JPH0475196B2 - - Google Patents
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- JPH0475196B2 JPH0475196B2 JP6313385A JP6313385A JPH0475196B2 JP H0475196 B2 JPH0475196 B2 JP H0475196B2 JP 6313385 A JP6313385 A JP 6313385A JP 6313385 A JP6313385 A JP 6313385A JP H0475196 B2 JPH0475196 B2 JP H0475196B2
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- Japan
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- base material
- calcium silicate
- surface layer
- molecular weight
- silicate board
- Prior art date
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- Expired
Links
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は硅酸カルシウム板の下地処理方法に関
する。 〔従来の技術とその問題点〕 従来、硅酸カルシウム板の下地処理方法として
は、硅酸カルシウム板（以下基材ともいう）の表
面を研削した後、分子量2300〜4800程度の湿気硬
化型イソシアネート樹脂からなるシーラーを、塗
布乾燥後その固形分が２〜4g／尺2になるように
ロールコーターを用いて塗布し、自然乾燥により
シーラー剤を含浸硬化させて後24時間〜48時間経
過後、その上に紫外線硬化型目止め剤を塗布し
て、紫外線ランプにて紫外線を照射し、硬化後
320番程度のサンデイングペーパーにより研摩し
て塗装の下地を形成させる方法が一般的である
が、実際にこの下地処理された硅酸カルシウム板
を不燃性化粧板として内装に用いられた場合、施
工時に基材を切断するかあるいは養生テープの除
去等を行なうときに外力による剥離作用の条件下
で、しばしば塗装膜が基材から脱落する事故が起
こつていた。 以上の事故原因は下地処理された表層が破壊さ
れるためであつて、一般に硅酸カルシウム板の表
面化粧をする場合、基材の表面をサンデイングす
るが、しかしながらこの基材は軟らかく多孔質
で、パルプ石綿等の繊維質が多く含まれているの
で、サンデイングされた基材の表面は、毛羽立つ
ており、孔にはサンデイングした際の粉末が入り
込み、又サンデイングペーパーの砥粒により基材
の表面をきずつけて基材の組織が破壊され、表層
下部より浮き上がつた状態になつている等の理由
により通常の下地処理では基材の表層部を強固に
できないことが判明した。 〔発明の解決課題〕 本発明は、上記問題点を解決し、強固で平滑性
を有する表層部を備えた下地処理層をもつ硅酸カ
ルシウム板を提供せんとするものである。 〔問題を解決するための手段〕 本発明は、硅酸質、石灰質及び繊維質を主成分
とする硅酸カルシウム板の下地処理方法におい
て、基材への浸透性に優れている低分子量（分子
量500程度）の湿気硬化型（イソシアネート）樹
脂塗料を前記硅酸カルシウム板の表面に塗布し基
材表層下部に浸透させ、その一部を硬化させた後
に、更にこの樹脂塗料を塗布し基材の表面に残存
させて、基材の表層上部及び表層下部を含む表層
部を強化させるようにしたものである。 〔実施例〕 サンドペーパーにより研摩した硅酸カルシウム
板〔小野田化学(株)製エースライト（12mm厚、比重
0.7、含水率（湿度）：10〜12（％）〕よりなる基材
に、湿気硬化型樹脂塗料の一種のイソシアネート
樹脂（東亜ペイント(株)製ASシーラー＃50、組
成：MDI（メチレンヂイソシアネート）70％、酢
酸メチル５％、トルエン20％、酢酸ブチル５％
分子量約500〕をシーラー剤とし、40g/m2・wet
の割合でロールコーターにより塗布し自然乾燥す
る。そして36時間後に、（一般に基材の吸収速度
によるが、通常16時間〜48時間である。）更に同
一配合のシーラー剤を20g/m2・wetの割合にてロ
ールコーターで塗布し乾燥することにより、シー
ラーの樹脂分が基材の表層上部及び表層下部に分
布して定着した。乾燥時間の長さによるゴバン目
テストによる定着テストの結果を第１表に示す。
する。 〔従来の技術とその問題点〕 従来、硅酸カルシウム板の下地処理方法として
は、硅酸カルシウム板（以下基材ともいう）の表
面を研削した後、分子量2300〜4800程度の湿気硬
化型イソシアネート樹脂からなるシーラーを、塗
布乾燥後その固形分が２〜4g／尺2になるように
ロールコーターを用いて塗布し、自然乾燥により
シーラー剤を含浸硬化させて後24時間〜48時間経
過後、その上に紫外線硬化型目止め剤を塗布し
て、紫外線ランプにて紫外線を照射し、硬化後
320番程度のサンデイングペーパーにより研摩し
て塗装の下地を形成させる方法が一般的である
が、実際にこの下地処理された硅酸カルシウム板
を不燃性化粧板として内装に用いられた場合、施
工時に基材を切断するかあるいは養生テープの除
去等を行なうときに外力による剥離作用の条件下
で、しばしば塗装膜が基材から脱落する事故が起
こつていた。 以上の事故原因は下地処理された表層が破壊さ
れるためであつて、一般に硅酸カルシウム板の表
面化粧をする場合、基材の表面をサンデイングす
るが、しかしながらこの基材は軟らかく多孔質
で、パルプ石綿等の繊維質が多く含まれているの
で、サンデイングされた基材の表面は、毛羽立つ
ており、孔にはサンデイングした際の粉末が入り
込み、又サンデイングペーパーの砥粒により基材
の表面をきずつけて基材の組織が破壊され、表層
下部より浮き上がつた状態になつている等の理由
により通常の下地処理では基材の表層部を強固に
できないことが判明した。 〔発明の解決課題〕 本発明は、上記問題点を解決し、強固で平滑性
を有する表層部を備えた下地処理層をもつ硅酸カ
ルシウム板を提供せんとするものである。 〔問題を解決するための手段〕 本発明は、硅酸質、石灰質及び繊維質を主成分
とする硅酸カルシウム板の下地処理方法におい
て、基材への浸透性に優れている低分子量（分子
量500程度）の湿気硬化型（イソシアネート）樹
脂塗料を前記硅酸カルシウム板の表面に塗布し基
材表層下部に浸透させ、その一部を硬化させた後
に、更にこの樹脂塗料を塗布し基材の表面に残存
させて、基材の表層上部及び表層下部を含む表層
部を強化させるようにしたものである。 〔実施例〕 サンドペーパーにより研摩した硅酸カルシウム
板〔小野田化学(株)製エースライト（12mm厚、比重
0.7、含水率（湿度）：10〜12（％）〕よりなる基材
に、湿気硬化型樹脂塗料の一種のイソシアネート
樹脂（東亜ペイント(株)製ASシーラー＃50、組
成：MDI（メチレンヂイソシアネート）70％、酢
酸メチル５％、トルエン20％、酢酸ブチル５％
分子量約500〕をシーラー剤とし、40g/m2・wet
の割合でロールコーターにより塗布し自然乾燥す
る。そして36時間後に、（一般に基材の吸収速度
によるが、通常16時間〜48時間である。）更に同
一配合のシーラー剤を20g/m2・wetの割合にてロ
ールコーターで塗布し乾燥することにより、シー
ラーの樹脂分が基材の表層上部及び表層下部に分
布して定着した。乾燥時間の長さによるゴバン目
テストによる定着テストの結果を第１表に示す。
【表】
本発明は以上のように、硅酸カルシウム板の下
地処理方法において、低分子量の湿気硬化型樹脂
塗料をまず表面に塗布し基材表層下部に浸透させ
一部を硬化させた後に、更にその表面に低分子量
の同じ樹脂塗料を塗布し、表面に残存させ、基材
の表層部を形成するようにしたので、基材の表層
部が効果的に強化されて、施工時の基材の切断の
際あるいは養生テープをはがす際も剥離を生ずる
ことのないすぐれた表面保護効果を奏する硅酸カ
ルシウム板が得られるものである。
地処理方法において、低分子量の湿気硬化型樹脂
塗料をまず表面に塗布し基材表層下部に浸透させ
一部を硬化させた後に、更にその表面に低分子量
の同じ樹脂塗料を塗布し、表面に残存させ、基材
の表層部を形成するようにしたので、基材の表層
部が効果的に強化されて、施工時の基材の切断の
際あるいは養生テープをはがす際も剥離を生ずる
ことのないすぐれた表面保護効果を奏する硅酸カ
ルシウム板が得られるものである。
Claims (1)
- １ 硅酸質、石灰質及び繊維質を主成分とする硅
酸カルシウム板の下地処理方法において、低分子
量の湿気硬化型樹脂塗料を前記硅酸カルシウム板
の表面に塗布し基材表層下部に浸透させ、その一
部を硬化させた後に、更にその表面に低分子量の
湿気硬化型樹脂塗料を塗布し基材の表面に残存さ
せて、基材の表層上部及び表層下部を含む表層部
を強化させるようにしたことを特徴とする硅酸カ
ルシウム板の下地処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6313385A JPS61219782A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 硅酸カルシウム板の下地処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6313385A JPS61219782A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 硅酸カルシウム板の下地処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219782A JPS61219782A (ja) | 1986-09-30 |
| JPH0475196B2 true JPH0475196B2 (ja) | 1992-11-30 |
Family
ID=13220462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6313385A Granted JPS61219782A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 硅酸カルシウム板の下地処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219782A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021133648A (ja) * | 2020-02-28 | 2021-09-13 | Ｄｉｃデコール株式会社 | 無機質系基材の製造方法 |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP6313385A patent/JPS61219782A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61219782A (ja) | 1986-09-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |