JPH0478846A - 写真用支持体の下引塗布方法 - Google Patents
写真用支持体の下引塗布方法Info
- Publication number
- JPH0478846A JPH0478846A JP19274990A JP19274990A JPH0478846A JP H0478846 A JPH0478846 A JP H0478846A JP 19274990 A JP19274990 A JP 19274990A JP 19274990 A JP19274990 A JP 19274990A JP H0478846 A JPH0478846 A JP H0478846A
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- JP
- Japan
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- coating
- coating liquid
- liquid
- support
- metering roll
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は写真感光材料用支持体に対する下引液の塗布方
法に関し、詳しくは溶剤を使用する塗布液の塗布方法に
関する。
法に関し、詳しくは溶剤を使用する塗布液の塗布方法に
関する。
写真感光材料の支持体としては各種のものが使用されて
いるが、主として用いられているのはポリエチレンテレ
フタレート及びトリアセチルセローズによるフィルムベ
ースである。
いるが、主として用いられているのはポリエチレンテレ
フタレート及びトリアセチルセローズによるフィルムベ
ースである。
これら支持体には、感光性乳剤層あるいはバッキング層
等の主としてゼラチンをバインダーとする親水性コロイ
ド層との接着性を高めるために、通常下引液と称する塗
布層があらかじめ塗布される。
等の主としてゼラチンをバインダーとする親水性コロイ
ド層との接着性を高めるために、通常下引液と称する塗
布層があらかじめ塗布される。
これら下引液も各種の組成のものがあるが、特にトリア
セチルセローズフイルムベース用には溶剤を含有する組
成のものが多く使用される。
セチルセローズフイルムベース用には溶剤を含有する組
成のものが多く使用される。
このような下引層は一般に非常に薄膜であり、かつ溶剤
の蒸発もあるため均一に塗布することが難しい。しかも
近時、生産性の向上に対する要請が強く、そのため塗布
速度の向上が望まれ一層難しくなってきている。
の蒸発もあるため均一に塗布することが難しい。しかも
近時、生産性の向上に対する要請が強く、そのため塗布
速度の向上が望まれ一層難しくなってきている。
従来このような溶剤系下引液の塗布に当たっては一般的
にダブルロールコータ−と呼ばれる塗布方法が用いられ
て来た。
にダブルロールコータ−と呼ばれる塗布方法が用いられ
て来た。
第３図はこのようなダブルロールコータ−のｌ例を示す
断面図である。
断面図である。
同図において塗布液りはピックアップロール３２により
１次膜３３として持ち上げられ、バックロール３Ｉに抱
かれて走行する支持体Ｂ上に塗布され塗布膜すなわち２
次膜３４となる。
１次膜３３として持ち上げられ、バックロール３Ｉに抱
かれて走行する支持体Ｂ上に塗布され塗布膜すなわち２
次膜３４となる。
このような塗布方法においては、塗布量は支持体の走行
速度、ピックアップロールの回転速度、ピックアップロ
ールとバックロールとの間隙、塗布液の粘度等の物性、
温度等により規定される。
速度、ピックアップロールの回転速度、ピックアップロ
ールとバックロールとの間隙、塗布液の粘度等の物性、
温度等により規定される。
この方法は、速度上昇をはかる場合の塗布量すなわち膜
厚の制御が難しく、特に１次膜の塗布膜れが２次膜に影
響し易く、筋故障の発生等により、安定に塗布速度の上
昇をはかるのが困難であった。
厚の制御が難しく、特に１次膜の塗布膜れが２次膜に影
響し易く、筋故障の発生等により、安定に塗布速度の上
昇をはかるのが困難であった。
さらに本発明における写真感光材料用下引層のように溶
剤を含有する塗布液の場合は、ダブルロール法では溶剤
の蒸発面積が大きく環境条件を悪化させ、塗布液の蒸発
による液物性、液濃度の変化、あるいは析出等の問題も
あり、安定な均一塗布はさらに困難であった。
剤を含有する塗布液の場合は、ダブルロール法では溶剤
の蒸発面積が大きく環境条件を悪化させ、塗布液の蒸発
による液物性、液濃度の変化、あるいは析出等の問題も
あり、安定な均一塗布はさらに困難であった。
上記のような問題に対して本発明の目的は、安定に塗布
速度の向上ができ、塗布故障の発生のない写真感光材料
用支持体の下引塗布方法を提供することである。
速度の向上ができ、塗布故障の発生のない写真感光材料
用支持体の下引塗布方法を提供することである。
本発明の上記目的は、写真感光材料用支持体に下引液を
塗布するにあたり、押出ノズルにより支持体の幅方向に
沿うスリットから塗布液を押し出し、次いでメタリング
ロールによって、塗布液を掻き落として所定の膜厚にす
ることを特徴とする写真用支持体の下引塗布方法により
達成される。
塗布するにあたり、押出ノズルにより支持体の幅方向に
沿うスリットから塗布液を押し出し、次いでメタリング
ロールによって、塗布液を掻き落として所定の膜厚にす
ることを特徴とする写真用支持体の下引塗布方法により
達成される。
また本発明の塗布方法においては、塗布雰囲気の総括伝
熱係数が３０Ｋｃａｌ／（ｓ’・ｈｒ・℃）以下である
ことが望ましい。
熱係数が３０Ｋｃａｌ／（ｓ’・ｈｒ・℃）以下である
ことが望ましい。
以下本発明について具体的に説明する。
第１図は本発明による塗布方法の１例を示す断面図であ
る。
る。
同図において、塗布液りは、塗布液槽７より送液ポンプ
８及びフィルター９を通して塗布機ｌに送られる。その
際、減圧装置１０を設置することにより、塗布機先端と
ウェブとの間に形成されるリボン状の液膜のビードを減
圧により下方に引っ張ることにより、ビードの安定性、
塗布の安定性を高めている。
８及びフィルター９を通して塗布機ｌに送られる。その
際、減圧装置１０を設置することにより、塗布機先端と
ウェブとの間に形成されるリボン状の液膜のビードを減
圧により下方に引っ張ることにより、ビードの安定性、
塗布の安定性を高めている。
箪２図は塗布機の詳細断面図の１例であるが、支持体Ｂ
の幅方向に沿う１対のノズルヘッド２１Ａ、２１Ｂ及び
側板２５Ａ、 ２５Ｂにより形成されるスリット２２を
有し、塗布液流入孔２４より流入しｔ；塗布液はポケッ
ト２３を通ってスリット２２より支持体幅方向に均一に
押し出される。
の幅方向に沿う１対のノズルヘッド２１Ａ、２１Ｂ及び
側板２５Ａ、 ２５Ｂにより形成されるスリット２２を
有し、塗布液流入孔２４より流入しｔ；塗布液はポケッ
ト２３を通ってスリット２２より支持体幅方向に均一に
押し出される。
このようにして、一定の供給速度で支持体に塗布液を供
給することにより１次膜を安定させ、さらにメタリング
ロール４により膜厚を規制し、所定以上の塗布液を掻き
落とす。 尚、６はメタリングロール上の液を掻き落と
すブレードであり、５はこの液の受は皿である。
給することにより１次膜を安定させ、さらにメタリング
ロール４により膜厚を規制し、所定以上の塗布液を掻き
落とす。 尚、６はメタリングロール上の液を掻き落と
すブレードであり、５はこの液の受は皿である。
本発明はこのような塗布方法により塗布速度を向上し、
かつ所望の塗布膜厚を安定して得ることができる。
かつ所望の塗布膜厚を安定して得ることができる。
しかしながら、本発明におけるごとき溶剤を含有する塗
布液においては、塗布液の蒸発の問題に対する配慮が必
要である。溶剤が部分的に不均一に蒸発すれば当然塗布
液の濃度が部分的に変動し、塗布ムラとなる。
布液においては、塗布液の蒸発の問題に対する配慮が必
要である。溶剤が部分的に不均一に蒸発すれば当然塗布
液の濃度が部分的に変動し、塗布ムラとなる。
本発明においてはこのため、塗布雰囲気の総括伝熱係数
を３０ＫＣａｌ／（ｍ”ｈｒ・ｔ）以下好ましくは２０
Ｋｃａ ｌ／（＋ｉ”・ｈｒ・℃）以下に抑制する。
を３０ＫＣａｌ／（ｍ”ｈｒ・ｔ）以下好ましくは２０
Ｋｃａ ｌ／（＋ｉ”・ｈｒ・℃）以下に抑制する。
一般に溶剤系の蒸発においては、■溶剤の湿球温度■溶
剤蒸発面周囲の環境温度、風速等が影響する。
剤蒸発面周囲の環境温度、風速等が影響する。
ここで溶剤の湿球温度をｔ５℃とすると総括伝熱係数り
は、下記式で表される。
は、下記式で表される。
ｈ−ＱＸ△ｗ ／ ５ ｘ△１（１，−１，）Ｋｃａｌ
／（ｍ”ｈｒ・℃） Ｑ ：湿球温度ｔ１℃における蒸発潜熱△Ｗ：蒸発前後
の液重量差 Ｓ ：蒸発面積 △ｔ：蒸発時間 ｔ４ ：雰囲気温度 本発明においては、このような総括伝熱係数を規定する
ことにより、溶剤蒸発量を制御する。
／（ｍ”ｈｒ・℃） Ｑ ：湿球温度ｔ１℃における蒸発潜熱△Ｗ：蒸発前後
の液重量差 Ｓ ：蒸発面積 △ｔ：蒸発時間 ｔ４ ：雰囲気温度 本発明においては、このような総括伝熱係数を規定する
ことにより、溶剤蒸発量を制御する。
実施例
以下実施例により本発明の効果を例証する。
本発明の第１図に示す塗布装置を用いて下記条件で塗布
を行った。
を行った。
塗布液
アルミナゾルｐ、 ｓ −１００（日産化学器製）４０
ｇアセトン ５００ｍ４メ
タ／ −ル４００ｓＩ２ デイメチルホルムアミド １００ｍ０そ
の他の固形含有物 ３０ｇ塗布条件 塗布速度＝ ３０ｍ／＋ｉｎ コーター間隙−９０μｍ ウヱソト膜厚−２２μｍ 減圧度△Ｐ ＝ ４ ｍｍＡｑ 総括伝熱係数−２５Ｋｃａｌ／（ｍ”／ｈｒ／ ”Ｃ）
尚、塗布速度２０ｍ／ｓｉｎの場合と５０ｍ／ｗｉｎの
場合について、本発明の塗布条件とダブルロール法での
比較を行った結果、５０ｍ／ｗｉｎの場合ダブルロール
では筋故障が発生したが、本発明の場合は発生がなかっ
た。
ｇアセトン ５００ｍ４メ
タ／ −ル４００ｓＩ２ デイメチルホルムアミド １００ｍ０そ
の他の固形含有物 ３０ｇ塗布条件 塗布速度＝ ３０ｍ／＋ｉｎ コーター間隙−９０μｍ ウヱソト膜厚−２２μｍ 減圧度△Ｐ ＝ ４ ｍｍＡｑ 総括伝熱係数−２５Ｋｃａｌ／（ｍ”／ｈｒ／ ”Ｃ）
尚、塗布速度２０ｍ／ｓｉｎの場合と５０ｍ／ｗｉｎの
場合について、本発明の塗布条件とダブルロール法での
比較を行った結果、５０ｍ／ｗｉｎの場合ダブルロール
では筋故障が発生したが、本発明の場合は発生がなかっ
た。
第４図に総括伝熱係数の値に対するメタリングロール上
の固体含有物の２４時間における排出状況を示した。
の固体含有物の２４時間における排出状況を示した。
本発明により、安定に塗布速度の向上ができ、塗布故障
の発生のない写真感光材料用支持体の下弓塗布方法を提
供することができた。
の発生のない写真感光材料用支持体の下弓塗布方法を提
供することができた。
第１図は、本発明の機構を有する塗布装置の１例を示す
断面図である。 第２図は、塗布機の部分詳細斜視図である。 第３図は、ダブルロールコータ−の１例を示す断面図で
ある。 第４図は総括伝熱係数と固体含有物析出の関係を示すグ
ラフである。 １：塗布機 ２：ウエブ ３：バックロール ４：メタリングロール６：掻き
取り装置 ７：１１布液タンク１０：減圧装置
断面図である。 第２図は、塗布機の部分詳細斜視図である。 第３図は、ダブルロールコータ−の１例を示す断面図で
ある。 第４図は総括伝熱係数と固体含有物析出の関係を示すグ
ラフである。 １：塗布機 ２：ウエブ ３：バックロール ４：メタリングロール６：掻き
取り装置 ７：１１布液タンク１０：減圧装置
Claims (2)
- （１）写真感光材料用支持体に下引液を塗布するにあた
り、押出ノズルにより支持体の幅方向に沿うスリットか
ら塗布液を押し出し、次いでメタリングロールによって
、塗布液を掻き落として所定の膜厚にすることを特徴と
する写真用支持体の下引塗布方法。 - （２）請求項１記載の塗布方法において、塗布雰囲気の
総括伝熱係数が３０Ｋｃａｌ／（ｍ＾２・ｈｒ・℃）以
下であることを特徴とする写真用支持体の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19274990A JPH0478846A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 写真用支持体の下引塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19274990A JPH0478846A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 写真用支持体の下引塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0478846A true JPH0478846A (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=16296415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19274990A Pending JPH0478846A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 写真用支持体の下引塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0478846A (ja) |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP19274990A patent/JPH0478846A/ja active Pending
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