JPH0478925B2 - - Google Patents
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- JPH0478925B2 JPH0478925B2 JP18709387A JP18709387A JPH0478925B2 JP H0478925 B2 JPH0478925 B2 JP H0478925B2 JP 18709387 A JP18709387 A JP 18709387A JP 18709387 A JP18709387 A JP 18709387A JP H0478925 B2 JPH0478925 B2 JP H0478925B2
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、物体への光の入射角度を高精度に測
定する入射角度測定方法に関するものである。
定する入射角度測定方法に関するものである。
［従来の技術］
従来、光束の物体への入射角度Ψの測定は、一
般に第５図ａに示すように、物体１から反射した
反射光が作るスポツトＰのスクリーン上の位置と
入射光Ｉの通過位置とを測定し、その入射光Ｉと
反射光のなす角度を算出することにより行われて
いた。ところが、この従来方法には次のような欠
点があり、入射角度を高精度に測定するのは、事
実上不可能であつた。
般に第５図ａに示すように、物体１から反射した
反射光が作るスポツトＰのスクリーン上の位置と
入射光Ｉの通過位置とを測定し、その入射光Ｉと
反射光のなす角度を算出することにより行われて
いた。ところが、この従来方法には次のような欠
点があり、入射角度を高精度に測定するのは、事
実上不可能であつた。
［発明が解決しようとする問題点］
まず第１に、反射光のスポツトの大きさはそれ
程小さくできないことが挙げられる。この反射光
のスポツトを小さくするには、入射光束の径と発
散角を同時に減少させねばならない。しかし、こ
の両者の積は、光の回折で規定される値以下には
原理的に減少させることはできないので、反射光
のスポツトの大きさは従来方法での測定精度を低
減させる主な原因となつていた。
程小さくできないことが挙げられる。この反射光
のスポツトを小さくするには、入射光束の径と発
散角を同時に減少させねばならない。しかし、こ
の両者の積は、光の回折で規定される値以下には
原理的に減少させることはできないので、反射光
のスポツトの大きさは従来方法での測定精度を低
減させる主な原因となつていた。
実際、第５図ａの従来方法で1mrad以上の測定
精度を得るのは極めて困難が多く、0.1mrad以上
の精度は達成不可能であつた。また、この方法で
精度を高めようとすると、物体１から反射光スポ
ツトの測定位置までの距離を大きくとらなければ
ならず、実用上の障害となつていた。
精度を得るのは極めて困難が多く、0.1mrad以上
の精度は達成不可能であつた。また、この方法で
精度を高めようとすると、物体１から反射光スポ
ツトの測定位置までの距離を大きくとらなければ
ならず、実用上の障害となつていた。
また、第５図ｂは、物体１での反射光と透過光
を干渉させて入射角度Ψを測定する従来の入射角
度測定方法を示す。この方法では干渉を用いるの
で測定精度は比較的高いものの、この方法が透過
光や反射光を妨害してしまうという欠点がある。
そのため、この従来方法を他の光学計測のための
光軸調整法として適用するには困難が多い。ま
た、垂直入射に近い入射角度には適用できないと
いうことも大きな欠点であつた。
を干渉させて入射角度Ψを測定する従来の入射角
度測定方法を示す。この方法では干渉を用いるの
で測定精度は比較的高いものの、この方法が透過
光や反射光を妨害してしまうという欠点がある。
そのため、この従来方法を他の光学計測のための
光軸調整法として適用するには困難が多い。ま
た、垂直入射に近い入射角度には適用できないと
いうことも大きな欠点であつた。
ところで、半導体素子製造や精密機械加工等の
産業分野での加工精度の向上に伴い、光学的な高
精度測定がますます多用されるようになつてい
る。これらの分野では、測定に必要な調整を高精
度に行う必要があるので、物体への光の入射角度
を簡便にかつ精度良く測定することができる方法
が望まれていた。
産業分野での加工精度の向上に伴い、光学的な高
精度測定がますます多用されるようになつてい
る。これらの分野では、測定に必要な調整を高精
度に行う必要があるので、物体への光の入射角度
を簡便にかつ精度良く測定することができる方法
が望まれていた。
そこで、本発明の目的は、上述の欠点を除去し
て、簡単な構成で光の物体への入射角度を高精度
で測定する方法を提案することにある。
て、簡単な構成で光の物体への入射角度を高精度
で測定する方法を提案することにある。
［問題点を解決するための手段］
このような目的を達成するために、本発明は、
物体への光の入射角度を測定する方法において、
物体上に回折格子を設け、光の回折格子による回
折光の内の少なくとも１つの回折光を反射体で反
射させて反射光を得て、反射光と少なくとも１つ
の他の回折光との合成光の強度を測定することに
より物体への光の入射角度を測定することを特徴
とする。
物体への光の入射角度を測定する方法において、
物体上に回折格子を設け、光の回折格子による回
折光の内の少なくとも１つの回折光を反射体で反
射させて反射光を得て、反射光と少なくとも１つ
の他の回折光との合成光の強度を測定することに
より物体への光の入射角度を測定することを特徴
とする。
［作用］
本発明は、物体上に回折格子を設け、入射光の
回折格子による回折光の内の少なくとも１つを反
射体で反射させ、その反射光と少なくとも１つの
回折光を干渉させた合成光Ｕの光強度を測定する
ことにより物体への入射光の入射角度Ψを測定す
るようにしたので、合成光Ｕの光強度が入射角度
Ψに敏感に依存することから、入射角度を高精度
に測定できる。
回折格子による回折光の内の少なくとも１つを反
射体で反射させ、その反射光と少なくとも１つの
回折光を干渉させた合成光Ｕの光強度を測定する
ことにより物体への入射光の入射角度Ψを測定す
るようにしたので、合成光Ｕの光強度が入射角度
Ψに敏感に依存することから、入射角度を高精度
に測定できる。
［実施例］
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に
説明する。
説明する。
まず最初に本発明の原理について説明する。
第１図ａ，ｂは、本発明測定方法の原理を示
す。本発明では、本図に示すように、物体１に入
射している光Ｉの入射角度Ψを測定するため、物
体１上に回折格子Ｇを配置する。回折格子Ｇに入
射した光Ｉから一般には複数個の回折光D1，D2
が得られる。
す。本発明では、本図に示すように、物体１に入
射している光Ｉの入射角度Ψを測定するため、物
体１上に回折格子Ｇを配置する。回折格子Ｇに入
射した光Ｉから一般には複数個の回折光D1，D2
が得られる。
第１図ａでは、この内の回折光D2を反射体２
で反射して反射光Ｒを得て、その反射光Ｒを他の
回折光D1と同一方向に進行させて、回折光D1と
反射光Ｒを互いに干渉させる。この干渉による合
成光Ｕの強度は、後述のように入射角Ψに敏感に
依存するので、その強度を検出器３で測定すれば
入射角Ψが測定できる。
で反射して反射光Ｒを得て、その反射光Ｒを他の
回折光D1と同一方向に進行させて、回折光D1と
反射光Ｒを互いに干渉させる。この干渉による合
成光Ｕの強度は、後述のように入射角Ψに敏感に
依存するので、その強度を検出器３で測定すれば
入射角Ψが測定できる。
この時、反射光Ｒと回折光D1の方向は厳密に
一致している必要はなく、互いの干渉が生じる程
度にそろつていれば良い。また、反射体２の表面
は完全な鏡面でなく、多少凹凸を有していても、
合成光Ｕの強度の検出に充分な強度の反射光Ｒを
生成できる程度であればよい。さらに、１つの反
射体のみにより反射光Ｒを回折光D1と直接干渉
させなくとも、複数個の反射体を組み合わせて用
いることにより、反射光Ｒと回折光D1とを干渉
させてもよい。あるいは、反射体２と検出器３の
間にレンズ等の光学系を介在させ、それによつて
反射光Ｒと回折光D1を干渉させてもよい。
一致している必要はなく、互いの干渉が生じる程
度にそろつていれば良い。また、反射体２の表面
は完全な鏡面でなく、多少凹凸を有していても、
合成光Ｕの強度の検出に充分な強度の反射光Ｒを
生成できる程度であればよい。さらに、１つの反
射体のみにより反射光Ｒを回折光D1と直接干渉
させなくとも、複数個の反射体を組み合わせて用
いることにより、反射光Ｒと回折光D1とを干渉
させてもよい。あるいは、反射体２と検出器３の
間にレンズ等の光学系を介在させ、それによつて
反射光Ｒと回折光D1を干渉させてもよい。
このように、回折光を用いると、物体１を直接
透過する透過光や物体１に直接反射する反射光に
対してほとんど影響を与えることなく、入射角度
を高精度で測定でき、併設させた他の光学測定系
を全く妨害しないという利点がある。また、回折
光を他の光学測定に用いる場合にも、１つの回折
格子からは一般に複数の回折光が得られるので、
他の光学測定に影響を与えない回折光を選んで、
入射角度の測定に用いればよい。
透過する透過光や物体１に直接反射する反射光に
対してほとんど影響を与えることなく、入射角度
を高精度で測定でき、併設させた他の光学測定系
を全く妨害しないという利点がある。また、回折
光を他の光学測定に用いる場合にも、１つの回折
格子からは一般に複数の回折光が得られるので、
他の光学測定に影響を与えない回折光を選んで、
入射角度の測定に用いればよい。
ここで、物体１と反射体２は必ずしも異なる物
体である必要はなく、同一の物体の異なる面を反
射体２として用いてもよい。この場合は、第１図
ｂに示すように、反射体２を回折格子Ｇと平行に
配設するのが最も有効である。なぜなら、本図に
示すような構成をとると、任意の入射角Ψに対し
て、常に反射光Ｒの方向を回折光D1の方向と一
致させられるからである。
体である必要はなく、同一の物体の異なる面を反
射体２として用いてもよい。この場合は、第１図
ｂに示すように、反射体２を回折格子Ｇと平行に
配設するのが最も有効である。なぜなら、本図に
示すような構成をとると、任意の入射角Ψに対し
て、常に反射光Ｒの方向を回折光D1の方向と一
致させられるからである。
また、この回折格子Ｇと反射体２の平行配置
は、入射光Ｉの垂直性（Ψ＝０）の検出に有効で
ある。入射光Ｉが垂直入射に近い場合には、第２
図に示すように、対称的に２つの合成光U1（回折
光D1と反射光R1の合成光）とU2（回折光D2と反
射光R2の合成光）とが得られる。入射角Ψが垂
直からずれた場合には、合成光U1と合成光U2は
異なつた強度変化を示す。従つて、２つの合成光
U1とU2の強度が等しくなる点を各々の検出器３
で検出すれば、その点を極めて高精度に、かつ高
い確度でΨ＝０と測定することができる。
は、入射光Ｉの垂直性（Ψ＝０）の検出に有効で
ある。入射光Ｉが垂直入射に近い場合には、第２
図に示すように、対称的に２つの合成光U1（回折
光D1と反射光R1の合成光）とU2（回折光D2と反
射光R2の合成光）とが得られる。入射角Ψが垂
直からずれた場合には、合成光U1と合成光U2は
異なつた強度変化を示す。従つて、２つの合成光
U1とU2の強度が等しくなる点を各々の検出器３
で検出すれば、その点を極めて高精度に、かつ高
い確度でΨ＝０と測定することができる。
以上に述べた本発明の測定方法で入射角Ψが測
定できるのは、次のような原理に基づく。すなわ
ち、反射光Ｒの位相は、反射体２を経たことによ
り、その光路長分だけ遅れを生じている。この位
相遅れΔは反射体２までの距離と回折角θによ
り定まる。回折角θは入射角Ψが変わるとそれに
応じて変化する。従つて、反射光Ｒを回折光D1
と干渉させて、その反射光Ｒと回折光D1の合成
光Ｕの強度変化により、位相遅れΔを測定すれ
ば、入射角Ψを高精度に測定できる。
定できるのは、次のような原理に基づく。すなわ
ち、反射光Ｒの位相は、反射体２を経たことによ
り、その光路長分だけ遅れを生じている。この位
相遅れΔは反射体２までの距離と回折角θによ
り定まる。回折角θは入射角Ψが変わるとそれに
応じて変化する。従つて、反射光Ｒを回折光D1
と干渉させて、その反射光Ｒと回折光D1の合成
光Ｕの強度変化により、位相遅れΔを測定すれ
ば、入射角Ψを高精度に測定できる。
例えば、第１図ｂの例では、以上の相関関係
は、次の式のようになる。
は、次の式のようになる。
まず、回折角θは、
sinθ＝nλ／ｄ＋sinΨ ……(1)
で与えられる。但し、ｎは回折光の次数、ｄは回
折格子Ｇの周期、λは波長である。ここで、物体
１と反射体２の距離をＳとすると、反射光Ｒの回
折光D1に対する位相遅れΔは、 Δ＝4πS／λcosθ ……(2) （但し、θは回折光D2の回折角）となる。
折格子Ｇの周期、λは波長である。ここで、物体
１と反射体２の距離をＳとすると、反射光Ｒの回
折光D1に対する位相遅れΔは、 Δ＝4πS／λcosθ ……(2) （但し、θは回折光D2の回折角）となる。
従つて、反射光Ｒを回折光D1と干渉させると
合成光U1の強度はcos2Δに従つて変化するので、
その強度の測定により位相遅れΔ、すなわち入
射角Ψが上述の式(1)、(2)に従つて測定できる。
合成光U1の強度はcos2Δに従つて変化するので、
その強度の測定により位相遅れΔ、すなわち入
射角Ψが上述の式(1)、(2)に従つて測定できる。
例えば、波長632.8nmの光を用いると、Ｓ＝
100μｍ程度の短い距離でも、4πS／λは2000程度
の値をとり、容易に10-4radの測定精度を実現で
きる。
100μｍ程度の短い距離でも、4πS／λは2000程度
の値をとり、容易に10-4radの測定精度を実現で
きる。
入射光として、互いに可干渉で周波数と偏光状
態の異なる光I1とI2の合成光を用いると、本発明
のそのままの構成で、位相遅れΔの光ヘテロダ
イン測定を実現でき、測定精度を一層向上させる
ことができる。この場合は、第３図に示すよう
に、検出器３の前に偏光子４を配置した方が、よ
り明瞭なうなり信号が得られる。本発明の極めて
簡単な構成でヘテロダイン測定が可能なのは、回
折格子Ｇの回折効率および反射体２での反射率
が、光の偏光状態により異なることに基づく。
態の異なる光I1とI2の合成光を用いると、本発明
のそのままの構成で、位相遅れΔの光ヘテロダ
イン測定を実現でき、測定精度を一層向上させる
ことができる。この場合は、第３図に示すよう
に、検出器３の前に偏光子４を配置した方が、よ
り明瞭なうなり信号が得られる。本発明の極めて
簡単な構成でヘテロダイン測定が可能なのは、回
折格子Ｇの回折効率および反射体２での反射率
が、光の偏光状態により異なることに基づく。
検出器３へ入射する光の振幅Ａは、入射光I1，
I2の角振動数をそれぞれw1，w2とすると、 Ａ＝A1（１＋αe-i〓）eiw1t＋A2（−i
Δ）eiw2t……(3) となる。ここで、A1，A2はそれぞれ回折光の入
射光I1およびI2成分での振幅、αおよびβはそれ
ぞれ入射光I1およびI2成分での反射光Ｒの回折光
D1に対する振幅比である。但し、入射光I1とI2と
が共に円偏光のような対称性の高い場合を除い
て、一般にα≠βである。従つて、検出器３で検
出される光強度のうなりの位相φは、位相遅れ
Δと共に φ＝arctan（α−β）sinΔ／１＋αβ＋（α＋β）c
osΔ……(4) に従つて変化する。よつて、検出光強度のうなり
の位相φを測定することにより、位相遅れΔ、
すなわち入射角Ψを測定できる。
I2の角振動数をそれぞれw1，w2とすると、 Ａ＝A1（１＋αe-i〓）eiw1t＋A2（−i
Δ）eiw2t……(3) となる。ここで、A1，A2はそれぞれ回折光の入
射光I1およびI2成分での振幅、αおよびβはそれ
ぞれ入射光I1およびI2成分での反射光Ｒの回折光
D1に対する振幅比である。但し、入射光I1とI2と
が共に円偏光のような対称性の高い場合を除い
て、一般にα≠βである。従つて、検出器３で検
出される光強度のうなりの位相φは、位相遅れ
Δと共に φ＝arctan（α−β）sinΔ／１＋αβ＋（α＋β）c
osΔ……(4) に従つて変化する。よつて、検出光強度のうなり
の位相φを測定することにより、位相遅れΔ、
すなわち入射角Ψを測定できる。
上記のようなヘテロダイン測定方法を用いるこ
とにより、著しく測定精度を向上させることがで
き、容易に10-5rad以上の精度を得ることができ
る。また、この測定方法は、強度測定に比して、
光源強度や検出器の検出感度のゆらぎ等、外部擾
乱の影響をほとんど受けない点でも極めて優れて
いる。
とにより、著しく測定精度を向上させることがで
き、容易に10-5rad以上の精度を得ることができ
る。また、この測定方法は、強度測定に比して、
光源強度や検出器の検出感度のゆらぎ等、外部擾
乱の影響をほとんど受けない点でも極めて優れて
いる。
また、上記のヘテロダイン測定に必要な２成分
の入射光I1，I2は種々の公知の方法により発生さ
せることができる。例えば、電気光学素子、音響
光学素子、振動鏡、回転1/4波長板、ゼーマン・
レーザ等を用いれば容易に２成分の入射光I1，I2
を発生させることができる。
の入射光I1，I2は種々の公知の方法により発生さ
せることができる。例えば、電気光学素子、音響
光学素子、振動鏡、回転1/4波長板、ゼーマン・
レーザ等を用いれば容易に２成分の入射光I1，I2
を発生させることができる。
また、上述の第３図に示す方法を第２図のよう
な対称的な配置に適用すると、入射光の垂直性の
検出精度を著しく改善できる。この場合に対称的
に得られる２つの合成光U1，U2のうなりの位相
は位相遅れΔに対して互いに逆の依存性を示す。
従つて、合成光U1のうなりの位相φ（U1）と合成
光U2のうなりの位相φ（U2）の差は、上式(4)から φ（U2）−φ（U1）＝2arctan（α−β）s
inΔ／１＋αβ＋（α＋β）cosΔ……(5) となり、測定精度が向上する。また、この方法に
より、極めて高い測定精度を容易に実現できる。
なぜなら、入射角Ψが０の時には、上式(5)から位
相差φ（U2）−φ（U1）が０となり、検出が容易で
あるからである。
な対称的な配置に適用すると、入射光の垂直性の
検出精度を著しく改善できる。この場合に対称的
に得られる２つの合成光U1，U2のうなりの位相
は位相遅れΔに対して互いに逆の依存性を示す。
従つて、合成光U1のうなりの位相φ（U1）と合成
光U2のうなりの位相φ（U2）の差は、上式(4)から φ（U2）−φ（U1）＝2arctan（α−β）s
inΔ／１＋αβ＋（α＋β）cosΔ……(5) となり、測定精度が向上する。また、この方法に
より、極めて高い測定精度を容易に実現できる。
なぜなら、入射角Ψが０の時には、上式(5)から位
相差φ（U2）−φ（U1）が０となり、検出が容易で
あるからである。
以上、本発明の方法を光の入射角度の測定に適
用する場合について述べたが、本発明の方法は、
光以外に、電磁波やその他の波動に一般的に適用
できることは言うまでもない。
用する場合について述べたが、本発明の方法は、
光以外に、電磁波やその他の波動に一般的に適用
できることは言うまでもない。
実際に、次の例について、本発明の測定方法を
用いて測定した結果、光の入射角度を極めて高精
度に測定することができた。
用いて測定した結果、光の入射角度を極めて高精
度に測定することができた。
実施例 １
第１図ｂで示す配置を用い、厚さ400μｍの石
英から成る物体１へのHe−Neレーザ光（波長
632.8nm）Ｉの入射角度Ψを測定した。物体１上
には、厚さ0.25μｍ、幅0.2μｍのタングステン線
を周期0.76μｍで配置して回折格子Ｇを作製した。
この物体１から約60μｍ離してシリコン・ウエハ
を平行に設置し、反射体２として用いた。この
時、回折角θ＝56°の方向に放射される±１次の
回折光から成る合成光Ｕの強度を検出器３として
光電子増倍管を用いて測定し、入射角Ψを測定し
た。合成光Ｕの強度はこの入射角Ψを変化させる
と、ほぼ前述の通りの強度変化を示し、強度を１
％の精度で測定することにより、Ψの測定精度と
して10-4rad以上の値を得た。
英から成る物体１へのHe−Neレーザ光（波長
632.8nm）Ｉの入射角度Ψを測定した。物体１上
には、厚さ0.25μｍ、幅0.2μｍのタングステン線
を周期0.76μｍで配置して回折格子Ｇを作製した。
この物体１から約60μｍ離してシリコン・ウエハ
を平行に設置し、反射体２として用いた。この
時、回折角θ＝56°の方向に放射される±１次の
回折光から成る合成光Ｕの強度を検出器３として
光電子増倍管を用いて測定し、入射角Ψを測定し
た。合成光Ｕの強度はこの入射角Ψを変化させる
と、ほぼ前述の通りの強度変化を示し、強度を１
％の精度で測定することにより、Ψの測定精度と
して10-4rad以上の値を得た。
実施例 ２
さらに、入射光源ＩにHe−Ne横ゼーマン・レ
ーザを用い、第３図に示す本発明の測定方法に従
つてヘテロダイン測定を行うことにより、さらに
高い測定精度を実現できた。この時に用いたゼー
マン・レーザは互いに直交する偏光方向を有し、
２つの周波数のわずかに異なる光I1，I2を発生す
るものであり、その周波数、すなわちうなりの周
波数は344kHzであつた。この時に上述の第３図
の構成で入射角Ψを変化させると、合成光Ｕの強
度のうなりの位相（位相差）は第４図に示すよう
に入射角Ψに対し直線的に変化し、10-4rad／度
の入射角度／位相感度を達成できた。また、この
時の位相測定の精度はほぼ0.2°であり、従つて、
入射角度の測定精度は２×10-5rad（ほぼ0.1秒）
と極めて高い値を実現できた。
ーザを用い、第３図に示す本発明の測定方法に従
つてヘテロダイン測定を行うことにより、さらに
高い測定精度を実現できた。この時に用いたゼー
マン・レーザは互いに直交する偏光方向を有し、
２つの周波数のわずかに異なる光I1，I2を発生す
るものであり、その周波数、すなわちうなりの周
波数は344kHzであつた。この時に上述の第３図
の構成で入射角Ψを変化させると、合成光Ｕの強
度のうなりの位相（位相差）は第４図に示すよう
に入射角Ψに対し直線的に変化し、10-4rad／度
の入射角度／位相感度を達成できた。また、この
時の位相測定の精度はほぼ0.2°であり、従つて、
入射角度の測定精度は２×10-5rad（ほぼ0.1秒）
と極めて高い値を実現できた。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、極めて
簡単な構成で入射角度の測定精度を著しく改善で
きる。
簡単な構成で入射角度の測定精度を著しく改善で
きる。
半導体デバイス製造のための微細加工や検査、
あるいは他の精密機械加工のためにしばしば光学
的な計測法が用いられるが、これらの光学計測で
は、測定精度や確度を確保するために、測定に用
いる光の入射角度を厳密に設定する必要がある。
本発明の測定方法を用いれば、高精度の入射角度
測定が容易に行え、上述のような光学測定に必要
な入射角度の設定を完了できる。また、本発明の
測定方法により基準光に対する物体のなす角度を
高精度に測定できるので、複数個の物体のなす角
度を高精度に算出することもできる。
あるいは他の精密機械加工のためにしばしば光学
的な計測法が用いられるが、これらの光学計測で
は、測定精度や確度を確保するために、測定に用
いる光の入射角度を厳密に設定する必要がある。
本発明の測定方法を用いれば、高精度の入射角度
測定が容易に行え、上述のような光学測定に必要
な入射角度の設定を完了できる。また、本発明の
測定方法により基準光に対する物体のなす角度を
高精度に測定できるので、複数個の物体のなす角
度を高精度に算出することもできる。
第１図ａ，ｂ、第２図〜第３図はそれぞれ本発
明の実施例を示す線図、第４図は本発明の方法の
測定結果を表わす図、第５図ａ，ｂは従来例の説
明図である。 １……物体、２……反射体、３……検出器、４
……偏光子、Ｉ……入射光、D1，D2……回折光、
Ｒ……反射光、U1，U2……合成光、Ｇ……回折
格子、Ψ……入射角、θ……回折角。
明の実施例を示す線図、第４図は本発明の方法の
測定結果を表わす図、第５図ａ，ｂは従来例の説
明図である。 １……物体、２……反射体、３……検出器、４
……偏光子、Ｉ……入射光、D1，D2……回折光、
Ｒ……反射光、U1，U2……合成光、Ｇ……回折
格子、Ψ……入射角、θ……回折角。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 物体への光の入射角度を測定する方法におい
て、前記物体上に回折格子を設け、前記光の前記
回折格子による回折光の内の少なくとも１つの回
折光を反射体で反射させて反射光を得て、該反射
光と少なくとも１つの他の回折光との合成光の強
度を測定することにより前記物体への光の入射角
度を測定することを特徴とする入射角度測定方
法。 ２ 前記反射体が前記回折格子と平行に配設され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の入射角度測定方法。 ３ 前記光が互いに可干渉で周波数と偏光状態の
異なる光の合成光であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の入射角度測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18709387A JPS6431007A (en) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | Measuring method of incident angle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18709387A JPS6431007A (en) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | Measuring method of incident angle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6431007A JPS6431007A (en) | 1989-02-01 |
| JPH0478925B2 true JPH0478925B2 (ja) | 1992-12-14 |
Family
ID=16199983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18709387A Granted JPS6431007A (en) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | Measuring method of incident angle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6431007A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9816941B2 (en) * | 2016-03-28 | 2017-11-14 | Saudi Arabian Oil Company | Systems and methods for constructing and testing composite photonic structures |
| JP7380865B2 (ja) * | 2020-05-19 | 2023-11-15 | 日本電信電話株式会社 | 角度計測装置 |
-
1987
- 1987-07-27 JP JP18709387A patent/JPS6431007A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6431007A (en) | 1989-02-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |