JPH0480523B2 - - Google Patents

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JPH0480523B2
JPH0480523B2 JP56142252A JP14225281A JPH0480523B2 JP H0480523 B2 JPH0480523 B2 JP H0480523B2 JP 56142252 A JP56142252 A JP 56142252A JP 14225281 A JP14225281 A JP 14225281A JP H0480523 B2 JPH0480523 B2 JP H0480523B2
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JP
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ribbon
iron loss
magnetic
amorphous
magnetic core
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JP56142252A
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JPS5844702A (ja
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Senji Shimanuki
Michio Hasegawa
Tadahiko Kobayashi
Koichiro Inomata
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/12Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
    • H01F1/14Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
    • H01F1/147Alloys characterised by their composition
    • H01F1/153Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
    • H01F1/15341Preparation processes therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Soft Magnetic Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は電磁気装置に用いて有効な低損失非晶
質磁性合金の磁心に関し、更に詳しくは、高周波
領域(10KHz〜200KHz)で鉄損が著しく小さく
スイツチングレギユレータなどに好適な高周波用
磁心に関する。 従来から、スイツチングレギユレータなど高周
波で使用する磁心としては、パーマロイ、フエラ
イトなどの結晶質材料が用いられている。 しかしながら、パーマロイは比抵抗が小さいの
で高周波での鉄損が大きくなる。また、フエライ
トは高周波で損失は小さいが、磁束密度もせいぜ
い5000Gと小さく、そのため、大きな動作磁束密
度での使用時にあつては、飽和に近くなりその結
果鉄損が増大する。近時、スイツチングレギユレ
ータに使用される電源トランスなど高周波で使用
されるトランスにおいては、形状の小型化が望ま
れているが、その場合、動作磁束密度の増大が必
要となるため、フエライトの鉄損増大は実用上大
きな問題となる。 一方、結晶構造を待たない非晶質磁性合金は、
高透磁率、低保磁力など優れた軟質磁性特性を示
すので最近注目を集めている。これらの非晶質磁
性合金は、Fe、Co、Niなどを基本とし、これに
非晶質化元素(メタロイド)としてP、C、B、
Si、Al、Geなどを包含するものである。 しかしながら、これら非晶質磁性合金の全てが
高周波領域で鉄損が小さいというわけではない。
例えば、Fe系非晶質合金は、50〜60Hzの低周波
領域ではケイ素鋼の約1/4という非常に小さい鉄
損を示すが、1KHz以上の高周波領域になると著
しく大きな鉄損を示し、とてもスイツチングレギ
ユレータ等の高周波領域での使用に適合するもの
ではない。これは、動作周波数の2乗に比例する
渦電流損失に基づく現象である。そのため、非晶
質磁性合金の薄帯を磁心として1KHz以上の高周
波領域で使用する場合には、一般に、該薄帯の厚
みを30μm以下に調整することが必要である。 他方、非晶質磁性合金の薄帯は、通常、石英な
どの耐熱容器の中で溶融した所定組成の溶融合金
を該合金にガス圧を加えることによつて、該容器
先端のノズルから高速回転する金属製の単ロール
又は双ロールの回転面に噴出して急冷する溶湯急
冷法で作製されている。しかしながら、このよう
にして作製された薄帯の表面には微細な凹凸が存
在し、その凹凸の状態によつては高周波領域での
鉄損が増大したり、また、占積率が著しく小さく
なるなどの実用面における不都合を招くことがあ
つた。 本発明者らは、高周波領域、とりわけ10〜
200KHzの高周波領域における非晶質磁性合金の
薄帯の表面凹凸状態(表面粗さ)と鉄損の関係に
ついて鋭意研究を重ねた結果、該薄帯の厚み最大
値と厚み平均値とから算出して表示される表面粗
さが所定の値の範囲にあるとき、また、厚み最大
値が所定の範囲にあるときその鉄損が小さくなる
との事実を見出し本発明を完成するに到つた。 本発明は、高周波領域において鉄損が著しく小
さい高周波用磁心を提供することに目的がある。 本発明は、溶湯急冷後の状態での表面粗さが 式:(t−)/t≦0.30 [式中、t、はそれぞれ該薄帯の厚みの最大
値、厚み平均値を表わし、かつ、は 式:W/d・l・ρ (ただし、W、d、l、ρはそれぞれ該薄帯の重
量、幅、長さ、密度を表わす。) として表わされる。] を満足する非晶質磁性合金薄帯からなることを特
徴とする高周波用磁心である。 本発明の磁心において、それを構成する非晶質
磁性合金は一般にM100-zNzの組成式で表わされ
る。ここで、MはFe、Co、Niのうちの少なくと
も1種の元素であり、その一部は、Ti、V、Cr、
Mn.Co、Zr、Nb、Mo、Ta、Wの群から選ばれ
る少くとも1種の元素で1〜10原子%置換されて
いてもよい。NはP、C、B、Si、Al、Geなど
のメタロイドの少くとも1種の元素であり、Zは
15<Z<30を満足する数である。特に磁束密度
7KG以下のCo基非晶質磁性合金を用いると効果
が大きい。 このような非晶質磁性合金は、上記したM、N
の各成分を所定の割合いで混合した後、溶融し、
これを溶湯急冷法などの方法によつて非晶質磁性
合金化し、ついで無磁場中で所定の温度(例え
ば、400〜450℃)に加熱処置して容易に作製する
ことができる。上記式におけるtは該薄帯に関す
る実測値として求められ、は該薄帯の重量、
幅、長さ、密度をそれぞれW、d、l、ρとした
ときに、=W/d・l・ρの式から算出される
計算値である。 この(t−)/tの値が0.30を超えると該薄
帯の表面凹凸の状態が顕著になり(表面が粗くな
り)、高周波領域での鉄損が著しく大きくなつて
使用に適さなくなる。さらに0.30を越えると角形
比も低下してしまう。 また、該薄帯にあつて、厚み最大値(t)が
5μm未満の場合には、得られた磁心の巻回時にお
つて層間絶縁体を大量に必要とするためその占積
率が著しく低下し実用的でなくなる。更に、tが
30μmを超えると表面粗さに関係なく高周波領域
における鉄損が著しく増大する。したがつて、本
発明の磁心にあつては、その薄帯の厚み最大値が
5μm≦t≦30μmの範囲に設定することが好まし
い。 本発明の磁心は、10〜200KHzの動作周波数に
あつて特に鉄損を小さくして有効である。 本発明の磁心を構成する薄帯の厚み最大値は、
溶湯急冷法にあつては、ロールの回転数、溶融合
金をノズルから噴出するときに該溶融合金に印加
するガス圧などを調整し、また、表面粗さは更に
ノズルとロールとの間隔を0.1〜0.5mmの範囲内で
調整することによつて適宜な値にすることができ
る。 ただし本願発明においては溶湯急冷後の状態で
上記条件を満たすことが重要であり、研磨処理な
どでこの条件を満たしたても本願発明の磁気特性
の向上効果は達成できない。これは溶湯急冷で作
製した非晶質磁性合金薄帯表面に存在する微小な
凹凸が、研磨処理ではなくなつてしまい、本願発
明の如く、溶湯急冷後の状態で上記条件を満たす
ようにした場合とでは、非晶質磁性合金薄帯表面
の状態が微妙に異なるためと考えられる。また研
磨処置は非晶質磁性合金薄帯に歪みを導入するこ
とになり、これも磁気特性上好ましいことではな
い。 以下に、本発明を実施例に基づいて説明する。 実施例 1 表に示した各種組成の非晶質磁性合金の薄帯を
溶湯急冷法で作製した。すなわち、高速回転する
単ロールの上に石英管ノズルから各種組成の溶融
合金をアルゴンガス圧で噴出せしめて急冷し、幅
5mm、長さ100mの薄帯試料を作製した。このと
き、ロール回転数、ガス圧、ノズルとロール間の
距離を種々に変動せしめて、厚み最大値、表面粗
さを変化させた。 薄帯試料から長さ14mを切り取り、それを直径
20mmのアルミナ製ポビンに巻きつけ、全体を400
℃で15分間熱処理した後、内径20mm、外径30mmの
プラスチツクケースに入れて1次コイル、2次コ
イルとしてともに70回巻き、ワツトメータを用い
て磁束密度(Bm)3KG、周波数20KHz、100KHz
における鉄損を測定した。また薄帯試料の飽和磁
束密度を試料振動形磁力計を用いて測定した。結
果を一括して表に示した。
【表】 表から明らかなように、本発明にかかる薄帯試
料(試料番号1〜6)は、比較例薄帯試料(試料
番号7、8)に比べ、磁束密度3KG、周波数20K
Hz、100KHzにおける鉄損が著しく小さいことが
判明した。 実施例 2 組成(Fe0.6Ni0.278Si8B14の非晶質磁性合金の
薄帯から成り、表面粗さを種々に変化させた磁心
について、磁束密度3KG、周波数20KHz、100K
Hzにおける鉄損を測定した。その結果を、表面粗
さの関係として図に示した。図から明らかなよう
に、表面粗さが、0.30を超えると鉄損が急激に増
大することが判明した。 組成(Co0.94Fe0.0671(Si0.6B0.429の非晶質磁

合金(磁束密度6.1KG)を単ロール法にて作成し
た。なお板厚18μm、幅10mmを基準とし、表面性
を変化させた。 この非晶質磁性合金リボンを巻回し、外径18
mm、内径12mmのトロイダルコアを成形した。次に
キユリー温度以上、結晶化温度以下の最適温度で
熱処置した後、4℃/minで冷却した。 得られたコアに1次及び2次巻線を施し、1Oe
の外部磁場を印加して交流磁化測定装置を用いて
周波数100KHzにおけるヒステリシス曲線を測定
し、角形比Br/B1(Br;残留磁束密度、B1:1Oe
における磁束密度)を求めた。その結果を第2図
として示す。 以上説明したように、本発明の非晶質磁性合金
の薄帯から成る磁心は、高周波領域での鉄損が著
しく小さくなり、したがつて、高周波トランスな
どの小型形状化を可能とするのでその工業的価値
は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、組成(Fe0.6Ni0.278Si8B14の非晶質
磁性合金から成る磁心の表面粗さとBm=3KG、
f=20KHz、100KHzにおける鉄損との関係図、
第2図は(Co0.94Fe0.0671(Si0.6B0.429の特性図

ある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 溶湯急冷手段のみにより製造され、 式:(t−)/t≦0.30 [式中、t、はそれぞれ薄帯の厚みの最大値、
    厚みの平均値を表わし、かつ、は 式:W/d・l・ρ (ただし、W、d、l、ρはそれぞれ該薄帯の重
    量、幅、長さ、密度を表わす。) として表わされる。] を満たす表面粗さの非晶質磁性合金薄帯を用いた
    ことを特徴とする高周波用磁心。 2 tが5μm≦t≦30μmを満足する厚みである
    特許請求の範囲第1項記載の高周波用磁心。
JP56142252A 1981-09-11 1981-09-11 高周波用非晶質磁性合金の磁心 Granted JPS5844702A (ja)

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