JPH0482751A - Thermal head and manufacture thereof - Google Patents
Thermal head and manufacture thereofInfo
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- JPH0482751A JPH0482751A JP2197513A JP19751390A JPH0482751A JP H0482751 A JPH0482751 A JP H0482751A JP 2197513 A JP2197513 A JP 2197513A JP 19751390 A JP19751390 A JP 19751390A JP H0482751 A JPH0482751 A JP H0482751A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
A1発明の目的
(1)産業上の利用分野
本発明は、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ
等の出力装置としてのサーマルプリンタやファクシミリ
等に使用されるサーマルへ・ンドおよびその製造方法に
関する。Detailed Description of the Invention A1 Purpose of the Invention (1) Industrial Field of Application The present invention relates to a thermal printer used in a thermal printer, facsimile, etc. as an output device for a word processor, personal computer, etc., and a method for manufacturing the same. Regarding.
(2) 従来の技術
サーマルヘッドは、印刷時の騒音が小さく、また、現像
・定着工程が不要なために取り扱いが容易である等の利
点を有しており、従来より広く使用されている。そして
、従来のサーマルヘッドとして、第16図に示すサーマ
ルヘッドH′が知られている。(2) Conventional technology Thermal heads have been widely used since they have advantages such as low noise during printing and ease of handling since no developing and fixing steps are required. A thermal head H' shown in FIG. 16 is known as a conventional thermal head.
第16図において、プラテンローラRの外周に沿って搬
送される感熱記録紙Pに熱記録を行うためのサーマルヘ
ッドH′は、支持板01を備えている。この支持板01
の上面には、第16図中、右側部分に、基板本体02a
および部分グレーズ02bを有する絶縁基板02が張付
けられている。In FIG. 16, a thermal head H' for performing thermal recording on a thermal recording paper P conveyed along the outer periphery of a platen roller R is provided with a support plate 01. This support plate 01
On the upper surface of the board body 02a, on the right side in FIG.
And an insulating substrate 02 having a partial glaze 02b is attached.
前記部分グレーズ02bは主走査方向X(紙面に垂直な
方向)に延びている。前記絶縁基板02表面には共通型
Vi!03および複数の個別!ff104が形成されて
おり、共通電極03および複数の個別電極04は前記部
分グレーズ02a表面に形成された複数の発熱抵抗体0
5によって接続されている。そして、前記電極03,0
4および発熱抵抗体05等は耐摩耗層06によって被覆
され、その耐摩耗層06の前記発熱抵抗体05を被覆す
る部分の表面は印字部06aとして使用される。前記支
持板01上面の左側部分にはプリント配線基板07が接
着され、このプリント配線基板07の表面には接続用配
線08が形成されている。この接続用配線08はリード
ピン09を介してソケット010の端子に接続されてい
る。前記プリント配線基板07の前記絶縁基板02に近
い部分にはICが配設されており、このICはワイヤ0
11および012によってプリント配線基板07の接続
用配線08および絶縁基板02表面の個別電極04と接
続されている。前記ICおよびワイヤ011 、.01
2は樹脂013によって封止されるとともに、カバー0
14によって保護されている。The partial glaze 02b extends in the main scanning direction X (direction perpendicular to the paper surface). A common type Vi! is formed on the surface of the insulating substrate 02. 03 and multiple individual! ff104 is formed, and the common electrode 03 and the plurality of individual electrodes 04 are connected to the plurality of heating resistors 0 formed on the surface of the partial glaze 02a.
Connected by 5. Then, the electrodes 03,0
4, the heating resistor 05, etc. are covered with a wear-resistant layer 06, and the surface of the portion of the wear-resistant layer 06 that covers the heating resistor 05 is used as a printed portion 06a. A printed wiring board 07 is adhered to the left side portion of the upper surface of the support plate 01, and connection wiring 08 is formed on the surface of this printed wiring board 07. This connection wiring 08 is connected to a terminal of a socket 010 via a lead pin 09. An IC is disposed in a portion of the printed wiring board 07 near the insulating substrate 02, and this IC is connected to the wire 0.
11 and 012 are connected to the connection wiring 08 of the printed wiring board 07 and the individual electrodes 04 on the surface of the insulating substrate 02. The IC and wires 011, . 01
2 is sealed with resin 013 and covered with cover 0
Protected by 14.
前述のように部分グレーズ02a上に発熱抵抗体05が
列設されたサーマルヘッドH′は、その発熱抵抗体05
を被覆する耐摩耗層06表面部分すなわち印字部Q6a
とプラテンローラR上の感熱記録紙Pとの接触圧すなわ
ち印字圧が大きくなって(紙当たりが良くなって)均一
な印字を行うことができる。As described above, the thermal head H' in which the heat generating resistors 05 are arranged in a row on the partial glaze 02a has the heat generating resistors 05
The surface portion of the wear-resistant layer 06 covering the printed portion Q6a
The contact pressure between the heat-sensitive recording paper P on the platen roller R, that is, the printing pressure is increased (paper contact becomes better), and uniform printing can be performed.
3)発明が解決しようとする課題
ところで、前記印字圧を均一にしようとすれば、前記印
字部06aが設けられた前記絶縁基板02表面に対して
、プラテンローラRを垂直に押し付ける必要がある。こ
のため、前記印字部06aと、前記ICおよびワイヤ0
11,012を封止する前記樹脂013との間隔が小さ
い場合、前記プラテンローラRが前記印字部06aに押
し付けられたとき、プラテンローラRの表面が前記樹脂
013に接近してしまう、このとき、前記樹脂013に
よって封止され、保護されているICおよびワイヤ01
1.012等の機械的ショックに弱い部品が損傷を受け
ないように前記カバー014は、前記プラテンローラR
と前記樹脂013との間に配設されている。このように
、前記カバー014を前記樹脂013とプラテンローラ
Rとの間に配設するために、前記印字部06aと樹脂0
13との間の間隔(副走査方向Yの距M)をカバー01
4の挿入が可能な長さに設定する一必要があった。3) Problems to be Solved by the Invention By the way, in order to make the printing pressure uniform, it is necessary to press the platen roller R vertically against the surface of the insulating substrate 02 on which the printing portion 06a is provided. Therefore, the printed part 06a, the IC and the wire 0
11,012, the surface of the platen roller R approaches the resin 013 when the platen roller R is pressed against the printing section 06a. IC and wire 01 sealed and protected by the resin 013
The cover 014 is attached to the platen roller R so that parts vulnerable to mechanical shock such as 1.012 are not damaged.
and the resin 013. In this way, in order to dispose the cover 014 between the resin 013 and the platen roller R, the printing portion 06a and the resin 0
13 (distance M in the sub-scanning direction Y) is covered by 01
It was necessary to set the length to allow insertion of 4.
また、前記カバー014は省略することも可能であるが
、それを省略した場合でも、絶縁基板02表面に押し付
けられたプラテンローラRが前記樹脂013に接触しな
いようにするため、前記印字部06aと樹脂013との
間の間隔を所定長さ以上に設定する必要があった。この
ため、前記発熱抵抗体05と前記IC等の機械的ショッ
クに弱い部品との間の長さをあまり小さくすることがで
きなかったので、サーマルヘッドを小型化するにも限度
があった。Further, the cover 014 can be omitted, but even if it is omitted, in order to prevent the platen roller R pressed against the surface of the insulating substrate 02 from coming into contact with the resin 013, the printing part 06a and It was necessary to set the distance between the resin 013 and the resin 013 to a predetermined length or more. For this reason, it was not possible to reduce the length between the heating resistor 05 and components susceptible to mechanical shock, such as the IC, so there was a limit to the miniaturization of the thermal head.
しかしながら、ファクシミリやサーマルプリンタ等にお
いては、サーマルヘッドの配置可能なスペースが限られ
ているので、サーマルヘッドはできるだけ小型に精成し
た方が好都合である。However, in facsimiles, thermal printers, and the like, the space in which a thermal head can be placed is limited, so it is advantageous to make the thermal head as small as possible.
本発明は前述の事情に鑑みてなされたもので、充分大き
な印字圧が得られ、しかも小型化が可能なサーマルヘッ
ドを提供することを課題とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide a thermal head that can obtain a sufficiently large printing pressure and can be miniaturized.
B1発明の精成
1)課題を解決するための手段
前記課題を解決するために本出願の第1発明のサーマル
ヘッドは、主走査方向Xに沿って延びる共通電極と、主
走査方向Xに沿って列設されるとともに先端部が前記共
通電極に対向して配設された多数の個別電極と、前記共
通電極および個別電極先端部を接続する発熱抵抗体とが
絶縁基板の表面上に形成されたサーマルヘッドにおいて
、前記絶縁基板の端部に傾斜表面部分が形成され、この
傾斜表面部分に前記発熱抵抗体が形成されたことを特徴
とする。B1 Refinement of the Invention 1) Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the thermal head of the first invention of the present application has a common electrode extending along the main scanning direction A large number of individual electrodes arranged in rows with their tips facing the common electrode, and heating resistors connecting the common electrode and the tips of the individual electrodes are formed on the surface of an insulating substrate. The thermal head is characterized in that an inclined surface portion is formed at an end of the insulating substrate, and the heating resistor is formed on this inclined surface portion.
また、本出願の第2発明のサーマルヘッドの製造方法は
、主走査方向に沿って延びる共通電極と、主走査方向に
沿って列設されるとともに先端部が前記共通電極に対向
して配設された多数の個別電極と、前記共通電極および
個別電極先端部を接続する発熱抵抗体とが絶縁基板の表
面上に形成されたサーマルヘッドの製造方法において、
前記絶縁基板の端部に傾斜表面部分を形成し、その後前
記傾斜表面部分に抵抗体形成用開口部を有するレジスト
層を形成してから、前記抵抗体形成用開口部の内部に個
別抵抗体を形成し、その−後前記個別抵抗体を焼成して
前記発熱抵抗体を形成することを特徴とする。Further, the method for manufacturing a thermal head according to the second invention of the present application includes a common electrode extending along the main scanning direction, and a common electrode arranged in a row along the main scanning direction, with a tip end facing the common electrode. A method for manufacturing a thermal head, in which a large number of individual electrodes and a heating resistor connecting the common electrode and the tips of the individual electrodes are formed on the surface of an insulating substrate,
Forming an inclined surface portion at an end of the insulating substrate, forming a resist layer having an opening for forming a resistor in the inclined surface portion, and then forming an individual resistor inside the opening for forming a resistor. The heating resistor is formed by forming the heating resistor, and then firing the individual resistor.
2) 作 用
本出願の第1発明のサーマルヘッドは、前記絶縁基板の
端部に傾斜表面部分が形成され、この傾斜表面部分に前
記発熱抵抗体が形成されている。2) Function In the thermal head of the first invention of the present application, an inclined surface portion is formed at the end of the insulating substrate, and the heating resistor is formed on this inclined surface portion.
したがって、サーマルヘッドをその傾斜表面部分がプラ
テンローラに対して垂直に当接するように配置して使用
すれば、均一で充分な大きさの印字圧が得られ、ムラの
無い濃度の均一な印字が得られる。また、この配置にお
けるサーマル・ヘッドの姿勢は、プラテンローラに対し
て傾斜しており、絶縁基板表面がプラテンローラから離
れる姿勢となっているので、絶縁基板表面は、プラテン
ローラとの接触部(すなわち、発熱抵抗体が形成されて
いる部分)から離れるに従ってプラテンローラとの間隔
が急激に大きくなる。したがって、絶縁基板表面上の前
記発熱抵抗体に近い位置にIC等の機械的ショックに弱
い部品を配置しても、その弱い部品がプラテンローラに
当接して破損したりするおそれが無い、このため、IC
やボンディングワイヤ等の機械的ショックに弱い部品を
、絶縁基板端部の発熱抵抗体に近い位置に配置すること
ができるようになる。Therefore, by arranging and using the thermal head so that its inclined surface is in perpendicular contact with the platen roller, a uniform and sufficient printing pressure can be obtained, and uniform printing with even density can be achieved. can get. In addition, the attitude of the thermal head in this arrangement is inclined with respect to the platen roller, and the insulating substrate surface is in an attitude away from the platen roller, so that the insulating substrate surface is in contact with the platen roller (i.e. , the part where the heating resistor is formed), the distance from the platen roller increases rapidly. Therefore, even if a component that is susceptible to mechanical shock, such as an IC, is placed near the heating resistor on the surface of the insulating substrate, there is no risk that the weak component will come into contact with the platen roller and be damaged. , I.C.
Components that are susceptible to mechanical shock, such as wires and bonding wires, can be placed close to the heating resistor at the end of the insulating substrate.
また、本出願の第2発明のサーマルヘッドの製造方法は
、前記絶縁基板の端部に傾斜表面部分を形成し、その後
前記傾斜表面部分に抵抗体形成用開口部を有するレジス
ト層を形成してから、前記抵抗体形成用開口部の内部に
個別抵抗体を形成し、その後前記個別抵抗体を焼成して
前記発熱抵抗体を形成している。したがって、焼成前の
レジスト層およびその抵抗体形成用開口部内の個別抵抗
体の厚さを調整すれば、前記傾斜表面部分に均一な厚さ
の発熱抵抗体が形成される。Further, the method for manufacturing a thermal head according to a second aspect of the present application includes forming an inclined surface portion at an end of the insulating substrate, and then forming a resist layer having an opening for forming a resistor on the inclined surface portion. Then, individual resistors are formed inside the resistor forming openings, and then the individual resistors are fired to form the heating resistors. Therefore, by adjusting the thickness of the resist layer before firing and the individual resistors in the resistor forming openings thereof, a heating resistor having a uniform thickness can be formed on the inclined surface portion.
3) 実 施 例 以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。3) Implementation example Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the drawings.
第1図は本発明のサーマルヘッドの一実施例の全体説明
図、第2図はその要部の斜視図、第3図は第2図の矢視
■部分の拡大図、第4A図は第3図のIVA矢視図、第
4B図は第4A図のIVB−IVB線断面図、第4C図
は第4A図のrVc−IVC線断面図、である。Fig. 1 is an overall explanatory diagram of an embodiment of the thermal head of the present invention, Fig. 2 is a perspective view of its main parts, Fig. 3 is an enlarged view of the part shown by the arrow 3, FIG. 4B is a sectional view taken along the line IVB-IVB of FIG. 4A, and FIG. 4C is a sectional view taken along the line rVc-IVC of FIG. 4A.
第1図に示すように、プラテンロールRの外周に沿って
搬送される感熱記録紙Pに熱記録を行うためのサーマル
ヘッドHは、支持板1を備えている。この支持板1の表
面には、第1図中、右側部分に絶縁基板2が接着剤によ
って張付けられている。As shown in FIG. 1, a thermal head H for performing thermal recording on a thermal recording paper P conveyed along the outer periphery of a platen roll R is provided with a support plate 1. An insulating substrate 2 is attached to the surface of the support plate 1 on the right side in FIG. 1 with an adhesive.
第3図に示すように、前記絶縁基板2は、平板部2al
およびテーパ部2&2を有するセラミック製の基板本体
部2aを備えており、前記テーパ部2L2表面は平板部
2a1表面に対して20°程度傾斜している。前記基板
本体部2a表面には帯状の部分グレーズ2bが形成され
ており、この部分グレーズ2bの下部2b1表面は前記
テーパ部2a2表面と連続している。そして、前記基板
本体部2aと部分グレーズ2bとにより絶縁基板2が構
成されている。また、前記テーパ部2a2表面とこれに
連続する部分グレーズ下部2b1表面とにより絶縁基板
2の傾斜表面部分2cが形成されている。As shown in FIG. 3, the insulating substrate 2 has a flat plate portion 2al.
and a ceramic substrate main body part 2a having tapered parts 2&2, and the surface of the tapered part 2L2 is inclined at about 20 degrees with respect to the surface of the flat plate part 2a1. A band-shaped partial glaze 2b is formed on the surface of the substrate body portion 2a, and the surface of the lower portion 2b1 of this partial glaze 2b is continuous with the surface of the tapered portion 2a2. An insulating substrate 2 is constituted by the substrate main body portion 2a and the partial glaze 2b. Further, the inclined surface portion 2c of the insulating substrate 2 is formed by the surface of the tapered portion 2a2 and the surface of the partial glaze lower portion 2b1 which is continuous thereto.
第3,4A〜40図において、前記基板本体部2aの表
面には主走査方向Xに沿って延びる共通電極本体部3a
およびこの共通電極本体部3aから櫛歯状に副走査方向
Yに沿って突出する多数の共通電極接続部3bを有する
共通電極3が形成されている。前記共通電極接続部3b
の先端部(すなわち、共通電極先端部)3blは前記基
板本体部2aのテーバ部2a2表面に形成されている。3, 4A to 40, a common electrode body portion 3a extending along the main scanning direction X is provided on the surface of the substrate body portion 2a.
A common electrode 3 having a large number of common electrode connecting portions 3b protruding from the common electrode main body portion 3a in a comb-like shape along the sub-scanning direction Y is formed. The common electrode connection part 3b
A tip portion (that is, a common electrode tip portion) 3bl is formed on the surface of the tapered portion 2a2 of the substrate body portion 2a.
そして、前記共通電極本体部3aは部分グレーズ2bに
より全体が覆われ、前記共通電極先端部3blは露出し
ている。また、絶縁基板2の表面には副走査方向Yに延
びる複数の個別電極4が主走査方向Xに沿って列設され
ており、それらの先端部4aは部分グレーズ2bの表面
に配置されている。そして、第3図によく示されている
ように、それらの個別電極先端部4aは、前記傾斜表面
部分2c上で前記多数の共通t8ii先端部3blと副
走査方向Yに所定距離だけ隔てて配置されている。The common electrode body portion 3a is entirely covered with a partial glaze 2b, and the common electrode tip portion 3bl is exposed. Further, on the surface of the insulating substrate 2, a plurality of individual electrodes 4 extending in the sub-scanning direction Y are arranged in a row along the main scanning direction X, and their tips 4a are arranged on the surface of the partial glaze 2b. . As clearly shown in FIG. 3, these individual electrode tip portions 4a are arranged at a predetermined distance in the sub-scanning direction Y from the plurality of common t8ii tip portions 3bl on the inclined surface portion 2c. has been done.
個別電極4の基端部(第1図中、左端部)は、後述の駆
動用ICと接続するためのIC接続端子4b(第4A、
4B図参照)として形成されている。そして前記各画電
極先端部3b1.4aは、絶縁基板2の傾斜表面部分2
c上に主走査方向Xに沿って列設された多数の島状の発
熱抵抗体5によって接続されている。The base end portion (the left end portion in FIG. 1) of the individual electrode 4 has an IC connection terminal 4b (4th A,
(see Figure 4B). The tip portion 3b1.4a of each picture electrode is connected to the inclined surface portion 2 of the insulating substrate 2.
They are connected by a large number of island-shaped heating resistors 5 arranged in rows along the main scanning direction X on c.
第4A、4B図に示すように、前記画電極3゜4および
発熱抵抗体5等の表面はグレーズ製の耐摩耗層6で被覆
されており、この耐摩耗層6の前記発熱抵抗体5を被覆
する部分の表面は、前記感熱記録紙Pに熱を伝える印字
部6aとして形成されている。そして、この印字部6a
は前記傾斜表面部分2cと略平行になっている。As shown in FIGS. 4A and 4B, the surfaces of the picture electrode 3.4 and the heating resistor 5 are covered with a wear-resistant layer 6 made of glaze. The surface of the covered portion is formed as a printed portion 6a that transmits heat to the thermosensitive recording paper P. And this printing section 6a
is substantially parallel to the inclined surface portion 2c.
前記支持板1の表面には、第1図中、左側部分にプリン
ト配線基板7が接着剤によって張付けられており、この
プリント配線基板7表面には外部接続用配線8が形成さ
れている。この外部接続用配l18はその入力端側(第
1図中、左側)において前記プリント配線基板7を貫通
するリード線9を介して、駆動信号入力端子としてのソ
ケット10に接続されている。プリント配線基板7の前
記絶縁基板2に近い部分には駆動用ICが配設されてお
り、この駆動用ICはボンディングワイヤ11および1
2によって前記個別電極4のIC接続端子4bおよび外
部接続用配線8と接続されている。A printed wiring board 7 is attached to the surface of the support plate 1 on the left side in FIG. 1 with an adhesive, and external connection wiring 8 is formed on the surface of the printed wiring board 7. This external connection wiring 18 is connected to a socket 10 as a drive signal input terminal via a lead wire 9 passing through the printed wiring board 7 at its input end side (left side in FIG. 1). A driving IC is disposed in a portion of the printed wiring board 7 near the insulating substrate 2, and this driving IC is connected to the bonding wires 11 and 1.
2 is connected to the IC connection terminal 4b of the individual electrode 4 and the external connection wiring 8.
前記ICおよびボンディングワイヤ11.12は、保護
樹脂13によって被覆されており、さらに、前記保護樹
脂13はアルミ製のカバー14によって保護されている
。The IC and bonding wires 11, 12 are covered with a protective resin 13, and the protective resin 13 is further protected by a cover 14 made of aluminum.
そして、本実施例のサーマルヘッドHは、前記符号1〜
14で示された構成要素および前記駆動用ICから構成
されている。The thermal head H of this embodiment has the above-mentioned symbols 1 to 1.
It is composed of the component indicated by 14 and the driving IC.
次に前記サーマルヘッドHの絶縁基板2表面に共通型8
i3、個別型@4および発熱抵抗体5を形成する方法に
ついて説明する。Next, a common mold 8 is attached to the surface of the insulating substrate 2 of the thermal head H.
A method of forming i3, individual type @4, and heating resistor 5 will be explained.
第5A、5B図に示すように、平板部2alおよびテー
バ部2a2を有する絶縁基板本体部2aの表面に、金等
から成る共通電極形成層3Lを形成する。この共通電極
形成層3L表面にレジスト層R1を形成してからその上
にマスクM1を重ねて露光し、エツチング液を用いて現
像する。そうすると、第6A、6B図に示すような共通
電極形成用のレジストパターンRPIが得られる0次に
前記電極形成層3Lをエツチングしてから前記レジスト
パターンRPIを除去すると、第7A、7B図に示すよ
うに基板本体部2a表面に共通電極3が形成される。As shown in FIGS. 5A and 5B, a common electrode forming layer 3L made of gold or the like is formed on the surface of the insulating substrate main body portion 2a having the flat plate portion 2al and the tapered portion 2a2. A resist layer R1 is formed on the surface of this common electrode forming layer 3L, and then a mask M1 is placed thereon, exposed, and developed using an etching solution. Then, a resist pattern RPI for forming a common electrode as shown in FIGS. 6A and 6B is obtained. When the electrode forming layer 3L is etched next and the resist pattern RPI is removed, as shown in FIGS. 7A and 7B. A common electrode 3 is formed on the surface of the substrate main body portion 2a.
次に、第8A、8B図に示すように、基板本体部2aの
表面に主走査方向Xに沿って延びる厚さ40〜80μ朧
の帯状の部分グレーズ2bを形成する。この場合、部分
グレーズ2bは、共通電極本体部3&の全体を覆うよう
に且つその下部2b1表面が前記基板本体部2aのテー
パ部2a2表面と連続するように形成する。このテーパ
部2a2表面と部分グレーズ下部2b1表面とにより絶
縁基板2の傾斜表面部分2cが形成される。Next, as shown in FIGS. 8A and 8B, a band-shaped partial glaze 2b extending along the main scanning direction X and having a thickness of 40 to 80 μm is formed on the surface of the substrate main body portion 2a. In this case, the partial glaze 2b is formed so as to cover the entire common electrode main body part 3&, and the surface of the lower part 2b1 is continuous with the surface of the tapered part 2a2 of the substrate main body part 2a. The inclined surface portion 2c of the insulating substrate 2 is formed by the surface of the tapered portion 2a2 and the surface of the partial glaze lower portion 2b1.
次に、第9A、9B図に示すように、絶縁基板2の表面
に金等から成る個別電極形成層4Lを前記共通電極3に
接触しないように形成してから、その表面にレジスト層
R2を形成する。そして、その上に露光用マスクを重ね
て露光し、エツチング液により現像して個別電極形成用
のレジストパターン(図示せず)を形成する。次に前記
個別電極形成層4Lをエツチングすると、第10A、1
0B図に示すように絶縁基板2表面に複数の個別![!
4が形成される。Next, as shown in FIGS. 9A and 9B, an individual electrode forming layer 4L made of gold or the like is formed on the surface of the insulating substrate 2 so as not to contact the common electrode 3, and then a resist layer R2 is formed on the surface. Form. Then, an exposure mask is placed thereon and exposed, and developed with an etching solution to form a resist pattern (not shown) for forming individual electrodes. Next, when the individual electrode formation layer 4L is etched, the 10A, 1
As shown in Figure 0B, multiple individual ! [!
4 is formed.
次に、第11A、IIB図に示すように、前記部分グレ
ーズ2b、共通電極3および個別電極4が形成された絶
縁基板2の表面に、厚さが15〜20μmのレジスト層
R3を形成する。そして、その上にマスクM3を重ねて
露光し、エツチング液により現像する。こうして、第1
2A、12B図に示すように、絶縁基板2の前記傾斜表
面部分2cに主走査方向Xに沿って列設された多数の抵
抗体形成用開口部Hoを有するレジストパターンRP2
を形成する。なお、前記抵抗体形成用開口部H。Next, as shown in FIGS. 11A and 11B, a resist layer R3 having a thickness of 15 to 20 μm is formed on the surface of the insulating substrate 2 on which the partial glaze 2b, the common electrode 3, and the individual electrodes 4 are formed. Then, a mask M3 is placed thereon, exposed, and developed with an etching solution. Thus, the first
As shown in FIGS. 2A and 12B, a resist pattern RP2 has a large number of resistor formation openings Ho arranged in rows along the main scanning direction X on the inclined surface portion 2c of the insulating substrate 2.
form. Note that the opening H for forming the resistor.
は、その内部に前記共通t8i接続部3bおよび個別電
極先端部4aが配置されるように形成する。is formed such that the common t8i connection portion 3b and the individual electrode tip portions 4a are arranged therein.
次に、第13A、13B図に示すように、抵抗体形成材
料Gをスクリーン印刷等により前記レジストパターンR
P2の開口部HOの列に沿って帯状に印刷して前記開口
部Ho内部に充填し、乾燥させる。Next, as shown in FIGS. 13A and 13B, the resistor forming material G is applied to the resist pattern R by screen printing or the like.
A strip is printed along the row of the openings HO of P2, and the inside of the openings Ho is filled and dried.
次に第14A、14B図に示すように、前記乾燥した抵
抗体形成材料Gをラッピング(研削)して前記レジスト
パターンRP表面よりも上の部分を除去し、前記開口部
Ho内部に未焼結の個別抵抗体5′を形成する0次にこ
の個別抵抗体5′を800〜900℃の温度で焼成する
とともに前記レジストパターンRP2を燃焼により除去
する。Next, as shown in FIGS. 14A and 14B, the dried resistor forming material G is lapped (ground) to remove a portion above the surface of the resist pattern RP, and an unsintered material is placed inside the opening Ho. Next, the individual resistors 5' are fired at a temperature of 800 to 900 DEG C., and the resist pattern RP2 is removed by combustion.
そうすると、第15A、15B図に示すように、絶縁基
板2の傾斜表面部分2c上に主走査方向χに沿って、前
記画電極3,4を接続する多数の島状の発熱抵抗体5が
形成される。Then, as shown in FIGS. 15A and 15B, a large number of island-shaped heating resistors 5 are formed on the inclined surface portion 2c of the insulating substrate 2 along the main scanning direction χ, connecting the picture electrodes 3 and 4. be done.
次に、前記画電極3.4および発熱抵抗体5等が形成さ
れた絶縁基板2表面を対摩耗層6で被覆する。そうする
と、第4A〜40図に示すような絶縁基板が得られる。Next, the surface of the insulating substrate 2 on which the picture electrode 3.4, the heating resistor 5, etc. are formed is coated with an anti-wear layer 6. Then, an insulating substrate as shown in FIGS. 4A to 40 is obtained.
前記第4A〜40図に示す絶縁基板を用いて構成したサ
ーマルヘッドHは、第1図に示すように、発熱抵抗体5
が形成された傾斜表面部分2cに対してプラテンローラ
Rが垂直に当接するように配置して使用される。The thermal head H constructed using the insulating substrate shown in FIGS. 4A to 40 has a heating resistor 5 as shown in FIG.
The platen roller R is arranged and used so as to be in perpendicular contact with the inclined surface portion 2c on which the platen roller R is formed.
前述の実施例のサーマルヘッドHは、主走査方向Xに沿
って配置された共通電極本体部3aと多数の個別電極先
端部4aとが絶縁基板2表面に垂直な方向に離れて配置
されているので、絶縁基板2表面に沿って副走査方向Y
に離れて配置された従来ものに比べて、副走査方向Yの
寸法を小型化することができる。In the thermal head H of the above-described embodiment, the common electrode main body portion 3a arranged along the main scanning direction Therefore, along the surface of the insulating substrate 2 in the sub-scanning direction Y
The dimensions in the sub-scanning direction Y can be made smaller compared to the conventional device in which the scanners are arranged apart from each other.
以上、本発明によるサーマルヘッドおよびその製造方法
の実施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定さ
れるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明
の要旨の範囲内で、種々の小設計変更を行うことが可能
である。Although the embodiments of the thermal head and the manufacturing method thereof according to the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above embodiments, and is within the scope of the gist of the present invention as described in the claims. It is possible to make various minor design changes.
たとえば、前記共通電極本体部3aと複数の個別電極先
端部4aとを絶縁基板2表面に垂直な方向に離して配置
する代わりに絶縁基板2表面に沿う方向に離して配置す
ることも可能である。そして2部分グレーズ2bを省略
したり、絶縁基板2の全表面にアンダーグレーズを形成
したりすることも可能である。また、発熱抵抗体5を形
成する傾斜表面部分2cは、基板本体部2aのテーバ部
2a2表面と部分グレーズ下部2b1表面とから形成す
る代わりに、テーバ部2a2表面のみから構成すること
も可能である。その場合には、前記テーパ部2a2表面
に前記共通電極3と複数の個別電極先端部4aとを副走
査方向Yに離して形成すればよい。For example, instead of arranging the common electrode main body part 3a and the plurality of individual electrode tip parts 4a apart in a direction perpendicular to the surface of the insulating substrate 2, it is also possible to arrange them apart in a direction along the surface of the insulating substrate 2. . It is also possible to omit the two-part glaze 2b or to form an underglaze on the entire surface of the insulating substrate 2. Further, the inclined surface portion 2c forming the heating resistor 5 can be formed only from the surface of the tapered portion 2a2 instead of being formed from the surface of the tapered portion 2a2 of the substrate body portion 2a and the surface of the partial glaze lower portion 2b1. . In that case, the common electrode 3 and a plurality of individual electrode tip portions 4a may be formed on the surface of the tapered portion 2a2 so as to be separated in the sub-scanning direction Y.
さらに、平板部2直1表面に対するテーパ部2ユ2表面
の傾斜角は実施例で示した20°以外の適当な角度とす
ることが可能である。さらにまた、本発明は、電極、発
熱抵抗体の形状や、それらの形成順序または形成方法が
前記実施例と異なる種々のサーマルヘッドに対しても適
用することが可能である。Further, the angle of inclination of the surface of the tapered portion 2 with respect to the straight surface of the flat plate portion 2 can be set to an appropriate angle other than 20° shown in the embodiment. Furthermore, the present invention can be applied to various thermal heads in which the shapes of the electrodes and heating resistors, and the order or method of forming them are different from those of the above-mentioned embodiments.
C1発明の効果
前述の本出願の第1発明のサーマルヘッドは、前記絶縁
基板の端部に傾斜表面部分が形成され、この傾斜表面部
分に前記発熱抵抗体が形成されている。したがって、サ
ーマルヘッドをその傾斜表面部分がプラテンローラに対
して垂直に当接するように配置して使用すれば、サーマ
ルヘッドとプラテンローラとの接触面積が小さいので、
充分な大きさの印字圧が得られ、濃度ムラの無い印字が
得られる。また、この配置におけるプラテンローラに対
するサーマルヘッドの姿勢は、絶縁基板の傾斜表面部分
以外の表面がプラテンローラから離れる姿勢となるので
、絶縁基板表面は、プラテンローラとの接触部(すなわ
ち、発熱抵抗体が形成されている部分)から離れるに従
ってプラテンローラとの間隔が急激に大きくなる。した
がって、絶縁基板表面上の前記発熱抵抗体に近い位置に
IC等の機械的ショックに弱い部品を配置しても、その
弱い部品がプラテンローラに当接して破損したりするお
それがない このため、ICやボンディングワイヤ等の
機械的ショックに弱い部品を、絶縁基板端部の発熱抵抗
体に近い位置に配置することができるようになる。C1 Effects of the Invention In the thermal head of the first invention of the present application described above, an inclined surface portion is formed at the end of the insulating substrate, and the heating resistor is formed on this inclined surface portion. Therefore, if the thermal head is arranged and used so that its inclined surface part contacts the platen roller perpendicularly, the contact area between the thermal head and the platen roller is small.
Sufficient printing pressure can be obtained, and printing without density unevenness can be obtained. In addition, the attitude of the thermal head with respect to the platen roller in this arrangement is such that the surface of the insulating substrate other than the inclined surface portion is away from the platen roller, so that the surface of the insulating substrate is in contact with the platen roller (i.e., the heating resistor The distance from the platen roller increases rapidly as the distance from the platen roller increases. Therefore, even if a component that is susceptible to mechanical shock, such as an IC, is placed near the heating resistor on the surface of the insulating substrate, there is no risk that the weak component will come into contact with the platen roller and be damaged. Components that are susceptible to mechanical shock, such as ICs and bonding wires, can be placed close to the heating resistor at the end of the insulating substrate.
したがって、絶縁基板の幅(副走査方向Yの寸法)を小
さくすることができるので、絶縁基板の小型化すなわち
サーマルヘッドの小型化が可能になる。 また、本出願
の第2発明のサーマルヘッドの製造方法は、前記絶縁基
板の端部に傾斜表面部分を形成し、その後、前記傾斜表
面部分に抵抗体形成用開口部を有するレジスト層を形成
してから、前記抵抗体形成用開口部の内部に個別抵抗体
を形成し、その後、前記個別抵抗体を焼成して前記発熱
抵抗体を形成している。したがって、焼成前のレジスト
層およびその抵抗体形成用開口部内の個別抵抗体の厚さ
を調整することにより、前記傾斜表面部分に均一な厚さ
の発熱抵抗体を形成することかできる。すなわち、−i
的に厚膜技術により傾斜表面部分に抵抗膜を形成する場
合、抵抗体ペーストが傾斜表面部分から流れるので均一
な厚さの抵抗膜を形成するのは容易で無いが、この第2
発明によれば、均一な厚さの発熱抵抗体を傾斜表面部分
に容易に形成することができる。Therefore, since the width of the insulating substrate (dimension in the sub-scanning direction Y) can be reduced, it is possible to miniaturize the insulating substrate, that is, to miniaturize the thermal head. Further, the method for manufacturing a thermal head according to a second aspect of the present application includes forming an inclined surface portion at an end of the insulating substrate, and then forming a resist layer having an opening for forming a resistor in the inclined surface portion. Then, individual resistors are formed inside the resistor forming openings, and then the individual resistors are fired to form the heating resistors. Therefore, by adjusting the thickness of the resist layer before firing and the individual resistors in the resistor forming openings thereof, it is possible to form a heating resistor having a uniform thickness on the inclined surface portion. That is, -i
Generally, when forming a resistive film on a sloped surface using thick film technology, it is difficult to form a resistive film with a uniform thickness because the resistor paste flows from the sloped surface.
According to the invention, a heating resistor having a uniform thickness can be easily formed on an inclined surface portion.
第1図は本発明のサーマルヘッドの一実施例の全体概略
説明図、第2図は同実施例の斜視図、第3図は同第2図
の矢視■部分の拡大図、第4A図は第3図の矢視IVA
から見た図、第4B図は第4A図のIVB−IVB線断
面図、第4C図は第4A図の■C−IVC線断面図、第
5A〜15B図は前記サーマルヘッドの製造方法の一実
施例の説明図、第16図は従来技術の説明図、である。
2・・・絶縁基板、”2c・・・傾斜表面部分、3・・
・共通電極、4・・・個別電極、4a・・・個別電極先
端部、5・・・発熱抵抗体、5′・・・個別抵抗体、H
O・・・抵抗体形成用開口部、RP2・・・レジストパ
ターン、X・・・主走査方向
第5A図
第7A図
第7B図
2冶
!
第4B図
第6A図
第6B図
第9A図
1/
第11A図
第8A図
第]○A図
第13A図
漸5A図
第12A図
第14A図Fig. 1 is an overall schematic explanatory diagram of an embodiment of the thermal head of the present invention, Fig. 2 is a perspective view of the same embodiment, Fig. 3 is an enlarged view of the part shown by the arrow ■ in Fig. 2, and Fig. 4A. is the arrow view IVA in Figure 3.
FIG. 4B is a sectional view taken along the line IVB-IVB of FIG. 4A, FIG. 4C is a sectional view taken along the C-IVC line of FIG. 4A, and FIGS. FIG. 16 is an explanatory diagram of the embodiment, and FIG. 16 is an explanatory diagram of the prior art. 2... Insulating substrate, "2c... Inclined surface portion, 3...
・Common electrode, 4...Individual electrode, 4a...Individual electrode tip, 5...Heating resistor, 5'...Individual resistor, H
O...Opening for resistor formation, RP2...Resist pattern, X...Main scanning direction Fig. 5A Fig. 7A Fig. 7B Fig. 2! Fig. 4B Fig. 6A Fig. 6B Fig. 9A Fig. 1/ Fig. 11A Fig. 8A Fig. ○A Fig. 13A Fig. 5A Fig. 12A Fig. 14A
Claims (1)
と、主走査方向(X)に沿つて列設されるとともに先端
部(4a)が前記共通電極(3)に対向して配設された
多数の個別電極(4)と、前記共通電極(3)および個
別電極先端部(4a)を接続する発熱抵抗体(5)とが
絶縁基板(2)の表面上に形成されたサーマルヘッドに
おいて、前記絶縁基板(2)の端部に傾斜表面部分(2
c)が形成され、この傾斜表面部分(2c)前記発熱抵
抗体(5)が形成されたサーマルヘッド(2)主走査方
向(X)に沿って延びる共通電極(3)と、主走査方向
(X)に沿って列設されるとともに先端部(4a)が前
記共通電極(3)に対向して配設された多数の個別電極
(4)と、前記共通電極(3)および個別電極先端部(
4a)を接続する発熱抵抗体(5)とが絶縁基板(2)
の表面上に形成されたサーマルヘッドの製造方法におい
て、 前記絶縁基板(2)の端部に傾斜表面部分(2c)を形
成し、その後前記傾斜表面部分(2c)に抵抗体形成用
開口部(H_0)を有するレジストパターン(RP2)
を形成してから、前記抵抗体形成用開口部(H_0)の
内部に個別抵抗体(5′)を形成し、その後前記個別抵
抗体(5′)を焼成して前記発熱抵抗体(5)を形成す
ることを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。(1) Common electrode (3) extending along the main scanning direction (X)
, a large number of individual electrodes (4) arranged in a row along the main scanning direction (X) and whose tips (4a) face the common electrode (3), and the common electrode (3). ) and a heat-generating resistor (5) connecting the individual electrode tips (4a) are formed on the surface of an insulating substrate (2). 2
c) is formed, this inclined surface portion (2c) the thermal head (2) on which the heating resistor (5) is formed, a common electrode (3) extending along the main scanning direction (X), and a common electrode (3) extending along the main scanning direction (X); A large number of individual electrodes (4) arranged in a row along the direction X) with their tips (4a) facing the common electrode (3), and the common electrode (3) and the tips of the individual electrodes. (
4a) is connected to the heating resistor (5) and the insulating substrate (2)
In the method for manufacturing a thermal head formed on the surface of the insulating substrate (2), an inclined surface portion (2c) is formed at an end of the insulating substrate (2), and then an opening for resistor formation (2c) is formed in the inclined surface portion (2c). Resist pattern (RP2) with H_0)
After that, an individual resistor (5') is formed inside the resistor forming opening (H_0), and then the individual resistor (5') is fired to form the heating resistor (5). A method for manufacturing a thermal head, the method comprising: forming a thermal head;
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2197513A JPH0482751A (en) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | Thermal head and manufacture thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2197513A JPH0482751A (en) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | Thermal head and manufacture thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0482751A true JPH0482751A (en) | 1992-03-16 |
Family
ID=16375720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2197513A Pending JPH0482751A (en) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | Thermal head and manufacture thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0482751A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005262828A (en) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Toshiba Hokuto Electronics Corp | Thermal print head |
-
1990
- 1990-07-25 JP JP2197513A patent/JPH0482751A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005262828A (en) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Toshiba Hokuto Electronics Corp | Thermal print head |
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