JPH0480330B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0480330B2 JPH0480330B2 JP57034115A JP3411582A JPH0480330B2 JP H0480330 B2 JPH0480330 B2 JP H0480330B2 JP 57034115 A JP57034115 A JP 57034115A JP 3411582 A JP3411582 A JP 3411582A JP H0480330 B2 JPH0480330 B2 JP H0480330B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- achromatic
- aperture
- optical
- optical device
- reflective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/143—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using macroscopically faceted or segmented reflective surfaces
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/20—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
- G01J1/34—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker
- G01J1/36—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker using electric radiation detectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本願発明は一般にビームスプリツタ、特にアク
ロマチツクビームスプリツタ（achromatic
beam Splitter）に関し、このアクロマチツクビ
ームスプリツタから生じたビームは不安定性とは
無関係に予め選択されたエネルギー比を保持す
る。
ロマチツクビームスプリツタ（achromatic
beam Splitter）に関し、このアクロマチツクビ
ームスプリツタから生じたビームは不安定性とは
無関係に予め選択されたエネルギー比を保持す
る。
従来の多くの分析機械は、試料を分析するため
に一般に複光束法として知られる技術を使用す
る。該方法においては、第１のビームは試料を通
過し、第２のビームは公知の特徴を有する対照物
質を通過する。この両方のビームは公知法により
検出され、比較される。そのような比較により、
試料中を通過することにより運び出される該試料
に関する情報は容易に識別され、かつ評価され
る。
に一般に複光束法として知られる技術を使用す
る。該方法においては、第１のビームは試料を通
過し、第２のビームは公知の特徴を有する対照物
質を通過する。この両方のビームは公知法により
検出され、比較される。そのような比較により、
試料中を通過することにより運び出される該試料
に関する情報は容易に識別され、かつ評価され
る。
試料側ビームが与えられた通過長に対してでき
るかぎり僅かな容量のセルを通過することが所望
であるが、一方このことは対照側ビームにとつて
は重要ではないということはしばしば事実であ
る。
るかぎり僅かな容量のセルを通過することが所望
であるが、一方このことは対照側ビームにとつて
は重要ではないということはしばしば事実であ
る。
複光束法において、しばしばアーク灯、又は他
のスペクトル源からの単一ビームを分割し、試料
側ビーム及び対照側ビームとする。従来の単一ビ
ームを分割する方法は、スプリツタが操作する波
長に強く左右されるか、又はビームと光学部材の
相対的な動きによつて影響をうけるか、又は両方
により強く左右される。すなわち、赤外線スペク
トルのような長波長で作動するスプリツタはしば
しば紫外線スペクトルのような短波長で作動しな
い。このことは、光学文献において公知のよう
に、ほとんどの光学部材にとつて透過特性及び反
射特性が波長と共に変わるためである。
のスペクトル源からの単一ビームを分割し、試料
側ビーム及び対照側ビームとする。従来の単一ビ
ームを分割する方法は、スプリツタが操作する波
長に強く左右されるか、又はビームと光学部材の
相対的な動きによつて影響をうけるか、又は両方
により強く左右される。すなわち、赤外線スペク
トルのような長波長で作動するスプリツタはしば
しば紫外線スペクトルのような短波長で作動しな
い。このことは、光学文献において公知のよう
に、ほとんどの光学部材にとつて透過特性及び反
射特性が波長と共に変わるためである。
前記困難を克服するために使用された１つの解
決法は単一ビームの通路に移動チヨツパを設置す
ることにより、かつここを通過するビームを選択
的に対照側ビーム通路又は試料側ビーム通路に偏
向させることによつてである。
決法は単一ビームの通路に移動チヨツパを設置す
ることにより、かつここを通過するビームを選択
的に対照側ビーム通路又は試料側ビーム通路に偏
向させることによつてである。
機械的なチヨツパを使用することの欠点は対照
側ビーム、及び試料側ビームが時間的に間隔を有
するということである。この時間間隔は二本のビ
ームを比較するために必要なデータ処理設備を複
雑にする。更に、チヨツパの使用はチヨツパの適
当でかつ正確な作動のためのむしろ複雑な機械的
及び電気的装置を必要とする。更に、強いシグナ
ルノイズがチヨツパ機構の固有機械誤差により生
じる。
側ビーム、及び試料側ビームが時間的に間隔を有
するということである。この時間間隔は二本のビ
ームを比較するために必要なデータ処理設備を複
雑にする。更に、チヨツパの使用はチヨツパの適
当でかつ正確な作動のためのむしろ複雑な機械的
及び電気的装置を必要とする。更に、強いシグナ
ルノイズがチヨツパ機構の固有機械誤差により生
じる。
従つて、本発明の１つの課題は安定した複光束
型アクロマチツクビームスプリツタを提供するこ
とである。
型アクロマチツクビームスプリツタを提供するこ
とである。
この課題は光エネルギーの予選択比を有する２
つのビームに単一ビームを分割するためのアクロ
マチツク光学装置を使用することによつて、少な
くとも１部達せられる。本発明による装置がアク
ロマチツクであることによる利点は、焦点が波長
毎に変わらないということである。その結果ビー
ム間のエネルギー分割が波長に依存しない。
つのビームに単一ビームを分割するためのアクロ
マチツク光学装置を使用することによつて、少な
くとも１部達せられる。本発明による装置がアク
ロマチツクであることによる利点は、焦点が波長
毎に変わらないということである。その結果ビー
ム間のエネルギー分割が波長に依存しない。
その他の課題及び利点を次の詳細な記載及び図
面により明らかにする。
面により明らかにする。
第１図は本発明の原理を実施する装置の光学図
であり、第２図は第１図に示された機械のビーム
スプリツタ部分の図である。これらの図は一定の
スケールで描かれてはいない。
であり、第２図は第１図に示された機械のビーム
スプリツタ部分の図である。これらの図は一定の
スケールで描かれてはいない。
第１図中に１０として一般的に指示した光学機
械は機械的かつ熱的に安定なアクロマチツクビー
ムスプリツタ１２を包含する。更に、この実施態
様において光学機械は第１光学絞り１４、第１絞
り１４を通過する光をビームスプリツタ１２に方
向付けするトロイダル（toroidal）ミラー１６を
包含する。更に、この実施態様はビームスプリツ
タ１２から放射される生じた対照側ビーム２２及
び試料側ビーム２４のそれぞれの通路に設置され
た対照側検出器１８及び試料側検出器２０を包含
する。以下に、より詳細に記載するように、種々
の部材がビームスプリツタ１２及び検出器１８及
び２０の間で、かつ生じたビーム、２２及び２４
の通路中にそれぞれ挿入されている。
械は機械的かつ熱的に安定なアクロマチツクビー
ムスプリツタ１２を包含する。更に、この実施態
様において光学機械は第１光学絞り１４、第１絞
り１４を通過する光をビームスプリツタ１２に方
向付けするトロイダル（toroidal）ミラー１６を
包含する。更に、この実施態様はビームスプリツ
タ１２から放射される生じた対照側ビーム２２及
び試料側ビーム２４のそれぞれの通路に設置され
た対照側検出器１８及び試料側検出器２０を包含
する。以下に、より詳細に記載するように、種々
の部材がビームスプリツタ１２及び検出器１８及
び２０の間で、かつ生じたビーム、２２及び２４
の通路中にそれぞれ挿入されている。
本発明の１つの実施態様において、第１絞り１
４は、図には図示されていないモノクロメーター
の出口スリツトである。しかし、出口スリツトを
通過する光がモノクロメーター中の回折格子から
放射されていることは明らかである。常用のモノ
クロメーターを通る光はこの中で光学部材によつ
て回折格子の平面に集められる。結果として、回
折格子の面は均一に照らされる、すなわちその平
面において光の強度は同じ、又は均一である。以
下に、より詳細に記載されるように、生じた焦点
面中の均一な照射やアクロマチツクビームスプリ
ツタ１２の機械的及び熱的安定性を増すために該
ビームスプリツタ１２において有利に活用される
光学特性である。
４は、図には図示されていないモノクロメーター
の出口スリツトである。しかし、出口スリツトを
通過する光がモノクロメーター中の回折格子から
放射されていることは明らかである。常用のモノ
クロメーターを通る光はこの中で光学部材によつ
て回折格子の平面に集められる。結果として、回
折格子の面は均一に照らされる、すなわちその平
面において光の強度は同じ、又は均一である。以
下に、より詳細に記載されるように、生じた焦点
面中の均一な照射やアクロマチツクビームスプリ
ツタ１２の機械的及び熱的安定性を増すために該
ビームスプリツタ１２において有利に活用される
光学特性である。
トロイダルミラー１６は第１スリツト１４を通
つて通過するビームの通路に設置されている。有
利に、ミラー１６はその反射面２６が完全に照射
されるように配置されている。ミラー１６はスリ
ツト１４から放射されるビームを実質的に全部ア
クロマチツクビームスプリツタ１２に方向付けす
る。更に、トロイダルミラー１６は回折格子の像
を形成する。ビームスプリツタ１２はそのように
形成される格子像の平面２９内に設置されてい
る。このようにして、ビームスプリツタ１２は均
一に照射される。
つて通過するビームの通路に設置されている。有
利に、ミラー１６はその反射面２６が完全に照射
されるように配置されている。ミラー１６はスリ
ツト１４から放射されるビームを実質的に全部ア
クロマチツクビームスプリツタ１２に方向付けす
る。更に、トロイダルミラー１６は回折格子の像
を形成する。ビームスプリツタ１２はそのように
形成される格子像の平面２９内に設置されてい
る。このようにして、ビームスプリツタ１２は均
一に照射される。
ビームスプリツタ１２は第１のアパーチヤ２８
及び２つの反射光学部材３０及び３５を包含す
る。部材３０は第１のアパーチヤ２８を通るビー
ムを分離し、第１に生じたビーム２２と第２に生
じたビーム２４とし、ビーム２４は同じ入射角度
で部材３５にあたる。有利に第１アパーチヤ２８
は過量に満たされている。すなわちトロイダルミ
ラー１６から反射されるビームの横断面積が全体
のアパーチヤ２８より大であり、円周の部分で重
なつている。こうして通常の又は妥当な不安定性
にさらす時ですら、該不安定性に応じて部材３０
に関してビームが動くといい事実にもかかわら
ず、光学部材３０にあたるビームは均一な照射で
あり、かつ一定の横断面積である。前記の不安定
性とは温度変化による移動又は寸法の変化と同様
に通常の機械的シヨツクを包含する。例えばトロ
イダルミラー１６から反射するビームが約10mmで
あり、最初のアパーチヤ２８が約７mmの開口部３
１を有し、アパーチヤがこれと中心的に一緒にな
つているならば、重なりは不安定性により越えら
れないであろう、言い換えると開口部３１は常に
満たされているのである。
及び２つの反射光学部材３０及び３５を包含す
る。部材３０は第１のアパーチヤ２８を通るビー
ムを分離し、第１に生じたビーム２２と第２に生
じたビーム２４とし、ビーム２４は同じ入射角度
で部材３５にあたる。有利に第１アパーチヤ２８
は過量に満たされている。すなわちトロイダルミ
ラー１６から反射されるビームの横断面積が全体
のアパーチヤ２８より大であり、円周の部分で重
なつている。こうして通常の又は妥当な不安定性
にさらす時ですら、該不安定性に応じて部材３０
に関してビームが動くといい事実にもかかわら
ず、光学部材３０にあたるビームは均一な照射で
あり、かつ一定の横断面積である。前記の不安定
性とは温度変化による移動又は寸法の変化と同様
に通常の機械的シヨツクを包含する。例えばトロ
イダルミラー１６から反射するビームが約10mmで
あり、最初のアパーチヤ２８が約７mmの開口部３
１を有し、アパーチヤがこれと中心的に一緒にな
つているならば、重なりは不安定性により越えら
れないであろう、言い換えると開口部３１は常に
満たされているのである。
アクロマチツク光学部材３０は第１アパーチヤ
２８を通過する光のすべてが部材３０の第１の面
３２上に投射しており、この第１の面３２は部材
３０に関するビームの相対的な動き及びアパーチ
ヤ２８に関する部材３０の動きを許容するための
マージンを有するように配置されている。光学部
材３０はこれを貫通する第２のアパーチヤ３４を
包含しており、この第２のアパーチヤのサイズは
以下に十分に記載されているが、第２のアパーチ
ヤは部材３０の表面上の照射の範囲内に完全に、
部材２８に関して部材３０の相対的移動を許容す
るマージンを有して存在する。第１の面３２は実
質的に完全に反射性であり、試料側ビーム２４中
にもう１つの反射面を導入することにより、この
系はアクロマチツクであり、そのような反射面は
公知技術により部材３０上に光沢のある反射コー
チング、例えば銀又はアルミニウムを施こすこと
により形成することができる。この配置におい
て、光学部材３０上に投射した光の一部は第２の
アパーチヤ３４を通過し、試料側ビーム２４を形
成し、このビームは部材３５に関しビームの相対
的な移動を許容するマージンを有する部材３５の
反射域内に完全に落ちる。部材３０上に投射され
た光の残りは第１の面３２において反射され対照
側ビーム２２を形成する。
２８を通過する光のすべてが部材３０の第１の面
３２上に投射しており、この第１の面３２は部材
３０に関するビームの相対的な動き及びアパーチ
ヤ２８に関する部材３０の動きを許容するための
マージンを有するように配置されている。光学部
材３０はこれを貫通する第２のアパーチヤ３４を
包含しており、この第２のアパーチヤのサイズは
以下に十分に記載されているが、第２のアパーチ
ヤは部材３０の表面上の照射の範囲内に完全に、
部材２８に関して部材３０の相対的移動を許容す
るマージンを有して存在する。第１の面３２は実
質的に完全に反射性であり、試料側ビーム２４中
にもう１つの反射面を導入することにより、この
系はアクロマチツクであり、そのような反射面は
公知技術により部材３０上に光沢のある反射コー
チング、例えば銀又はアルミニウムを施こすこと
により形成することができる。この配置におい
て、光学部材３０上に投射した光の一部は第２の
アパーチヤ３４を通過し、試料側ビーム２４を形
成し、このビームは部材３５に関しビームの相対
的な移動を許容するマージンを有する部材３５の
反射域内に完全に落ちる。部材３０上に投射され
た光の残りは第１の面３２において反射され対照
側ビーム２２を形成する。
２本の生じたビーム２２及び２４間の相対光エ
ネルギーは第１の面３２上に投射した光の総量に
対する第２のアパーチヤ３４の相対的なサイズに
より決定される。有利に、もし最初のアパーチヤ
２８および光学部材３０が加能な限り接近して位
置しているならば、生じた２本のビーム２２及び
２４の光エネルギーはそれぞれ第１及び第２アパ
ーチヤ２８及び３４の面積比とほぼ等しい。有利
に、２８及び３４の面積は光エネルギー比１が得
られるようにされている、言い換えると生じたビ
ーム２２及び２４における光エネルギーは等し
い。
ネルギーは第１の面３２上に投射した光の総量に
対する第２のアパーチヤ３４の相対的なサイズに
より決定される。有利に、もし最初のアパーチヤ
２８および光学部材３０が加能な限り接近して位
置しているならば、生じた２本のビーム２２及び
２４の光エネルギーはそれぞれ第１及び第２アパ
ーチヤ２８及び３４の面積比とほぼ等しい。有利
に、２８及び３４の面積は光エネルギー比１が得
られるようにされている、言い換えると生じたビ
ーム２２及び２４における光エネルギーは等し
い。
更に、．この形状の重要な結果は、部材３０中
のアパーチヤ３４の形が楕円であり、その試料側
ビーム２４の伝播方向に垂直な面での横断面がほ
ぼ円形であるならば、結合したビームの全面積
は、試料側ビームが支えられた通路長に対しでき
るだけ僅かな容量を有する試料セルを軸方向に通
過するように試料側ビーム及び対照側ビームに分
割されているという事である。トロイダルミラー
１６、第１の面３２及び部材３５は図面に示され
て居るように単一表面反射光学部材である。結果
としてビームスプリツタ１２はここに入射する光
の波長に無関係にアクロマチツクである。
のアパーチヤ３４の形が楕円であり、その試料側
ビーム２４の伝播方向に垂直な面での横断面がほ
ぼ円形であるならば、結合したビームの全面積
は、試料側ビームが支えられた通路長に対しでき
るだけ僅かな容量を有する試料セルを軸方向に通
過するように試料側ビーム及び対照側ビームに分
割されているという事である。トロイダルミラー
１６、第１の面３２及び部材３５は図面に示され
て居るように単一表面反射光学部材である。結果
としてビームスプリツタ１２はここに入射する光
の波長に無関係にアクロマチツクである。
アクロマチツクビームスプリツタ１２の実施態
様を行なうために第１アパーチヤ２８及び光学部
材３０を相互にきわめて接近して設置する場合両
者間のビームの広がりは実質上無視することがで
きるということは知られている。更に、アクロマ
チツクビームスプリツタ１２を格子の像平面２９
中に設置する場合に、第１アパーチヤ２８及び光
学部材３０は均一に照射されている。更に、第２
アパーチヤ３４の中心を第１アパーチヤ２８と軸
方向に一直線にし、かつ部材３０を第１アパーチ
ヤ２８より大きく作る場合、生じたビームのエネ
ルギー比は実質的な不安定性にかかわらず一定で
ある。
様を行なうために第１アパーチヤ２８及び光学部
材３０を相互にきわめて接近して設置する場合両
者間のビームの広がりは実質上無視することがで
きるということは知られている。更に、アクロマ
チツクビームスプリツタ１２を格子の像平面２９
中に設置する場合に、第１アパーチヤ２８及び光
学部材３０は均一に照射されている。更に、第２
アパーチヤ３４の中心を第１アパーチヤ２８と軸
方向に一直線にし、かつ部材３０を第１アパーチ
ヤ２８より大きく作る場合、生じたビームのエネ
ルギー比は実質的な不安定性にかかわらず一定で
ある。
第２図に詳細に示されている実施態様の１つに
おいては、光学部材３０は縦横約３cmに約２cmの
サイズを有する長四角の形である。第２アパーチ
ヤ３４は楕円形であり約3.7mmの平均直径を有す
る。部材３０上へのビームの入射角は45゜である。
試料側ビーム２４の横断面は円形であり、最少容
量の円筒形セルを通過することができる：例えば
約６mmの長さに対して約9.2μである。第１及び
第２アパーチヤ２８及び３４の中心間を測定する
時、部材３０は第１アパーチヤ２８から約9.5mm
離れて置かれている。生じた対照側ビーム２２、
光学部材３０及び第１アパーチヤ２８は約45゜の
角度をそれらの間に有するように配置されてい
る。ビームスプリツタ１２の現実の物理的組み立
てはアパーチヤ２８及び部材３０をそれぞれの位
置に固定することによるような公知技術により完
成される。選択的に、ビームスプリツタ１２は固
定されたフレームに組み立てることもできる。
おいては、光学部材３０は縦横約３cmに約２cmの
サイズを有する長四角の形である。第２アパーチ
ヤ３４は楕円形であり約3.7mmの平均直径を有す
る。部材３０上へのビームの入射角は45゜である。
試料側ビーム２４の横断面は円形であり、最少容
量の円筒形セルを通過することができる：例えば
約６mmの長さに対して約9.2μである。第１及び
第２アパーチヤ２８及び３４の中心間を測定する
時、部材３０は第１アパーチヤ２８から約9.5mm
離れて置かれている。生じた対照側ビーム２２、
光学部材３０及び第１アパーチヤ２８は約45゜の
角度をそれらの間に有するように配置されてい
る。ビームスプリツタ１２の現実の物理的組み立
てはアパーチヤ２８及び部材３０をそれぞれの位
置に固定することによるような公知技術により完
成される。選択的に、ビームスプリツタ１２は固
定されたフレームに組み立てることもできる。
有利な実施態様において、ミラー３５は部材３
０と同じ入射角で試料ビーム２４の通路に置かれ
ている。結果として、生じたビーム２２及び２４
の光学反射の数は等しくされている。その様な均
等化は機械１０がアクロマチツクであるというこ
とを確実にする。
０と同じ入射角で試料ビーム２４の通路に置かれ
ている。結果として、生じたビーム２２及び２４
の光学反射の数は等しくされている。その様な均
等化は機械１０がアクロマチツクであるというこ
とを確実にする。
第１図に示すように、対照側ビーム２２及び試
料側ビーム２４はスリツト１４の像をそれぞれ部
材３０を越えて有効距離‘d'で平面３８及び３９
に形成する。すなわち有効距離“ｄ”とは一方で
はトロイダルミラー１６の中心点から光学部材３
０の中心を経て像面３８の中心までの距離であり
他方ではトロイダルミラー１６の中心点から光学
部材３０の中心を通り、光学部材３５の中心点を
経て像面３９の中心までの距離である。均一の照
射の最大な利点を得るために、分析される試料を
含有する試料セル３６はこの試料セルの中心が像
面３８及び３９に位置するように置かれる。スリ
ツト１４の像を像面３８に形成した後に、ビーム
２２及び２４を、レンズのような公知光学部材４
０を用いて対照側検出器１８及び試料側検出器２
０上に集める。装置１０により特に利益を得る吸
収液体クロマトグラフイー測定装置を作る技術の
１つはインダストリアル・リサーチ・アンド・デ
ベロツプメント（Industrial Reseach ＆
Development）1981年２月号P147〜153中のA.F.
Poile，R.D.Conlon及びL.S.Ettre著の“ニユーテ
クニツクスウイズUVデテクターズエイドフユ
ル・HPLCユーズ（New Techniques with UV
detectors aid full HPLC use）”と名付けられ
た論文中に記載されている。
料側ビーム２４はスリツト１４の像をそれぞれ部
材３０を越えて有効距離‘d'で平面３８及び３９
に形成する。すなわち有効距離“ｄ”とは一方で
はトロイダルミラー１６の中心点から光学部材３
０の中心を経て像面３８の中心までの距離であり
他方ではトロイダルミラー１６の中心点から光学
部材３０の中心を通り、光学部材３５の中心点を
経て像面３９の中心までの距離である。均一の照
射の最大な利点を得るために、分析される試料を
含有する試料セル３６はこの試料セルの中心が像
面３８及び３９に位置するように置かれる。スリ
ツト１４の像を像面３８に形成した後に、ビーム
２２及び２４を、レンズのような公知光学部材４
０を用いて対照側検出器１８及び試料側検出器２
０上に集める。装置１０により特に利益を得る吸
収液体クロマトグラフイー測定装置を作る技術の
１つはインダストリアル・リサーチ・アンド・デ
ベロツプメント（Industrial Reseach ＆
Development）1981年２月号P147〜153中のA.F.
Poile，R.D.Conlon及びL.S.Ettre著の“ニユーテ
クニツクスウイズUVデテクターズエイドフユ
ル・HPLCユーズ（New Techniques with UV
detectors aid full HPLC use）”と名付けられ
た論文中に記載されている。
本発明はここで特別な実施態様に関して記載し
ているが、この記載は例として挙げたものであ
り、本発明はこれにより限定されるものではな
い。
ているが、この記載は例として挙げたものであ
り、本発明はこれにより限定されるものではな
い。
第１図は本発明の原理を実施する装置の光学図
であり、第２図は第１図に示された機械のビーム
スプリツタ部分の図である。これらの図は一定の
スケールで描かれてはいない。 １０……光学機械、１２……アクロマチツクビ
ームスプリツタ、１４……第１絞り、１６……ト
ロイダルミラー、１８……対照側検出器、２０…
…試料側検出器、２２……対照側ビーム、２４…
…試料側ビーム、２６……反射面、２８……第１
アパーチヤ、２９……回折格子像平面、３０……
光学部材、３１……開口部、３２……面、３４…
…第２アパーチヤ、３５……光学部材、３６……
試料セル、３８，３９……像面、４０……光学部
材。
であり、第２図は第１図に示された機械のビーム
スプリツタ部分の図である。これらの図は一定の
スケールで描かれてはいない。 １０……光学機械、１２……アクロマチツクビ
ームスプリツタ、１４……第１絞り、１６……ト
ロイダルミラー、１８……対照側検出器、２０…
…試料側検出器、２２……対照側ビーム、２４…
…試料側ビーム、２６……反射面、２８……第１
アパーチヤ、２９……回折格子像平面、３０……
光学部材、３１……開口部、３２……面、３４…
…第２アパーチヤ、３５……光学部材、３６……
試料セル、３８，３９……像面、４０……光学部
材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１光学部材と、該第１光学部材上にビーム
を方向付けるための単一反射アクロマチツク装置
と、第一表面反射アクロマチツク光学装置とから
構成されており、 前記第１光学部材はこれを貫通して第１アパー
チヤを有し、かつ該アパーチヤはこれを光源から
のビームの通路中に設置する時光学絞りとして作
用するように設けられており； 前記第１光学部材上にビームを方向付けるため
の単一反射アクロマチツク装置である焦点を結ぶ
機能を有する単一表面反射方向付け装置は前記第
１光学部材上にビームを方向付け、該ビームが第
１アパーチヤを均一に照射し、該アパーチヤより
広い範囲を満たして、機械的不安定性に依存しな
いように配置されており；かつ 前記第一表面反射アクロマチツク光学装置はこ
れを貫通して第２アパーチヤを有し、第１光学部
材を通過するビームのすべてを受光し、受光した
ビームを２つのビームに分割する位置に設けられ
ており、生じた一方のビームは該単一表面反射ア
クロマチツク光学装置の単一反射表面において反
射される部分である対照側ビームであり、生じた
他方のビームは該光学装置の第２アパーチヤの通
過する部分である試料側ビームであり、かつ該光
学装置はビーム間の光エネギーの一定に予選択さ
れた比を保持するように設置されている； ことを特徴とする複光束型アクロマチツクビーム
スプリツタ。 ２ 該２本のビームのエネルギー比は１に等しい
特許請求の範囲第１項記載の複光束型アクロマチ
ツクビームスプリツタ。 ３ 第１光学部材と、該第１光学部材上にビーム
を方向付けるための単一反射アクロマチツク装置
と、単一表面反射アクロマチツク光学装置と、反
射面とから構成されており、 前記第１光学部材はこれを貫通して第１アパー
チヤを有し、かつ該アパーチヤはこれを光源から
のビームの通路中に設置する時光学絞りとして作
用するように設けられており； 前記第１光学部材上にビームを方向付けるため
の単一反射アクロマチツク装置である焦点を結ぶ
機能を有する単一表面反射方向付け装置は前記第
１光学部材上にビームを方向付け、該ビームが第
１アパーチヤを均一に照射し、該アパーチヤより
広い範囲を満たして、機械的不安定性に依存しな
いように配置されており：かつ 前記単一表面反射アクロマチツク光学装置はこ
れを貫通して第２アパーチヤを有し、第１光学部
材を通過するビームのすべてを受光し、受光した
ビームを２つのビームに分割する位置に設けられ
ており、生じた一方のビームは該単一表面反射ア
クロマチツク光学装置の単一反射表面において反
射される部分である対照側ビームであり、生じた
他方のビームは該光学装置の第２アパーチヤを通
過する部分である試料側ビームであり、かつ該光
学装置はビーム間の光エネギーの一定に予選択さ
れた比を保持するように設置されており、かつ前
記反射面は生じた他方の試料側ビームの通路中に
設けられている； ことを特徴とする複光束型アクロマチツクビーム
スプリツタ。 ４ 単一表面反射アクロマチツク光学装置上にあ
たる光の面積と第２アパーチヤの面積の比がエネ
ルギーの予選択した比に等しい特許請求の範囲第
３項記載の複光束型アクロマチツクビームスプリ
ツタ。 ５ 該光学装置の第２アパーチヤは楕円であり、
該光学装置は第１部材に関して該光学装置のその
第２アパーチヤが実際上円であるように設置され
ており、これにより該ビームの他方の試料側ビー
ムはビーム伝搬方向に直角をなす円横断面を有す
る特許請求の範囲第３項又は第４項記載の複光束
型アクロマチツクビームスプリツタ。 ６ 該２本のビームのエネルギー比は１に等しい
特許請求の範囲第３項又は第４項記載の複光束型
アクロマチツクビームスプリツタ。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US24134981A | 1981-03-06 | 1981-03-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57161519A JPS57161519A (en) | 1982-10-05 |
| JPH0480330B2 true JPH0480330B2 (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=22910362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3411582A Granted JPS57161519A (en) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Achromatic beam splitter |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0059836B1 (ja) |
| JP (1) | JPS57161519A (ja) |
| DE (1) | DE3265493D1 (ja) |
| IE (1) | IE53138B1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5969979A (ja) * | 1982-10-15 | 1984-04-20 | Hitachi Ltd | レ−ザ光源装置 |
| IT1165499B (it) * | 1983-12-20 | 1987-04-22 | Alfa Romeo Auto Spa | Sisteam per la composizione flessibile di fasci laser |
| JPH02240532A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-25 | Shimadzu Corp | 分光光度計 |
| DE3917198A1 (de) * | 1989-05-26 | 1990-11-29 | Arnold & Richter Kg | Strahlenteiler zur teilung eines optischen strahlenganges |
| DE3917200A1 (de) * | 1989-05-26 | 1990-11-29 | Arnold & Richter Kg | Sucheranordnung fuer optische geraete |
| JP2775622B2 (ja) * | 1994-09-20 | 1998-07-16 | 日本植生株式会社 | 植生マット |
| US7019235B2 (en) | 2003-01-13 | 2006-03-28 | Agilent Technologies, Inc. | Photoimaged channel plate for a switch |
| FR3021762B1 (fr) * | 2014-06-02 | 2017-09-15 | Schneider Electric Ind Sas | Systeme de detection |
| WO2018003045A1 (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-04 | 株式会社島津製作所 | アパーチャ機能を有するビームスプリッタ及びそのビームスプリッタを備えた検出器 |
| JP2022167122A (ja) * | 2021-04-22 | 2022-11-04 | 京セラ株式会社 | 電磁波検出装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR483761A (fr) * | 1916-02-11 | 1917-08-08 | Percy Douglas Brewster | Perfectionnements dans les dispositifs à dédoubler la lumière |
| US2479309A (en) * | 1946-06-04 | 1949-08-16 | Cave-Browne-Cave Genille | Magnetic stabilizer |
| FR1492304A (fr) * | 1966-07-08 | 1967-08-18 | Centre Nat Rech Scient | Perfectionnements apportés aux dispositifs de séparation des faisceaux optiques et application de ces dispositifs à l'établissement de spectrophotomètres d'absorption pour l'ultraviolet lointain |
| US3582664A (en) * | 1968-01-15 | 1971-06-01 | Jiri Hrdina | Compensated photoelectric measurement of fluids |
| DE6912584U (de) * | 1969-03-28 | 1971-01-14 | Sick Erwin | Optisches zweistrahlmessgeraet |
| JPS5295425U (ja) * | 1976-01-14 | 1977-07-16 |
-
1982
- 1982-01-28 IE IE19382A patent/IE53138B1/en unknown
- 1982-01-29 EP EP19820100648 patent/EP0059836B1/en not_active Expired
- 1982-01-29 DE DE8282100648T patent/DE3265493D1/de not_active Expired
- 1982-03-05 JP JP3411582A patent/JPS57161519A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0059836A1 (en) | 1982-09-15 |
| DE3265493D1 (en) | 1985-09-26 |
| EP0059836B1 (en) | 1985-08-21 |
| IE820193L (en) | 1982-09-06 |
| JPS57161519A (en) | 1982-10-05 |
| IE53138B1 (en) | 1988-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10501071A (ja) | 毛管内容物のラマン散乱を使用する自動化される光学アラインメント装置及び方法 | |
| US4540281A (en) | Double-beam spectrophotometer | |
| US4479058A (en) | Auxiliary unit for carrying out reflection measurements using an IR spectrometer | |
| US4487477A (en) | Optical beam splitter | |
| US4795262A (en) | Liquid chromatography absorbance detector | |
| US4740082A (en) | Spectrophotometer | |
| US4211486A (en) | Spectrophotometer | |
| JP4581118B2 (ja) | 顕微鏡の照射光路における物体光の波長または波長領域を調整して集束化するための光学配置を有する顕微鏡 | |
| US4875773A (en) | Optical system for a multidetector array spectrograph | |
| US3437411A (en) | Optical null spectrophotometer | |
| JPH0480330B2 (ja) | ||
| US4082458A (en) | Densitometer | |
| EP0213790B1 (en) | Optical analytical instrument | |
| WO1996028748A3 (de) | Optisches system mit grossen messbereichen | |
| US3972618A (en) | Interferometer for testing materials of different sizes | |
| US4676652A (en) | Multiple pass optical system | |
| JPH049464B2 (ja) | ||
| JPS59164945A (ja) | 光学分析計器 | |
| JPH01291130A (ja) | フォトグラフィックデータ測定装置用測定ヘッド | |
| US4140399A (en) | Monochromator for simultaneous selection and utilization of two wave-lengths | |
| JP3871415B2 (ja) | 分光透過率測定装置 | |
| US4391523A (en) | Scannable detector system for echelle grating spectrometers | |
| KR20020013061A (ko) | 다중 슬릿을 이용한 분광 측정 방법과 이를 이용한 다중채널 분광기 | |
| JP2002372456A (ja) | 赤外分光光度計 | |
| US4273446A (en) | Light spot position sensor for a wavefront sampling system |