 28... Guide rail, 9... Chain, 10... Support plate, 1
0b...Protrusion for placing the object to be processed, 11...Object placement tube, 12, 22, 34, 36, 42...
Case, 13A, 13B...Sprocket, 17
...Magnetic fluid, 19...Pipe, 20,30...
Opening, D...Dust, W...Object to be treated.
Claims (1)
移動させ、この移動時に前記被処理物に所定の処
理を施す連続処理装置において、前記被処理物の
前記移動時に前記搬送手段の部位から発生する塵
埃を吸着する塵埃吸着手段を有することを特徴と
する連続処理装置。 In a continuous processing device in which a workpiece is moved within a processing device main body by a transport means and a predetermined process is applied to the workpiece during this movement, 1. A continuous processing device comprising a dust adsorption means for adsorbing dust.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4230589U JPH047511Y2 (en) | 1989-04-10 | 1989-04-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4230589U JPH047511Y2 (en) | 1989-04-10 | 1989-04-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02134494U JPH02134494U (en) | 1990-11-08 |
| JPH047511Y2 true JPH047511Y2 (en) | 1992-02-27 |
Family
ID=31553735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4230589U Expired JPH047511Y2 (en) | 1989-04-10 | 1989-04-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH047511Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012008218A1 (en) * | 2010-07-12 | 2012-01-19 | シャープ株式会社 | Heating/drying apparatus for manufacturing film, film manufacturing apparatus provided with the heating/drying apparatus, and film manufacturing method |
-
1989
- 1989-04-10 JP JP4230589U patent/JPH047511Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02134494U (en) | 1990-11-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI381986B (en) | Robot arm and workpiece handling robot using the same | |
| JPH10120171A (en) | Equipment for transferring substrates in a vacuum processing system | |
| JPH05291158A (en) | Heat treatment device | |
| JPH03216409A (en) | Continuous processing device | |
| JPH047511Y2 (en) | ||
| JP4358077B2 (en) | Film forming apparatus and film forming method | |
| JP2003165735A (en) | Heat treatment equipment for glass substrates | |
| JPH03261161A (en) | Vertical heat treating method | |
| JP2006245110A (en) | Thermal processing equipment | |
| JP2003267548A (en) | Non-contact vertical type burning (drying) furnace | |
| TW516336B (en) | Temperature-controlled chamber, and vacuum processing apparatus using the same, and heating method to process the object, cooling method to process the object | |
| KR0148384B1 (en) | Vertical heat treatment device | |
| JPH0661331A (en) | Substrate transfer system | |
| JPH07117849A (en) | Magnetic levitation carrier | |
| TW202014044A (en) | Substrate heating device and substrate processing system capable of suppressing attachment of sublimate inside processing chamber while heating temperature of substrate is not easily limited | |
| JP7566193B1 (en) | Firing furnace | |
| JPH0426878Y2 (en) | ||
| JP2000274952A (en) | Heat treatment system | |
| JP4155056B2 (en) | Precipitation plate manufacturing equipment | |
| JP2668024B2 (en) | Vertical heat treatment equipment | |
| JPH03213991A (en) | Successive processor | |
| JP2000193371A (en) | Heat treating furnace | |
| JPH04137526A (en) | Vertical heat-treating device | |
| JPH07176591A (en) | Substrate treatment apparatus | |
| JPH09298163A (en) | Continuous diffusion treating apparatus |