JPH0477860B2 - - Google Patents

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JPH0477860B2
JPH0477860B2 JP59007501A JP750184A JPH0477860B2 JP H0477860 B2 JPH0477860 B2 JP H0477860B2 JP 59007501 A JP59007501 A JP 59007501A JP 750184 A JP750184 A JP 750184A JP H0477860 B2 JPH0477860 B2 JP H0477860B2
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JP
Japan
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bimorph
chopper
infrared
shutter
infrared detection
Prior art date
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JP59007501A
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Japanese (ja)
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JPS60144629A (en
Inventor
Takeshi Nakada
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
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Publication of JPS60144629A publication Critical patent/JPS60144629A/en
Publication of JPH0477860B2 publication Critical patent/JPH0477860B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/08Optical arrangements
    • G01J5/0803Arrangements for time-dependent attenuation of radiation signals
    • G01J5/0805Means for chopping radiation

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明は赤外線検知装置に関する。[Detailed description of the invention] (b) Industrial application fields The present invention relates to an infrared detection device.

(ロ) 従来技術 赤外線検知装置は、被測定物体の温度を測定す
るために、上記物体より放射される赤外線量を電
気量に変換する手段としてしばしば用いられる。
そして、良く知られている様に赤外線検知装置は
光学的チヨツパを必要とする。即ち光学的チヨツ
パは、結晶等からなる赤外線検知素子に被測定赤
外線を断続入射して、赤外線強度に応じた熱パル
スを与えるものである。
(b) Prior Art An infrared detection device is often used as a means for converting the amount of infrared rays emitted from a measured object into an amount of electricity in order to measure the temperature of the object.
As is well known, infrared detection devices require an optical chopper. That is, the optical chopper intermittently injects the infrared rays to be measured into an infrared detecting element made of a crystal or the like to give a heat pulse corresponding to the intensity of the infrared rays.

従来技術に従うこの種の光学的チヨツパは、特
開昭55−97612号公報に見られる如く、孔等の切
欠部を有する円板を赤外線検知素子の前方にお
き、これをモータで定速回転するものである。従
つて、その構造は、装置の小型化にとつて不向き
である。
This type of optical chopper according to the prior art, as seen in Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-97612, places a disk having a cutout such as a hole in front of an infrared detecting element, and rotates the disk at a constant speed with a motor. It is something. Therefore, this structure is not suitable for downsizing the device.

特開昭58−32131号公報には、赤外線検知装置
の小型化を目的とした新しい形態の光学的チヨツ
パが開示されている。このチヨツパの構造は、電
気信号にて振動するバイモルフによりシヤツタを
振動させ入射赤外線を断続するものである。
JP-A-58-32131 discloses a new type of optical chopper aimed at downsizing infrared detection devices. The structure of this chopper uses a bimorph that vibrates in response to an electric signal to vibrate the shutter and interrupt the incident infrared rays.

この様な装置において、精度よい赤外線検出を
なすには、上記シヤツタの取付精度を極めて高く
せねばならないが、それは非常に困難である。
In order to perform accurate infrared detection in such a device, the shutter must be mounted with extremely high precision, but this is extremely difficult.

(ハ) 発明の目的 本発明は、光学的チヨツパをバイモルフとこの
バイモルフにより駆動されるシヤツタとから構成
して赤外線検知装置の小型化を図る際に、上記シ
ヤツタの取付精度を極めて高くすることなく、精
度よい赤外線検出をなし得る装置を提供するもの
である。
(C) Purpose of the Invention The present invention provides an optical chopper consisting of a bimorph and a shutter driven by the bimorph to reduce the size of an infrared detection device without making the mounting accuracy of the shutter extremely high. The present invention provides a device that can perform infrared detection with high precision.

(ニ) 発明の構成 本発明の赤外線検知装置は、赤外線検出素子、
被測定赤外線を前記素子に断続入射させるための
光学的チヨツパ、該チヨツパを駆動する駆動部を
備え、上記チヨツパは、バイモルフと該バイモル
フに取着され、該バイモルフの変位によりチヨツ
パ作用をなす、スリツトを備えたシヤツタ部とを
含み、上記駆動部は上記バイモルフの一方の電極
端子に上記バイモルフを変位させる駆動電圧を印
加し、また他方の電極端子に上記駆動電圧を印加
したとき上記被測定赤外線の通過量が所定量とな
る位置に上記シヤツタ部の位置を調節するために
基準電圧を印加したことを特徴とする。
(d) Structure of the invention The infrared detection device of the present invention includes an infrared detection element,
An optical chopper for intermittently injecting the infrared rays to be measured into the element, and a drive section for driving the chopper, the chopper comprising a bimorph and a slit attached to the bimorph to perform chopping action by displacement of the bimorph. and a shutter section having a shutter section, the drive section applies a drive voltage for displacing the bimorph to one electrode terminal of the bimorph, and when the drive voltage is applied to the other electrode terminal, the infrared rays to be measured are emitted. The present invention is characterized in that a reference voltage is applied to adjust the position of the shutter portion to a position where the amount of passage becomes a predetermined amount.

(ホ) 実施例 第1図に、本実施例装置に用いられる赤外線検
知器を示す。この検知器の外装は基板1とこの基
板に嵌着された外部シールドケース2により構成
されており、外部シールドケース2の上面に設け
た円孔窓3より被測定赤外線が入射する。円孔窓
3は通常、シリコン板4にて覆蓋される。円孔窓
3の直下の基板1上にはタンタル酸リチウム結晶
からなる焦電型赤外線検出素子5が配され、かつ
この素子を内部シールドケース6が包囲してい
る。円孔窓3より入射した赤外線は内部シールド
ケース6の上面に設けた小孔6aを経て素子5に
達する。
(E) Embodiment FIG. 1 shows an infrared detector used in the device of this embodiment. The exterior of this detector is composed of a substrate 1 and an external shield case 2 fitted to the substrate, and the infrared rays to be measured enter through a circular hole window 3 provided on the top surface of the external shield case 2. The circular hole window 3 is usually covered with a silicon plate 4. A pyroelectric infrared detection element 5 made of lithium tantalate crystal is arranged on the substrate 1 directly under the circular hole window 3, and an internal shield case 6 surrounds this element. Infrared rays incident through the circular hole window 3 reach the element 5 through a small hole 6a provided in the upper surface of the internal shield case 6.

この様な赤外線入射経路は、ケース2内にて光
学的チヨツパにより断続される。このチヨツパ
は、内部シールドケース6の小孔6aに接近して
配されたシヤツタ部7と、このシヤツタ部を動か
す第1、第2バイモルフ8a,8bによりなる構
成である。第1、第2バイモルフ8a,8bは、
基板1に固着された絶縁性支持体9にて、その基
端が固定され、互いに平行に対面している。シヤ
ツタ部7は複数のスリツト10を有し、近接対面
する第1、第2のスリツト板7a,7bからな
る。第1、第2スリツト板7a,7bは、夫々第
1、第2バイモルフ8a,8bの自由端に固着さ
れ、各バイモルフの変位により互いに平行な面内
で移動する。
Such an infrared incident path is interrupted within the case 2 by an optical chopper. This chopper consists of a shutter section 7 disposed close to the small hole 6a of the internal shield case 6, and first and second bimorphs 8a and 8b that move the shutter section. The first and second bimorphs 8a and 8b are
Their proximal ends are fixed by an insulating support 9 fixed to the substrate 1, and they face each other in parallel. The shutter section 7 has a plurality of slits 10 and is composed of first and second slit plates 7a and 7b that face each other in close proximity. The first and second slit plates 7a and 7b are fixed to the free ends of the first and second bimorphs 8a and 8b, respectively, and are moved in planes parallel to each other by displacement of each bimorph.

第1スリツト板7aのスリツトと、第2スリツ
ト板7bのそれとはほゞ重畳整列関係にあるが、
そのより該細が第2図に示されている。即ち、各
スリツトは全て同一ピツチPで配列されている
が、第1スリツト板7aのスリツト10aと第2
スリツト板7bのスリツト10bとは、第1、第
2バイモルフ8a,8bの非駆動状態にて、互い
に1/4Pだけずれている。従つて図において、第
1スリツト板7aが右方向へ、又第2スリツト板
7bが左方向へ夫々1/8Pだけ移動すると、第1、
第2スリツト板7a,7bの各スリツト10a,
10bは完全に整列して、シヤツタ部7の全開状
態となり、又夫々逆に1/8Pだけ移動することに
より、シヤツタ部7は全閉状態となる。
The slits of the first slit plate 7a and the slits of the second slit plate 7b are in a substantially overlapping alignment relationship,
Its details are shown in FIG. That is, the slits are all arranged at the same pitch P, but the slits 10a of the first slit plate 7a and the slits 10a of the second slit plate 7a are arranged at the same pitch P.
The slit 10b of the slit plate 7b is offset from each other by 1/4P when the first and second bimorphs 8a, 8b are not driven. Therefore, in the figure, when the first slit plate 7a moves to the right and the second slit plate 7b moves to the left by 1/8P, the first,
Each slit 10a of the second slit plate 7a, 7b,
10b are perfectly aligned, and the shutter portion 7 is in a fully open state, and by moving in the opposite direction by 1/8P, the shutter portion 7 is in a fully closed state.

シヤツタ部7は、後述される駆動回路にて、周
期的に開閉状態をくり返し、これにより、周知の
如く、素子5はシヤツタ部7と被測定物との相対
的温度差に対応した信号を出力する。第1、第2
バイモルフ8a,8b間に置かれたダイオード1
1は、その温度特性を利用して、シヤツタ部7の
温度を近似的に検出する。この検出温度は、素子
5の出力する上記相対的温度差を補正するために
用いられる。
The shutter section 7 is periodically opened and closed by a drive circuit to be described later, and as a result, as is well known, the element 5 outputs a signal corresponding to the relative temperature difference between the shutter section 7 and the object to be measured. do. 1st, 2nd
Diode 1 placed between bimorphs 8a and 8b
1 approximately detects the temperature of the shutter section 7 by utilizing its temperature characteristics. This detected temperature is used to correct the relative temperature difference outputted from the element 5.

シヤツタ部7における上記の如き周期的チヨツ
パ作用をなすために、第1、第2バイモルフ8
a,8bはそれに適した構造を有し、かつ適した
信号波形で駆動されねばならない。第3図Aに第
1、第2バイモルフ8a,8bの構造を示し、又
第3図Bにそれらを駆動する信号波形を示す。各
バイモルフは共に同一構造を有し、コバールやリ
ン青銅等の薄い金属支持板からなる中央電極20
と、その両側に張り付けられたPZT等の第1、
第2圧電体21,22と、これら圧電体の表面に
膜状に設けられた第1、第2電極23,24から
なり、第1、第2バイモルフ8a,8bの中央電
極20に連なる端子aと、第1、第2電極23,
24に連なる端子bとの間に電圧を印加した際、
各バイモルフ8a,8bは夫々相反方向に屈曲す
る様分極されている。
In order to achieve the above-mentioned periodic chopping action in the shutter section 7, the first and second bimorphs 8
a and 8b must have an appropriate structure and be driven with an appropriate signal waveform. FIG. 3A shows the structure of the first and second bimorphs 8a and 8b, and FIG. 3B shows the signal waveforms for driving them. Each bimorph has the same structure, with a central electrode 20 made of a thin metal support plate such as Kovar or phosphor bronze.
and the first layer of PZT etc. pasted on both sides.
Terminal a consisting of second piezoelectric bodies 21 and 22 and first and second electrodes 23 and 24 provided in a film shape on the surface of these piezoelectric bodies, and connected to the center electrode 20 of the first and second bimorphs 8a and 8b. and the first and second electrodes 23,
When a voltage is applied between terminal b connected to 24,
Each bimorph 8a, 8b is polarized so as to bend in opposite directions.

バイモルフの印加電圧に対する変位量をyとす
れば、 y=3・l2/(2t)2・d31・V なる関係がある。
If the amount of displacement of the bimorph with respect to the applied voltage is y, then there is the following relationship: y=3·l 2 /(2t) 2 ·d 31 ·V.

こゝに、 t:圧電体の厚み l:自由長 d31:圧電定数 V:印加電圧 従つて、ある圧電定数をもつたバイモルフで大
きな変位量を得ようとすれば、自由長を大きくす
るか、圧電体を薄くするか、あるいは印加電圧を
大きくとるかに限られる。圧電体を極端に薄くす
ることは機械的強度が低下するし、製作上も困難
である。又自由長を大きくとると大型になるので
小型化の目標に反する。よつて印加電圧を大きく
とらざるを得ない。
Here, t: Thickness of the piezoelectric body l: Free length d 31 : Piezoelectric constant V: Applied voltage Therefore, if you want to obtain a large amount of displacement with a bimorph with a certain piezoelectric constant, do you have to increase the free length? However, the only option is to make the piezoelectric material thinner or to increase the applied voltage. Making the piezoelectric material extremely thin reduces its mechanical strength and is difficult to manufacture. Furthermore, if the free length is increased, the size becomes large, which goes against the goal of miniaturization. Therefore, the applied voltage must be increased.

本実施例において、バイモルフの自由長l=
1.25cm、圧電定数d31=260×10-10cm/V、圧電体
の厚みt=0.02cmであり、又、第1、第2スリツ
ト板7a,7bの各スリツトのピツチP=400μ
mとして、既述の如く、シヤツタ部7が全開、全
閉の各状態をとるために各バイモルフの自由端が
片側で50μm、即ち、両側で計、100μmの振幅で
変位しなければならないとすると、約130Vの振
幅をもつた印加電圧(VP-P)が必要とされる。
第4図に一定の入射赤外線量における印加電圧
VP-Pと赤外線検知出力電圧との関係を実測値に
て示す。尚、この場合のバイモルフの駆動周波数
は3Hzである。
In this example, the free length l of the bimorph =
1.25 cm, piezoelectric constant d 31 = 260×10 -10 cm/V, thickness t of piezoelectric body = 0.02 cm, and pitch P of each slit in the first and second slit plates 7a and 7b = 400 μ.
Assume that the free end of each bimorph must be displaced with an amplitude of 50 μm on one side, that is, a total of 100 μm on both sides, as described above, in order for the shutter section 7 to assume the fully open and fully closed states. , an applied voltage (V PP ) with an amplitude of approximately 130V is required.
Figure 4 shows the applied voltage at a constant amount of incident infrared rays.
The relationship between V PP and infrared detection output voltage is shown using actual measured values. Note that the driving frequency of the bimorph in this case is 3 Hz.

この様に、シヤツタ部7が全開、全閉の各状態
をとる様印加電圧VP-Pを決めることは可能であ
るが、各バイモルフの温度による変形誤差を考慮
に入れると、印加電圧VP-Pを60V程度に下げ各バ
イモルフを比較的小振幅で振動させるのが好まし
い。尚この理由の詳細は特願昭58−218235号の発
明に記載されている。従つて本実施例でも印加電
圧VP-Pは60Vに決められている。
In this way, it is possible to determine the applied voltage V PP so that the shutter section 7 is fully open and fully closed, but if we take into account the deformation error due to the temperature of each bimorph, it is possible to set the applied voltage V PP to 60V. It is preferable to vibrate each bimorph with a relatively small amplitude. The details of this reason are described in the invention of Japanese Patent Application No. 58-218235. Therefore, in this embodiment as well, the applied voltage V PP is determined to be 60V.

第3図Bに示した駆動波形は、上記を考慮して
第3図Aの端子bに印加される電圧波形である。
尚、端子aは基準電位としてある。同図に示す如
く、駆動波形は交番的な方形波であるが、本実施
例では、更に斯る交番方形波の正の立上り部と負
の立上り部との各肩が丸味をもつ様配慮されてい
る。この立上り波形を採用した結果、従来、図中
点線で示す如き完全な方形波駆動の際に生じるバ
イモルフの異常音が無くなる。上記立上り波形の
時定数が余り長いと赤外線検出出力が低下するた
め、それは赤外線検知素子5の熱時定数τtより短
く設定されるのが良い。
The drive waveform shown in FIG. 3B is the voltage waveform applied to terminal b in FIG. 3A in consideration of the above.
Note that terminal a is used as a reference potential. As shown in the figure, the driving waveform is an alternating square wave, but in this embodiment, consideration is given to rounding the shoulders of the positive rising portion and the negative rising portion of the alternating square wave. ing. As a result of adopting this rising waveform, the abnormal bimorph noise that conventionally occurs when driving with a complete square wave as shown by the dotted line in the figure is eliminated. If the time constant of the rising waveform is too long, the infrared detection output will decrease, so it is preferably set shorter than the thermal time constant τ t of the infrared detection element 5.

第5図に、上記赤外線検知器を組込んだ本実施
例電子レンジの回路を示す。電源端子30,31
に印加される商用電源が電子レンジのドアスイツ
チ32及び制御スイツチ33を介してマイクロ波
発振回路34に供給される。マイクロ波発振回路
34は高圧トランス35、倍圧整流器36、マグ
ネトロン37からなる。又商用電源は、同様にし
てマグネトロン37の冷却フアンモータ38にも
供給される。
FIG. 5 shows a circuit of a microwave oven of this embodiment incorporating the above-mentioned infrared detector. Power terminals 30, 31
Commercial power applied to the microwave oven is supplied to a microwave oscillation circuit 34 via a door switch 32 and a control switch 33 of the microwave oven. The microwave oscillation circuit 34 includes a high voltage transformer 35, a voltage doubler rectifier 36, and a magnetron 37. The commercial power is also supplied to the cooling fan motor 38 of the magnetron 37 in the same way.

制御スイツチ33は双方向性サイリスタで構成
され、そのゲート信号はマイクロプロセサ40か
らインタフエース41を介して与えられる。マイ
クロプロセサ40は、インタフエース42を介し
て入力されるキーボード43からの指令でタイマ
運転動作や温度運転動作をなす。即ち、タイマ運
転の場合は、キーボード43より入力されるタイ
マ時間長だけ制御スイツチ33をオンになし、一
方温度運転の場合は赤外線検知装置50を動作さ
せ、赤外線検知器51に入る食品からの赤外線量
により食品温度を判断し、それが、キーボード4
3より予め入力されている仕上り温度に達するま
で制御スイツチ33をオンになす。
The control switch 33 is composed of a bidirectional thyristor, and its gate signal is given from the microprocessor 40 via the interface 41. The microprocessor 40 performs timer operation and temperature operation in response to commands input from the keyboard 43 via the interface 42 . That is, in the case of timer operation, the control switch 33 is turned on for the timer time input from the keyboard 43, while in the case of temperature operation, the infrared detection device 50 is operated, and the infrared rays from the food that enter the infrared detector 51 are turned on. The food temperature is determined based on the amount, and it is determined by the keyboard 4.
The control switch 33 is turned on until the finishing temperature input in advance from step 3 is reached.

電源端子30,31に、降圧トランス44を介
して連なる直流電圧発生部45はマイクロプロセ
サ40や赤外線検知装置50へ夫々の動作電圧源
を供給する。
A DC voltage generator 45 connected to the power supply terminals 30 and 31 via a step-down transformer 44 supplies operating voltage sources to the microprocessor 40 and the infrared detection device 50, respectively.

以下赤外線検知装置50の構成並びに動作を説
明する。装置50の駆動時、マイクロプロセサ4
0から、インターフエース41を介して信号A、
信号Bが与えられる。信号Aは第6図Aに示す如
き、3Hzのパルス列であり、これにより第1トラ
ンジスタ53が3Hzでオン、オフをくり返す。信
号Bは第6図Bに示す如き一定レベルのものであ
り、これにより第2トランジスタ54が連続オン
し、そのエミツタ出力によりDC−DCコンバータ
55が起動される。DC−DCコンバータ55は−
E0V(−60V)の直流電圧を出力する。よつて第
1、第2バイモルフの端子aにはボリユーム56
を介して一定の基準電位−ESV(約−30V)が加
わり、一方端子bには、第6図cに示す如く、第
1トランジスタ53のオフ時、−E0V、又、同オ
ン時、0Vが夫々加わり、この結果、既述の如く、
各バイモルフは3Hzの周期で振動する。
The configuration and operation of the infrared detection device 50 will be explained below. When driving the device 50, the microprocessor 4
0 through the interface 41, the signal A,
Signal B is given. The signal A is a 3 Hz pulse train as shown in FIG. 6A, which causes the first transistor 53 to repeatedly turn on and off at 3 Hz. The signal B is at a constant level as shown in FIG. 6B, so that the second transistor 54 is turned on continuously, and the DC-DC converter 55 is activated by its emitter output. The DC-DC converter 55 is -
E Outputs a DC voltage of 0 V (-60V). Therefore, the volume 56 is connected to the terminal a of the first and second bimorphs.
A constant reference potential -ESV (approximately -30V) is applied to the terminal b, as shown in FIG. 6c, when the first transistor 53 is off, -E 0 V, and when it is on, 0V is added to each, and as a result, as mentioned above,
Each bimorph vibrates at a frequency of 3Hz.

今、第1、第2バイモルフの静電容量を共に
CBMとし、交流的に考えると、第1トランジスタ
53のオフ時、第7図Aに示す等価回路の如く、
抵抗R1,r2,R3とCBMとのCR時定数回路
が、又第1トランジスタ53のオン時、第7図B
に示す等価回路の如く、抵抗R2,r1とCBM
のCR時定数回路が夫々形成され、これにより、
第6図Cに示す如く、駆動波形の正、負各立上り
部の肩に丸味がつく。本実施例において、CBM
10nF、R1=330KΩ、R2=R3=100KΩ、r
1+r2=500KΩであり、これにより、上記波
形の立上り時定数は5〜8msecとなる。尚赤外線
検知素子5の熱時定数τtは15〜30msecである。
Now, the capacitance of the first and second bimorphs are both
C BM , and considering it from an AC perspective, when the first transistor 53 is off, the equivalent circuit shown in FIG. 7A is as follows.
When the CR time constant circuit of resistors R1, r2, R3 and CBM is turned on again, the first transistor 53 is turned on, as shown in FIG.
As shown in the equivalent circuit shown in FIG .
As shown in FIG. 6C, the shoulders of the positive and negative rising portions of the drive waveform are rounded. In this example, C BM =
10nF, R1=330KΩ, R2=R3=100KΩ, r
1+r2=500KΩ, so that the rise time constant of the above waveform is 5 to 8 msec. Note that the thermal time constant τ t of the infrared sensing element 5 is 15 to 30 msec.

再び第5図において、端子aはボリユーム56
に連なつており、この結果、基準電位−EsVは調
整可能である。このことは、シヤツタ部7を構成
する第1、第2スリツト板7a,7bの組立時の
相互配置のズレを電気的にほゞ補償できることを
意味し、好都合である。補償作業としては、第4
図に示す如き測定をしつつ、赤外線検出出力が最
大になる様、ボリユーム56を調整すればよい。
Referring again to FIG. 5, terminal a is connected to volume 56.
As a result, the reference potential -EsV can be adjusted. This is advantageous because it means that the misalignment of the first and second slit plates 7a, 7b constituting the shutter section 7 during assembly can be substantially compensated for electrically. As compensation work, the fourth
While performing measurements as shown in the figure, the volume 56 may be adjusted so that the infrared detection output is maximized.

赤外線検知素子5の出力及びダイオード11の
出力は処理回路57に入る。この回路では、素子
5の出力を交流増幅し、3Hzを中心周波数とする
バンドパスフイルタを通した後、信号Aで同期整
流し、次いで直流増幅することにより直流値を
得、これをダイオード11の出力に基いて補正し
た後、A/D変換器58を経て、食品温度に対応
したデジタル量を得る。このデジタル量はインタ
フエース41を介してマイクロプロセサ40に入
る。
The output of the infrared sensing element 5 and the output of the diode 11 enter a processing circuit 57. In this circuit, the output of element 5 is AC amplified, passed through a bandpass filter with a center frequency of 3 Hz, synchronously rectified with signal A, and then DC amplified to obtain a DC value, which is then passed through a diode 11. After correction based on the output, it passes through an A/D converter 58 to obtain a digital quantity corresponding to the food temperature. This digital quantity enters the microprocessor 40 via an interface 41.

(ヘ) 発明の効果 本発明によれば、光学的チヨツパをバイモルフ
とこのバイモルフにより駆動されるシヤツタとか
ら構成するものであるから、赤外線検知装置の小
型化を図れ、しかも、上記シヤツタの取付精度を
電気的に補償できるため、赤外線検出精度を簡単
に高めることができる。
(F) Effects of the Invention According to the present invention, since the optical chopper is composed of a bimorph and a shutter driven by the bimorph, it is possible to reduce the size of the infrared detection device, and to improve the mounting accuracy of the shutter. can be electrically compensated for, making it easy to improve infrared detection accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明実施例を示し、第1図Aは赤外線検
知器の分解斜視図、第1図Bは同断面図、第2図
は第1、第2スリツト板の要部断面図、第3図A
は第1、第2バイモルフの側面図、第3図Bは駆
動波形図、第4図は赤外線検出出力特性図、第5
図は電子レンジ回路図、第6図は信号波形図、第
7図は等価回路図である。 5…赤外線検出素子、7…シヤツタ部、8a,
8b…第1、第2バイモルフ。
The figures show an embodiment of the present invention; FIG. 1A is an exploded perspective view of an infrared detector, FIG. 1B is a cross-sectional view of the same, FIG. Diagram A
are side views of the first and second bimorphs, Fig. 3B is a drive waveform diagram, Fig. 4 is an infrared detection output characteristic diagram, and Fig. 5 is a side view of the first and second bimorphs.
The figure is a microwave oven circuit diagram, FIG. 6 is a signal waveform diagram, and FIG. 7 is an equivalent circuit diagram. 5... Infrared detection element, 7... Shutter part, 8a,
8b...first and second bimorph.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 赤外線検出素子、被測定赤外線を前記素子に
断続入射させるための光学的チヨツパ、該チヨツ
パを駆動する駆動部を備え、上記チヨツパは、バ
イモルフと該バイモルフに取着され、該バイモル
フの変位によりチヨツパ作用をなす、スリツトを
備えたシヤツタ部とを含み、上記駆動部は上記バ
イモルフの一方の電極端子に上記バイモルフを変
位させる駆動電圧を印加し、また他方の電極端子
に上記駆動電圧を印加したとき上記被測定赤外線
の通過量が所定量となる位置に上記シヤツタ部の
位置を調節するために基準電圧を印加したことを
特徴とする赤外線検知装置。
1 An infrared detecting element, an optical chopper for intermittently injecting infrared rays to be measured into the element, and a drive unit for driving the chopper, the chopper being attached to a bimorph and the bimorph, and the chopper being attached to the bimorph and causing the chopper to be moved by displacement of the bimorph. and a shutter section provided with a slit that acts when the driving section applies a driving voltage for displacing the bimorph to one electrode terminal of the bimorph, and when the driving voltage is applied to the other electrode terminal of the bimorph. An infrared detection device characterized in that a reference voltage is applied to adjust the position of the shutter section to a position where the amount of the measured infrared rays passes through a predetermined amount.
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