JPH047888Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、半導体ウエハなどのワークの片面を
研摩する平面研摩装置において、ワークの保持に
用いられる研摩用ヘツドの改良に関するものであ
る。

［従来の技術］ 例えば、ワークの片面を研摩するポリツシング
マシンやラツピングマシンなどの平面研摩装置に
おいては、従来より第２図に示すような研摩用ヘ
ツドが使用されていた。これは、プシユロツド１
に連結されるヘツド軸２に調芯軸受３を介してレ
フアレンスプレート４を回転且つ揺動自在に取付
け、該レフアレンスプレート４の下面にワーク保
持ブロツク５の取付面６を形成すると共に、該取
付面の背後に水冷室７を区画形成し、該水冷室７
にヘツド軸２内部の流路８，９を通じて冷却水を
循環的に供給しながら、上記保持ブロツク５に張
付けられたワーク１０を定盤１１に押付けて研摩
するものである。

しかしながら、上記従来の研摩用ヘツドにおい
ては、ヘツド軸２の先端部分とレフアレンスプレ
ート４との間に特殊構造のシール部材１２を介在
させ、このシール部材によつて水冷室７と調芯軸
受３との間を液密に区画すると共に、レフアレン
スプレート４が調芯軸受３を支点として揺動運動
する際の変位を吸収させるようにしていたため、
該シール部材１２にレフアレンスプレート４の変
位に伴う非常に大きな偏荷重が作用し、その摩耗
や破損が生じてシール不能に陥り易いという欠点
があつた。

［考案が解決しようとする問題点］ 本考案の課題は、レフアレンスプレートの揺動
に伴う偏荷重がシール部材に直接作用しないよう
に構成することにより、シール部材の摩耗防止と
簡単な構造のシール部材の使用とを可能にした研
摩用ヘツドを提供することにある。

［問題点を解決するための手段］ 上記課題を解決するため、本考案においては、
ワークの保持ブロツクを取付けるための取付面と
冷却用の水冷室とを備えたレフアレンスプレート
を、調芯軸受を介してヘツド軸に回転且つ揺動自
在に取付け、該レフアレンスプレートの内部に形
成された空間部において、上記ヘツド軸に、水冷
室と調芯軸受との間に位置するシールケースをベ
アリング及びシール部材を介して回転自在に取付
け、該シールケースとレフアレンスプレートとを
相対的な揺動は可能であるが相対的な回転は規制
された状態に連結すると共に、それらの間にダイ
ヤフラムを張設したことを特徴とするものであ
る。

［作用］ レフアレンスプレートの取付面にワーク保持ブ
ロツクを取付け、水冷室に冷却水を供給しなが
ら、上記保持ブロツクに張付けたワークを定盤に
押付けて研摩する。

このとき、水冷室内の冷却水は、シールケース
とヘツド軸との間のシール部材、及びシールケー
スとレフアレンスプレートとの間にダイヤフラム
によりシールされ、調芯軸受側へ漏出することが
ない。

また、レフアレンスプレートが調芯軸受を中心
にして揺動運動しても、その変位は上記ダイヤフ
ラムによつて吸収され、シールケースに伝達され
ることがない。従つて、上記レフアレンスプレー
トの変位に伴う偏荷重がシールケースを介して上
記シール部材に伝わることはなく、これによつて
該シール部材の摩耗や破損等が防止される。

［実施例］ 以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に
説明すると、第１図において、２０は研摩装置の
プツシユロツド（図示せず）に連結されるヘツド
軸、２１は該ヘツド軸２０に調芯軸受２２を介し
て回転且つ揺動自在に付けられたレフアレンスプ
レートを示している。

上記ヘツド軸２０は、その側面に冷却水の入口
２３及び出口２４を有すると共に、その内部にこ
れらの入口及び出口に通じる供給流路２５及び排
出流路２６を有し、供給流路２５はヘツド軸２０
の下端面に、排出流路２６は同下端部側面にそれ
ぞれ開口している。

一方、上記レフアレンスプレート２１は、上記
調芯軸受２２の取付部２７ａを有する筒状の基部
材２７と、該基部材２７にＯリング３０を介して
ねじ３１で液密に固定された笠状の先部材２８
と、該先部材２８の下面にＯリング３２を介して
ねじ３３で液密に固定された円板状のボトム部材
２９とからなり、該ボトム部材２９の下面には、
多数のワーク３５を張付けたワーク保持ブロツク
３４を取付けるための取付面３６が形成され、該
ボトム部材２９と先部材２８との間には、ワーク
３５の研摩時に冷却水を流すための円環状の水冷
室３７が形成されている。この水冷室３７は、通
孔４０を通じてヘツド軸２０内の供給流路２５に
連通すると共に、バツフルプレート４１を挟んで
開設された別の通孔４２を通じて排出流路２６に
連通し、供給流路２５から流入した冷却水が、バ
ツフルプレート４１を迂回するように水冷室３７
内を流れたあと、上記排出流路２６から外部に流
出するようになつている。

また、上記レフアレンスプレート２１の内部に
形成された空間部４４においては、水冷室３７と
調芯軸受２２との間に位置するシールケース４５
が、レフアレンスプレート２１との間に若干の間
隔をおいた状態で上記ヘツド軸２０にベアリング
４６及びシール部材４７を介して回転自在に取付
けられ、該シールケース４５とレフアレンスプレ
ート２１における基部材２７との間には、それら
を相対的な揺動は許容するが相対的な回転は規制
した状態に連結するピン４９が溝４５ａ，２７ｂ
内に嵌装されると共に、水冷室３７と調芯軸受２
２との間を遮断するダイヤフラム４８が張設され
ている。

なお、図中５０は、調芯軸受２２に潤滑剤を供
給するためのニツプル、５１はヘツド軸２０とレ
フアレンスプレート２１との連結部を覆うカバー
である。

上記構成を有する平面研摩用ヘツドの使用時に
は、ヘツド軸２０を研摩装置におけるプツシユロ
ツドに連結し、多数のワーク３５を張付けた保持
ブロツク３４を取付面３６に適宜手段により装着
する。そして、入口２３を通じて水冷室３７に冷
却水を供給しながら、上記ワーク３５を定盤に押
付けて研摩する。

ここで、上記水冷室３７に供給された冷却水
は、シールケース４５とヘツド軸２０との間に介
在せしめられたシール部材４７、及びシールケー
ス４５とプレート２１との間に張設されたダイヤ
フラム４８により遮断され、調芯軸受２２側に漏
出することがない。

また、レフアレンスプレート２１が調芯軸受２
２を中心として揺動しても、その変位はダイヤフ
ラム４８によつて吸収され、シールケース４５に
伝達されることはない。従つて、レフアレンスプ
レート２１の揺動に伴う偏荷重がシールケース４
５を介してシール部材４７に作用することがな
く、これによつてその摩耗や破損等が防止され
る。

［考案の効果］ このように本考案によれば、レフアレンスプレ
ートの揺動に伴う変位を該レフアレンスプレート
とシールケースとの間に張設したダイヤフラムに
よつて吸収させるようにしたので、その変位即ち
揺動に伴う偏荷重がシールケースとヘツド軸との
間のシール部材に作用するのを防ぎ、該シール部
材の摩耗及び破損を確実に防止することができ、
これによつてこのシール部材として構造が簡単で
安価な汎用のものを使用することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例の縦断面図、第２図
は従来例の縦断面図である。 ２０……ヘツド軸、２１……レフアレンスプレ
ート、２２……調芯軸受、３４……保持ブロツ
ク、３５……ワーク、３６……取付面、３７……
水冷室、４４……空間部、４５……シールケー
ス、４６……ベアリング、４７……シール部材、
４８……ダイヤフラム。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ワークの保持ブロツクを取付けるための取付面
   と冷却用の水令室とを備えたレフアレンスプレー
   トを、調芯軸受を介してヘツド軸に回転且つ揺動
   自在に取付け、該レフアレンスプレートの内部に
   形成された空間部において、上記ヘツド軸に、水
   令室と調芯軸受との間に位置するシールケースを
   ベアリング及びシール部材を介して回転自在に取
   付け、該シールケースとレフアレンスプレートと
   を相対的な揺動は可能であるが相対的な回転は規
   制された状態に連結すると共に、それらの間にダ
   イヤフラムを張設したことを特徴とする平面研摩
   用ヘツド。