JPH0478151B2 - - Google Patents
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- JPH0478151B2 JPH0478151B2 JP60199897A JP19989785A JPH0478151B2 JP H0478151 B2 JPH0478151 B2 JP H0478151B2 JP 60199897 A JP60199897 A JP 60199897A JP 19989785 A JP19989785 A JP 19989785A JP H0478151 B2 JPH0478151 B2 JP H0478151B2
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- slice level
- waveform
- differential
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Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は例えば半導体ウエハーに集積回路の
回路パターンを描画して露光する荷電粒子ビーム
露光装置のビーム寸法測定装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a beam size measuring device for a charged particle beam exposure device that draws and exposes a circuit pattern of an integrated circuit onto a semiconductor wafer, for example.
「発明の背景」
半導体集積回路(以下ICと称す)の回路パタ
ーンを半導体ウエハー上に描画し露光する方法の
一つに電子ビーム或はイオンビーム等の荷電粒子
ビームを用いる方法がある。荷電粒子ビームによ
れば比較的細い線幅の回路パターンを描くことが
できることから集積度が高いICの回路パターン
を描くのに適している。"Background of the Invention" One method of drawing and exposing a circuit pattern of a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as IC) on a semiconductor wafer is to use a charged particle beam such as an electron beam or an ion beam. Charged particle beams can draw circuit patterns with relatively narrow line widths, making them suitable for drawing circuit patterns for highly integrated ICs.
ICの回路パターンを描く場合、その線幅は重
要な要素であり正確にその寸法を規定しなければ
ならない。線幅は粒子の照射銃の近傍に設けたア
パーチヤの寸法を変化させて荷電粒子ビームの寸
法を制限し線幅を規定している。 When drawing an IC circuit pattern, the line width is an important element and its dimensions must be specified accurately. The line width is determined by changing the size of an aperture provided near the particle irradiation gun to limit the size of the charged particle beam.
この発明は荷電粒子ビームの寸法を正確に測定
することができる荷電粒子ビームの寸法測定装置
を提供するものである。 The present invention provides a charged particle beam dimension measuring device that can accurately measure the dimensions of a charged particle beam.
「従来技術」
第4図及び第5図を用いて従来の荷電粒子ビー
ムの寸法測定方法について説明する。"Prior Art" A conventional method for measuring the dimensions of a charged particle beam will be described with reference to FIGS. 4 and 5.
第4図において1は荷電粒子ビーム、2はこの
荷電粒子ビームの照射により荷電粒子の量を電流
として検出する荷電粒子のビーム電流検出器を示
す。このビーム電流検出器は例えばフアラデイチ
ユーブが用いられる。ビーム電流検出器2の上部
にはナイフエツジ3が設けられ、ナイフエツジ3
によつて荷電粒子ビーム3をマスクし、ナイフエ
ツジ3と直交する方向にビーム1を走査すること
によつてビーム電流検出器2に対する照射面積を
変化させることができる構造としている。 In FIG. 4, numeral 1 indicates a charged particle beam, and numeral 2 indicates a charged particle beam current detector that detects the amount of charged particles as a current by irradiation with the charged particle beam. For example, a Faraday tube is used as this beam current detector. A knife edge 3 is provided on the upper part of the beam current detector 2.
By masking the charged particle beam 3 and scanning the beam 1 in a direction perpendicular to the knife edge 3, the irradiation area on the beam current detector 2 can be changed.
ビーム電流検出器2によつて検出した電流は増
幅器4によつて増幅し、更に微分回路5で微分す
ることができるように構成されている。 The current detected by the beam current detector 2 is amplified by an amplifier 4 and further differentiated by a differentiating circuit 5.
荷電粒子ビーム1をナイフエツジ3によつてマ
スクした状態からx方向に走査すると増幅器4の
出力側に第5図Aに示すような走査波形信号ISが
得られる。 When the charged particle beam 1 is scanned in the x direction while being masked by the knife edge 3, a scanning waveform signal IS as shown in FIG. 5A is obtained at the output side of the amplifier 4.
この走査信号ISを微分回路5において一次微分
することにより、第5図Bに示すような矩形の微
分波形信号△ISが得られる。 By firstly differentiating this scanning signal IS in the differentiating circuit 5, a rectangular differential waveform signal ΔIS as shown in FIG. 5B is obtained.
従来はこの微分波形信号△ISの尖頭値Inaxとベ
ースラインの値Inioの間の半値をスライスレベル
とし、このスライスレベルと微分波形信号△ISの
交差点A,B間の幅Wを荷電粒子ビーム1のx軸
方向の寸法として測定している。 Conventionally, the half value between the peak value I nax of this differential waveform signal △IS and the baseline value I nio is taken as the slice level, and the width W between the intersections A and B of this slice level and the differential waveform signal △IS is charged. It is measured as the dimension of the particle beam 1 in the x-axis direction.
「発明が解決しようとしている問題点」
従来は微分波形信号△ISの尖頭値とベースライ
ンとの間の半値をスライスレベルとし、このスラ
イスレベルと微分波形信号△ISの交差点からビー
ム幅を求めるものであるが、この方法によるとき
は正確な寸法を測定できない不都合がある。"Problem to be solved by the invention" Conventionally, the half value between the peak value of the differential waveform signal △IS and the baseline was taken as the slice level, and the beam width was determined from the intersection of this slice level and the differential waveform signal △IS. However, this method has the disadvantage that accurate dimensions cannot be measured.
その理由としては微分波形信号は詳しくは第2
図に示すように立上り部分等に雑音が重畳し、こ
の雑音を含んで微分波形の最大値とみなしてスラ
イスレベルを決めるものであるからそのスライス
レベルの値は正確に半値にならない。この結果ビ
ームの幅Wを正確に求めることができない不都合
がある。 The reason for this is that the differential waveform signal is
As shown in the figure, noise is superimposed on the rising portion, etc., and since the slice level is determined by considering this noise as the maximum value of the differential waveform, the value of the slice level will not be exactly half the value. As a result, there is a problem that the width W of the beam cannot be determined accurately.
「問題点を解決するための手段」
この発明では微分波形の両端の平均化された値
と波形中心近傍の平均化された値とを用いて波形
の真の半値を求めるスライスレベル決定手段と、
このスライスレベル決定手段で決定した半値と微
分波形が交差する位置を検出する位置検出手段
と、この位置検出手段で得られる二つの位置情報
からビームの寸法を求める手段とによつて構成し
たものである。"Means for solving the problem" The present invention includes a slice level determining means for determining the true half value of the waveform using the averaged values at both ends of the differential waveform and the averaged value near the center of the waveform;
It is composed of a position detecting means for detecting the position where the half value determined by the slice level determining means and the differential waveform intersect, and a means for determining the beam dimension from the two position information obtained by this position detecting means. be.
この発明の構成によれば微分波形両端の平均化
された値と波形中心近傍の平均化された値とを用
いて波形の半値を求めるため、この半値の値は真
の半値に近似しており信頼性が高い。よつてこの
半値と交差する微分波形の位置からビームの寸法
を求めることにより信頼性の高いビーム寸法を得
ることができる。 According to the configuration of the present invention, the half value of the waveform is obtained using the averaged values at both ends of the differential waveform and the averaged value near the center of the waveform, so this half value approximates the true half value. Highly reliable. Therefore, by determining the beam size from the position of the differential waveform that intersects this half value, a highly reliable beam size can be obtained.
「実施例」
第1図にこの発明によるビーム寸法測定装置の
実施例を示す。図中第3図と対応する部分には同
一符号を付して示す。Embodiment FIG. 1 shows an embodiment of a beam dimension measuring device according to the present invention. In the figure, parts corresponding to those in FIG. 3 are designated by the same reference numerals.
第1図においてビーム電流検出器2から得られ
るビーム1の走査信号は増幅器4で増幅されAD
変換器6でAD変換されてデイジタル信号に変換
される。 In Fig. 1, the scanning signal of beam 1 obtained from beam current detector 2 is amplified by amplifier 4 and AD
A converter 6 performs AD conversion and converts it into a digital signal.
AD変換器6でAD変換された走査波形データ
は走査波形メモリ7に取込まれる。走査波形メモ
リ7に取込まれた走査波形データはデータバス8
を通じて制御器9に取込まれ、制御器9において
微分処理が施され、微分波形データに変換され
る。 The scanning waveform data AD-converted by the AD converter 6 is taken into the scanning waveform memory 7. The scanning waveform data taken into the scanning waveform memory 7 is transferred to the data bus 8.
The signal is taken into the controller 9 through the controller 9, where it is subjected to differential processing and converted into differential waveform data.
制御器9で微分処理して得られた微分波形デー
タは微分波形メモリ11に書込まれる。この書込
には書込信号ライン12を通じて出力される書込
信号によつて行なわれる。 Differential waveform data obtained by differential processing by the controller 9 is written into a differential waveform memory 11. This writing is performed by a write signal outputted through the write signal line 12.
第2図に微分波形メモリ11に書込んだ微分波
形の一例をアナログ波形として示す。 FIG. 2 shows an example of a differential waveform written in the differential waveform memory 11 as an analog waveform.
制御器9は微分波形メモリ11に書込んだ波形
データから微分波形両端のベースレベルVBを求
める。このベースレベルVBは微分波形両端から
一定量ずつ離れたアドレス領域AR1とAR2内の各
データの平均を演算し、その平均値をベースレベ
ルVBと定める。 The controller 9 determines the base level V B at both ends of the differential waveform from the waveform data written in the differential waveform memory 11 . This base level V B is calculated by calculating the average of each data in the address areas AR 1 and AR 2 that are separated by a certain amount from both ends of the differential waveform, and the average value is determined as the base level V B.
制御器9は微分波形メモリ11に収納された波
形データを検索し、その中の最大値VPに相当す
るデータを取出す。 The controller 9 searches the waveform data stored in the differential waveform memory 11 and extracts data corresponding to the maximum value V P therein.
制御器9はベースレベルVBと最大値VPによつ
てその半値を算出し、仮スライスレベルVSを求
める。この仮スライスレベルVSはデータバス8
を通じて微分波形とスライスレベルとの交差信号
を検出する位置検出手段10に出力される。この
位置検出手段10はスライスレベルレジスタ13
と、微分波形レジスタ14と、デイジタル比較器
15と、位置カウンタ16と、レジスタフアイル
18と、アドレスカウンタ17とによつて構成す
ることができる。 The controller 9 calculates the half value of the base level V B and the maximum value V P to obtain a temporary slice level V S. This temporary slice level V S is data bus 8.
The signal is outputted to the position detecting means 10 which detects the intersection signal between the differential waveform and the slice level. This position detection means 10 is a slice level register 13
, a differential waveform register 14 , a digital comparator 15 , a position counter 16 , a register file 18 , and an address counter 17 .
仮スライスレベルVSはスライスレベルレジス
タ13に収納する。これと共に微分波形レジスタ
14に微分波形メモリ11に記憶した微分波形デ
ータを1データずつ収納する。微分波形レジスタ
14に微分波形データを書込む際にその書込信号
を位置カウンタ16に与え、書込回数を計数させ
る。 The temporary slice level V S is stored in the slice level register 13. At the same time, the differential waveform data stored in the differential waveform memory 11 is stored in the differential waveform register 14 one by one. When writing differential waveform data to the differential waveform register 14, the write signal is given to the position counter 16 to count the number of writes.
これらスライスレベルレジスタ13の出力と微
分波形レジスタ14のそれぞれの出力をデイジタ
ル比較器15の入力端子BとAに与える。デイジ
タル比較器15は入力端子BとAの値が一致する
毎に出力端子Cからパルスを出力する。 The output of the slice level register 13 and the differential waveform register 14 are applied to input terminals B and A of a digital comparator 15, respectively. Digital comparator 15 outputs a pulse from output terminal C every time the values at input terminals B and A match.
デイジタル比較器15から出力されるパルスは
アドレスカウンタ17とレジスタフアイル18に
与えられる。レジスタフアイル18はデイジタル
比較器15からパルスが与えられると位置カウン
タ16の計数値を取込む。つまり微分波形データ
が仮スライスレベルと一致する毎に、そのときの
書込数(微分波形データの各部のアドレスに対応
する)がレジスタフアイル18に書込まれる。 The pulse output from digital comparator 15 is applied to address counter 17 and register file 18. When the register file 18 receives a pulse from the digital comparator 15, it takes in the count value of the position counter 16. That is, each time the differential waveform data matches the temporary slice level, the write number (corresponding to the address of each part of the differential waveform data) at that time is written to the register file 18.
一方デイジタル比較器15から一致パルスが出
力されるとアドレスカウンタ17がアドレスを一
つ歩進し、レジスタフアイル18のアドレスを一
つ進める。従つて微分波形データが再度仮スライ
スレベルと交差すると、その交差位置情報Ae1と
Ae2(第2図参照)が位置カウンタ16からレジ
スタフアイル18に書込まれる。 On the other hand, when a match pulse is output from the digital comparator 15, the address counter 17 increments the address by one, and the address in the register file 18 increments by one. Therefore, when the differential waveform data intersects the temporary slice level again, the intersection position information A e1
A e2 (see FIG. 2) is written from the position counter 16 to the register file 18.
このようにしてレジスタフアイル18に微分波
形データと仮スライスレベルが交差する位置情報
Ae1とAe2が得られる。 In this way, the position information where the differential waveform data and the temporary slice level intersect is stored in the register file 18.
A e1 and A e2 are obtained.
制御器9はレジスタフアイル18に収納された
位置情報Ae1とAe2をデータバス8を通じて取込
み、この位置情報Ae1とAe2から微分波形の中心
位置ACを求める。この中心位置はAc=(Ae1+
Ae2)/2によつて求めることができる。 The controller 9 takes in the position information A e1 and A e2 stored in the register file 18 through the data bus 8, and determines the center position A C of the differential waveform from this position information A e1 and A e2 . This center position is A c = (A e1 +
It can be determined by A e2 )/2.
中心位置Acを境に±△Bの範囲で微分波形デ
ータを平均し、その値を真のピーク値VPTとす
る。 The differential waveform data is averaged in a range of ±ΔB with the center position A c as the boundary, and the value is taken as the true peak value V PT .
VPT=1/2△B+1Ac+△B 〓 D(i)i=Ac- △B Diは微分波形データを表わす。 V PT =1/2△B+1 Ac+ △ B 〓 D(i) i=Ac- △ B D i represents differential waveform data.
真のピーク値VPTとベースレベルVBによつて真
のスライスレベルVSTを求める。真のスライスレ
ベルVSTは
VST=VPT+VB/2
で求められる。 The true slice level VST is determined from the true peak value VPT and the base level VB . The true slice level V ST is determined by V ST =V PT +V B /2.
真のスライスレベルVSTが求まると制御器9は
再び位置検出手段10のスライスレベルレジスタ
13に真のスライスレベルVSTをストアし、位置
検出手段10において上述と同様にデイジタル比
較器15によつて真のスライスレベルVSTと微分
波形データを比較し、微分波形データが真のスラ
イスレベルVSTを横切る位置情報をレジスタフア
イル18に取込む。 When the true slice level V ST is determined, the controller 9 stores the true slice level V ST in the slice level register 13 of the position detecting means 10 again, and in the position detecting means 10 it is stored by the digital comparator 15 in the same manner as described above. The true slice level V ST and the differential waveform data are compared, and the position information where the differential waveform data crosses the true slice level V ST is taken into the register file 18 .
このようにして得られた位置情報AeT1とAeT2は
微分波形の真の半値に対応する位置情報とみなす
ことができる。 The position information A eT1 and A eT2 obtained in this way can be regarded as position information corresponding to the true half value of the differential waveform.
この位置情報AeT1とAeT2により荷電粒子ビーム
1の幅Wを正確に求めることができる。 The width W of the charged particle beam 1 can be determined accurately using the position information A eT1 and A eT2 .
W=AeT2−AeT1
荷電粒子ビーム1の幅はビーム1をx方向に走
査したときの幅WとY方向に走査したときの幅H
の双方について測定される。 W=A eT2 −A eT1 The width of charged particle beam 1 is the width W when beam 1 is scanned in the x direction and the width H when it is scanned in the Y direction.
Both are measured.
以上の説明から明らかなように制御器9は下記
する各種の手段を構成している。 As is clear from the above description, the controller 9 constitutes various means described below.
(イ) 走査波形データから微分波形データを得る微
分演算手段
(ロ) ベースレベルVBを算出する手段
(ハ) 微分波形データの中から最大値を検索する手
段
(ニ) ベースレベルVBと最大値により仮スライス
レベルVSを決定する手段
(ホ) 仮スライスレベルVSと微分波形データが交
差する位置Ae1とAe2を取込んでその中心位置
Acを算出する手段
(ヘ) 中心位置ACを境に±△Bの範囲で平均値を
求め、その平均値を真の最大値VPTとして算出
する手段
(ト) 真の最大値VPTとベースレベルVBによつて真
のスライスレベルVSTを決定する手段
(チ) 真のスライスレベルVSTと微分波形とが交差
する位置情報AeT1とAeT2によりビーム1の幅W
又はHを求める手段
制御器9はこのように各種の手段を構成する外
に走査波形データの取込、読出制御、位置検出手
段10へのデータの出入れ等の各種の制御手段も
構成している。これはマイクロコンピユータによ
つて構成することができ、所定の順序に従つてプ
ログラムを実行することにより上記した各種の手
段としての動作を実行する。第3図にそのプログ
ラムの概要をフローチヤートで示す。(a) Differential calculation means for obtaining differential waveform data from scanning waveform data (b) Means for calculating the base level V B (c) Means for searching for the maximum value from the differential waveform data (d) Means for calculating the base level V B and the maximum value Means to determine the temporary slice level V S based on the value (e) Take the positions A e1 and A e2 where the temporary slice level V S intersects with the differential waveform data and calculate the center position.
Means for calculating A c (F) Means for finding the average value in the range of ±△B with the center position A C as the border, and calculating the average value as the true maximum value V PT (G) Means for calculating the true maximum value V PT Means for determining the true slice level V ST from the base level V B and the base level V B
In addition to the various means described above, the controller 9 also constitutes various control means for capturing scanning waveform data, controlling readout, inputting and outputting data to and from the position detecting means 10, etc. There is. This can be configured by a microcomputer, and executes the operations as the various means described above by executing programs in a predetermined order. Figure 3 shows an overview of the program as a flowchart.
尚第1図に示した実施例では走査波形メモリ7
を設けた例を説明したが、AD変換出力を直接制
御器9が取込み、微分波形データに変換しながら
微分波形メモリ11に書込むことができる。よつ
て走査波形メモリ7を省略することは可能であ
る。 In the embodiment shown in FIG.
Although an example in which AD conversion output is provided has been described, the AD conversion output can be directly taken in by the controller 9, and written into the differential waveform memory 11 while being converted into differential waveform data. Therefore, it is possible to omit the scanning waveform memory 7.
また上述の実施例では位置カウンタ16で微分
波形レジスタ14に転送されて来る微分波形デー
タの書込回数を計数し、その計数値を位置情報と
したが、位置カウンタ16をレジスタとし、微分
波形レジスタ14に送られて来る微分波形データ
の読出アドレスをこのレジスタに書込み、このア
ドレス情報を位置情報として利用することもでき
る。 Further, in the above embodiment, the position counter 16 counts the number of writes of the differential waveform data transferred to the differential waveform register 14, and the counted value is used as position information, but the position counter 16 is used as a register, and the differential waveform register It is also possible to write the read address of the differential waveform data sent to 14 into this register and use this address information as position information.
更に微分波形レジスタ14は必ずしも必要とす
るものでなく、制御器9からデイジタル比較器1
5に直接微分波形データを供給するように構成す
ることもできる。 Further, the differential waveform register 14 is not necessarily required, and the differential waveform register 14 is not necessarily required;
It can also be configured to directly supply differential waveform data to 5.
「発明の効果」
上述したようにこの発明によれば微分波形の中
心近傍の平均値を求め、この平均値により微分波
形の真の最大値VPTを得、この真の最大値VPTと
ベースレベルVBとによつて真のスライスレベル
VSTを求めたから、このスライスレベルVSTと微
分波形データとの交差位置は微分波形の真の半値
位置で交差していると見ることができる。よつて
荷電粒子ビームの正確な寸法を測定することがで
き、例えば半導体集積回路の描画線の線幅を正確
に規定することができる利点が得られる。"Effects of the Invention" As described above, according to the present invention, the average value near the center of the differential waveform is obtained, the true maximum value V PT of the differential waveform is obtained from this average value, and this true maximum value V PT and the base True slice level by level V B
Since V ST has been obtained, it can be seen that the intersection position of this slice level V ST and the differential waveform data intersects at the true half-value position of the differential waveform. Therefore, the accurate dimensions of the charged particle beam can be measured, and the advantage is that, for example, the line width of a drawing line of a semiconductor integrated circuit can be accurately defined.
第1図はこの発明の一実施例を説明するための
ブロツク図、第2図はこの発明の動作を説明する
ための波形図、第3図はこの発明の要部となる制
御器を動作させるプログラムの概要を説明するた
めのフローチヤート、第4図は従来の荷電粒子ビ
ームの寸法測定方法を説明するためのブロツク
図、第5図は従来の測定方法を説明するための波
形図である。
1:荷電粒子ビーム、2:ビーム電流検出器、
3:ナイフエツジ、4:増幅器、6:AD変換
器、7:走査波形メモリ、8:データバス、9:
制御器、10:位置検出手段、11:微分波形メ
モリ、13:スライスレベルレジスタ、14:微
分波形レジスタ、15:デイジタル比較器、1
6:位置カウンタ、17:アドレスカウンタ、1
8:レジスタフアイル、VB:ベースレベル、
VS:仮スライスレベル、VST:真のスライスレベ
ル、VP:最大値、VPT:真の最大値、Ac:微分波
形中心。
Fig. 1 is a block diagram for explaining one embodiment of this invention, Fig. 2 is a waveform diagram for explaining the operation of this invention, and Fig. 3 is for operating the controller which is the main part of this invention. FIG. 4 is a flowchart for explaining the outline of the program, FIG. 4 is a block diagram for explaining the conventional method for measuring dimensions of a charged particle beam, and FIG. 5 is a waveform diagram for explaining the conventional measuring method. 1: Charged particle beam, 2: Beam current detector,
3: knife edge, 4: amplifier, 6: AD converter, 7: scanning waveform memory, 8: data bus, 9:
Controller, 10: Position detection means, 11: Differential waveform memory, 13: Slice level register, 14: Differential waveform register, 15: Digital comparator, 1
6: Position counter, 17: Address counter, 1
8: Register file, V B : Base level,
V S : temporary slice level, V ST : true slice level, V P : maximum value, V PT : true maximum value, A c : center of differential waveform.
Claims (1)
電流検出器と、 B このビーム電流検出器から得られる走査波形
信号を微分する微分手段と、 C この微分手段から得られる微分波形信号を記
憶する微分波形記憶手段と、 D 上記微分波形の両端の平均化された値と波形
中心近傍の平均化された値とを用いて波形の半
値を求めるスライスレベル決定手段と、 E この半値決定手段で決定した半値と上記微分
波形が交差する位置を検出する位置検出手段
と、 F この位置検出手段で得られる二つの位置情報
からビームの寸法を求める手段と、 から成る荷電粒子ビームの寸法測定装置。[Claims] 1. A charged particle beam current detector having a knife edge, B. Differentiating means for differentiating a scanning waveform signal obtained from this beam current detector, and C. A differential waveform signal obtained from this differentiating means. a differential waveform storage means for storing; D a slice level determining means for determining the half value of the waveform using the averaged values at both ends of the differential waveform and the averaged value near the center of the waveform; and E the half value determining means. A charged particle beam dimension measuring device comprising: a position detecting means for detecting a position where the half value determined by F intersects with the differential waveform; and a means for determining the beam dimension from two pieces of position information obtained by the position detecting means. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199897A JPS6260222A (en) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | Device for measuring dimension of charged particle beams |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199897A JPS6260222A (en) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | Device for measuring dimension of charged particle beams |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6260222A JPS6260222A (en) | 1987-03-16 |
| JPH0478151B2 true JPH0478151B2 (en) | 1992-12-10 |
Family
ID=16415421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60199897A Granted JPS6260222A (en) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | Device for measuring dimension of charged particle beams |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6260222A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103513265A (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-15 | 中国科学院大连化学物理研究所 | Movable time slice three-dimensional imaging detecting method and device for charged particle beams or clusters |
| KR102580374B1 (en) * | 2022-05-26 | 2023-09-18 | 한국핵융합에너지연구원 | Hybrid joint assembly of low temperature superconducting conduit conductor and high temperature superconducting conduit conductor, hybrid joint method low temperature superconducting conduit conductor and high temperature superconducting conduit conductor, and extension method of low temperature superconducting conduit conductor and high temperature superconducting conduit conductor therefor |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP60199897A patent/JPS6260222A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6260222A (en) | 1987-03-16 |
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