JPH047511Y2

JPH047511Y2 -

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Publication number: JPH047511Y2
Application number: JP4230589U
Authority: JP
Priority date: 1989-04-10
Filing date: 1989-04-10
Publication date: 1992-02-27
Also published as: JPH02134494U

Description

【考案の詳細な説明】イ産業上の利用分野本考案は、連続処理装置に関し、例えば、電子
部品の熱処理を連続的に行うのに好適な連続熱処
理装置に関する。

ロ従来技術半導体部品や、セラミツクス基板にスクリーン
印刷によつて所定の回路パターンを形成し、焼成
してなる厚膜集積回路、或いは配向膜や偏向膜が
形成された液晶表示装置用ガラス基板等の電子部
品の熱処理にあつては、塵埃の付着によつて電子
部品の品質が甚だしく劣化するので、清浄な雰囲
気中で熱処理がなされる必要がある。

上記電子部品の熱処理は、連続的に行うのが生
産性の観点から有利である。このような連続熱処
理炉として、従来から、炉本体の装入口から排出
口へと貫通するコンベヤ上に電子部品を載置し、
このコンベヤを駆動して電子部品を炉本体内で搬
送し、予め所定の温度分布としてある炉本体内を
移動させて所定の熱処理を施していた。ところ
が、コンベヤはガイド上で移動するようにしてあ
るので、駆動時にガイド上面に摺擦するようにな
る。この摺擦によつて好ましくない金属粉が発生
し、この金属粉が炉本体内に浮遊してこれらが被
処理物に付着すると電子部品の品質が劣化し、歩
留が低いという問題がある。

ハ考案の目的本考案は、清浄度の高い雰囲気中で処理を行う
ことができ、被処理物の品質が高く、高い歩留を
以て処理が遂行される連続処理装置を提供するこ
とを目的としている。

ニ考案の構成即ち、本考案は、被処理物を搬送手段によつて
処理装置本体内で移動させ、この移動時に前記被
処理物に所定の処理を施す連続処理装置におい
て、前記被処理物の前記移動時に前記搬送手段の
部位から発生する塵埃を吸着する塵埃吸着手段を
有することを特徴とする連続処理装置に係るもの
である。

ホ実施例以下、本考案の実施例を説明する。

第１図は連続熱処理装置の被処理物搬送方向に
沿う断面図（第２図の−線断面図）、第２図
は第１図の−線拡大断面図、第３図は第２図
の部分拡大図である。

炉本体１の天井３Ａ、炉床３Ｂ、側壁３Ｃは耐
火断熱材からなつていて、これらは鋼板製炉殻５
に覆われている。天井３Ａには赤外線ヒータ２が
取付けられ、天井３Ａ、炉床３Ｂ、側壁３Ｃは、
ヒータ２をも含めてステンレス鋼板４で覆われて
いる。更に必要に応じて、ステンレス鋼板４の内
面に耐熱セラミツクス又は石英でライニングして
も良い。このようにして炉本体１内に塵埃が入ら
ぬようにしてある。

炉本体１内では、４箇所で折曲する耐熱鋼板製
ケース１２が炉床３Ｂ及び側壁３Ｃに接して設置
されていて、ケース１２には、その上部側にて開
口部２０が形成され、開口部２０におけるケース
１２の内側には、所定領域に例えばゴムの中にフ
エライト粉等が含有された帯状の磁性体７，７が
ビス止め又は耐熱性の接着剤等で固定されてい
る。

また、ガイドレール８が装入口１ａ、排出口１
ｂから突出してケース１２の底部内側の耐熱鋼板
上に固定され、ガイドレール８に案内されるよう
にその上にチエーン９が位置する。チエーン９の
内側ピンリンクプレート９ａには１つおきに支持
板１０が外方（第３図では上方）に向けて固定さ
れていて、支持板１０から炉本体内方へ突出する
ように軸１０ａが固定されている。軸１０ａに石
英又は耐熱セラミツクスからなる（比較的低温
（300℃以下）の熱処理にあつてはステンレス鋼製
でも良い）中空の被処理物載置管１１が外嵌し、
被処理物載置管１１上に被処理物Ｗが載置され
る。被処理物載置管１１を上記の材料とすること
により、表面酸化によるスケールの発生がなく、
被処理物載置時に塵埃が発生することもなく、ま
た、高温における剛性、耐クリープ性も十分に高
い。

第４図はケース１２、チエーン９、支持板１
０、被処理物載置管１１及び仮想線で示す被処理
物Ｗの拡大平面図、第５図はケースを除く斜視図
である。

チエーン９は、炉本体１の外部でケース１２か
ら突出し、スプロケツト１３Ａ，１３Ｂに掛けら
れ、スプロケツト１３Ａの駆動によつて矢印方向
に周回するようにしてある。図中、１４，１４
は、チエーン９が炉本体外で弛まぬように設けら
れたテンシヨンスプロケツトである。チエーン
９、スプロケツト１３Ａ，１３Ｂ及びテンシヨン
スプロケツト１４，１４によつてチエーンコンベ
ヤが構成される。

熱処理は次のようにして遂行される。ヒータ２
に通電して炉本体１内を所定の温度分布とし、ス
プロケツト１３Ａを駆動させてチエーン９を周回
させ、装入口１ａ側のスプロケツト１３Ｂの直後
で２本の載置管１１の上に被処理物Ｗを載置す
る。被処理物Ｗは、チエーンコンベヤの駆動によ
つて次々と炉本体１内を搬送され、所定の熱処理
を施されて排出口１ｂから次々と炉本体１外へ排
出され、スプロケツト１３Ａの直前で載置管１１
から取外されて次の工程へ送られる。

上記したチエーン方式は、搬送時にチエーン９
が炉中に露出しないので、スケール等の金属酸化
物が発生することが少ない。

チエーン９は、ケース１２内でガイドレール８
上を移動してこれと摺擦し、この摺擦によつて塵
（摩耗粉）Ｄが発生する。然し、発生した塵Ｄは、
第３図に拡大図で示すように、ケース１２の開口
部２０から炉本体内に入り込もうとしても、開口
部２０に存在する磁性体７，７によつて吸着され
る。従つて、炉本体内の処理領域に塵Ｄが浮遊す
ることがない。また、炉本体内で摺動部分は、ケ
ース１２内のみにあり、熱処理領域には存在しな
いので、被処理物Ｗに塵が付着することが殆どな
く、熱処理後の被処理物は高品質なものとなり、
歩留も高い。なお、本例では、主に200℃以下の
比較的低温の熱処理の場合について述べている。

次に、実際の操業結果について説明する。

炉本体１の内部の長さを５ｍ、炉本体内の最高
加熱温度を200℃、炉本体内の雰囲気ガスを窒素
ガスとし、その供給量及び排出量を300／分と
して、長さ400mm、幅300mmの板状被処理物（この
例では液晶表示装置のガラス基板）を14mm／秒の
搬送速度で炉本体内を搬送して連続的に熱処理を
施した。その結果、炉本体内の清浄度はクラス
10²であつた。この値は、従来のメツシユベルト
コンベヤによる被処理物搬送方式の連続熱処理炉
におけるクラス10⁵に比較して、桁違いに低い値
である。上記清浄度は、浮遊粒子の径と立方フイ
ート当たりの浮遊粒子の数とで表されるものであ
つて、例えばクラス10は１立方フイート中に粒径
0.5μmの微粒子が10個以下であることを、クラス
10²は同じく100個以下であることを、クラス10⁵
は同じく100000個以下であることを夫々示すもの
である。

第６図〜第９図は、上述した磁性材料として異
なるものを用いた例を示す概略図とケース及びそ
の周辺の断面図である。

第６図〜第９図は磁性材料として例えばフエラ
イト等の微粉末を灯油等に懸濁させたコロイド状
流体（これは例えば回転シヤフトとそれをささえ
る構造の間に生じるすき間をふさぐシールとして
用いられているものであつて、強磁性をもつたコ
ロイド状流体である。以下の説明では磁性流体と
呼ぶ。）を用いた例であつて、基本的な構造は上
述の例と略同様であるので説明を省略し、以下の
説明ではその他の異なる点について主に述べる。
なお、上記磁性流体については、例えば日経サイ
エンス社1983.12.20発行の別冊サイエンス新材料
の132ページから142ページに詳細な説明が記載さ
れているので、ここでは詳細については省略す
る。

なお、第６図〜第９図の例は主に200℃以上の
熱処理の場合について述べている。

即ち、第６図及び第７図に示すように、６箇所
で折曲する耐熱鋼板によつて形成されたケース２
２内には、中空のガイドレール１８が上述の例と
同様に設置され、また、ケース２２の上部側に形
成された開口部３０の所定領域では、円筒状のパ
イプ１９，１９がケース２２の内側に固定されて
いる。そして、ガイドレール１８及びパイプ１
９，１９内には夫々磁性流体１７が封入され、そ
れらは図示省略した外部磁場等によつて磁化され
ていて（以下の例においても同様。）、更に第６図
に示すように、炉本体の内外にパイプ３１等を用
いて磁性流体１７を循環させるための循環ループ
を形成している。ここで、図中の３２は熱交換器
であつて、これにより磁性流体１７を冷却して循
環させることができる。また、第６図及び第７図
中の符号３３は循環用のポンプ、２４は耐熱鋼
板、３５は断熱材である。

この例では炉本体内の最高加熱温度を550℃と
したほかは、前記の例におけると同様であり、炉
本体内の清浄度も前記の例におけると略同様であ
つた。

以上に説明したように、本例による連続熱処理
装置によれば、ガイドレール１８及びパイプ１
９，１９内に磁性流体１７を封入しているので、
上述の例と同様に塵Ｄがケース２２内から開口部
３０を通つて炉本体内に入り込もうとしても、第
７図に示すように、ガイドレール１８及びパイプ
１７，１７の表示に吸着する。従つて、炉本体内
の処理領域に塵Ｄが入り込むのを防止できる。

また、この例では、上述したように、まず、ガ
イドレール１８自体を塵Ｄの第１の吸着手段とし
ているので、ガイドレール１８とチエーン９との
摺擦によつて発生する塵Ｄを効果的に吸着でき、
更に、ガイドレール１８で吸着しきれなかつた塵
Ｄを開口部３０の所定領域に設けた第２の吸着手
段（磁性流体を封入したパイプ１９）によつてス
トツプさせることができる。

また、上述したように、磁性流体１７を熱交換
器３２によつて冷却して循環させているので、ケ
ース２２内等を冷却することができ、ケース２２
内でスケール等が発生することなく、また、連続
熱処理装置の耐久性を向上させるのに非常に都合
がよい。

第８図に例は、基本的には略第６図及び第７図
の例と同様の構造であるが、異なる点は、ケース
３６自体を２重壁構造にしてその中の空間に磁性
流体１７を導通させるようにしたことである。即
ち、第８図に示すように、ガイドレール８及びチ
エーン９を囲むように設けられた２重壁構造のケ
ース３６に磁性流体１７を導通させているので、
上述の例と同様に効果的に塵Ｄを吸着でき、炉本
体内に塵Ｄが入り込むのを防止できる。また、ケ
ース３６自体を冷却媒体としているので、その内
部等を効率良く冷やすことができ、耐久性の向上
に非常に有利となる。

第９図の例は、上述した第７図の例と基本的な
構造は略同様であつて、その他の異なる点は、中
空のガイドレール１８の対向する側（チエーン９
の上部側）に中空の押さえガイドレール２８を固
定している。そして、それらのガイドレール１８
及び２８には夫々磁性流体１７が導通されて上述
した第６図に示すような循環ループを構成してい
ることである（即ち、第６図及び第７図で対応さ
せて考えると、パイプ１９の代わりに押さえガイ
ドレール２８が設けられて循環ループを構成して
いる。）。ガイドレール２８によつて、チエーン９
が移動中に上下にがたつかぬようになる。また、
この例では、上述の例と異なり、被処理物載置管
１１に替えて、支持板１０の上端部に設けられた
軸１０ａから炉本体内方へ突出する突出部１０ｂ
が固定されていて、それらの突出部１０ｂ上に被
処理物Ｗが載置される。なお、図中の３４は耐熱
鋼板、３７は３箇所で折曲する耐熱鋼板からなる
ケースである。

以上に説明したように、この例においても上述
した例と同様の各利点があるので、清浄度の高い
雰囲気中で熱処理を行うことができ、信頼性の高
い連続熱処理装置を提供できる。

第１０図は本考案の他の例を示すものであつ
て、主な構造は上述した第１図〜第５図の例と略
同様であるが、この例の場合にはケース４２とし
て、その上部側（開口部２０側）に中空部４２ａ
を対向する側に夫々設け、それらの中空部４２ａ
に冷却用の水４７等を導通してある。そして、更
にケース４２を囲むようにして断熱材３５が設け
られている。

従つて、上述した第１０図のような構造にする
ことによつて、第１図〜第５図の例でも200℃以
上の熱処理装置として用いることができ、信頼性
の高い連続熱処理装置を提供できる。

上述した実施例の吸着手段の他にも、例えば通
常の磁石や電磁石等を用いてもよく、その他静電
気等を利用することもできる。また、減圧等によ
つて塵を集塵バツグ等に吸着させることもでき
る。

また、以上の実施例では、いずれも被処理物の
搬送にチエーンコンベヤを使用しているが、他の
搬送方式によつても良い。また、被処理物は、前
述した液晶表示装置用ガラス基板の熱処理以外
に、厚膜集積回路、各種プリンタ用の感熱記録ヘ
ツド、そのほか各種セラミツクス基板等の電子部
品、更に、鋼板、鋳造品、鍛造品等の材料や素形
材の熱処理やサブゼロ（零下）処理を連続的に施
す装置として適用可能である。これらの場合、被
処理物を載置する載置手段は、石英や耐熱鋼の管
のほか、適宜の形状の載置部材であつてよく、そ
れらの材料も被処理物、熱処理の種類に応じて適
宜の材料を使用することができる。

なお、本出願人が先に実願昭63−170036号にお
いて開示した塵埃排出手段と併用してももちろん
よい。即ち、その塵埃排出手段は、炉本体内に雰
囲気ガスを供給すると共に、排気ポンプ等によつ
て、炉本体内で発生した塵等を、供給した雰囲気
ガスと共に炉本体外へ排出するものである。例え
ば上記したケース１２等の所定位置に第３図で破
線７１で示す排出口を設けて排気ポンプ等で塵を
吸い出したり、また、被処理物Ｗ付近の所定位置
で上記したと同様の方法によつて塵を吸い出すこ
ともできる。従つて、塵埃排出手段と塵埃吸着手
段を併用することによつてより効果的に処理領域
における塵埃の浮遊を防止できる。

更に、本考案は上記熱処理以外にも例えば雰囲
気処理、乾燥処理等の他の各種の連続処理装置に
おいても適用可能である。

ヘ考案の効果本考案は、上述したように、被処理物の移動時
に搬送手段の部位（特に搬送手段及び／又はその
近傍）で発生する塵埃を、塵埃吸着手段によつて
吸着するようにしているので、上記塵埃が連続処
理装置本体内の処理領域に侵入することが殆どな
い。従つて、上記処理領域は極めて良好な清浄度
が保たれ、塵埃が被処理物に付着することが殆ど
ない。その結果、特に清浄な雰囲気中で処理がな
されねばならない被処理物にあつて、被処理物は
処理後の品質が極めて高いものとなり、また、高
い歩留を以て処理が遂行される。

【図面の簡単な説明】

図面はいずれも本考案の実施例を示すものであ
つて、第１図は連続熱処理装置の被処理物搬送方
向に沿う断面図、第２図は第１図の−線拡大
断面図、第３図は第２図の部分拡大図、第４図は
チエーン、支持板、被処理物載置管及び被処理物
の拡大部分平面図、第５図は同じく斜視図、第６
図は他の例による連続熱処理装置の要部を示す概
略部分正面図、第７図、第８図、第９図及び第１
０図は夫々他の例による連続熱処理装置の拡大部
分断面図である。なお、図面に示された符号において、１……炉
本体、２……ヒータ、３Ａ……天井、３Ｂ……炉
床、３Ｃ……側壁、４……内張りのステンレス鋼
板、７……帯状磁性体、８，１８，２８……ガイ
ドレール、９……チエーン、１０……支持板、１
０ｂ……被処理物載置用の突出部、１１……被処
理物載置管、１２，２２，３４，３６，４２……
ケース、１３Ａ，１３Ｂ……スプロケツト、１７
……磁性流体、１９……パイプ、２０，３０……
開口部、Ｄ……塵埃、Ｗ……被処理物である。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

被処理物を搬送手段によつて処理装置本体内で
移動させ、この移動時に前記被処理物に所定の処
理を施す連続処理装置において、前記被処理物の
前記移動時に前記搬送手段の部位から発生する塵
埃を吸着する塵埃吸着手段を有することを特徴と
する連続処理装置。