JPH0482841U - - Google Patents

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JPH0482841U
JPH0482841U JP12421290U JP12421290U JPH0482841U JP H0482841 U JPH0482841 U JP H0482841U JP 12421290 U JP12421290 U JP 12421290U JP 12421290 U JP12421290 U JP 12421290U JP H0482841 U JPH0482841 U JP H0482841U
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JP
Japan
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dry etching
wafer carrier
transfer device
transfer
processing device
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JP12421290U
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  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例の構成図、第2図は従
来例の構成図、第3図はクリーニングの管理プロ
グラムフローチヤート、第4図はエージングの管
理プログラムフローチヤートである。 1……ウエハキヤリア、2……自動搬送車、3
……ドライエツチング装置、4……装置バツフア
、5……ウエハステージ、6……移載装置、7…
…リフタ、8……搬送ロボツト、9……受渡しバ
ツフア、10……待機バツフア、11……ダミー
バツフア、12……制御装置、13……データ入
力装置。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 自動搬送システムを用いたドライエツチン
    グ装置において、 (a) ドライエツチングを行う処理装置とウエ
    ハキヤリアの移載を行う移載装置とを有し、 (b) 該移載装置に、クリーニング用ダミーウ
    エハキヤリアを設置するためのダミーバツフアと
    、 (c) クリーニング周期とそのレシピを管理し
    、かつ前記移載装置および処理装置を制御する手
    段とを具備することを特徴とするドライエツチン
    グ装置。 (2) 自動搬送システムを用いたドライエツチン
    グ装置において、 (a) ドライエツチングを行う処理装置とウエ
    ハキヤリアの移載を行う移載装置とを有し、 (b) 該移載装置に、エージング用ダミーウエ
    ハキヤリアを設置するためのダミーバツフアと、 (c) エージングの開始タイミングとそのレシ
    ピを管理し、かつ前記移載装置および処理装置を
    制御する手段 とを具備することを特徴とするドライエツチン
    グ装置。
JP12421290U 1990-11-28 1990-11-28 Pending JPH0482841U (ja)

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JP12421290U JPH0482841U (ja) 1990-11-28 1990-11-28

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JP12421290U JPH0482841U (ja) 1990-11-28 1990-11-28

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JPH0482841U true JPH0482841U (ja) 1992-07-20

Family

ID=31871872

Family Applications (1)

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JP12421290U Pending JPH0482841U (ja) 1990-11-28 1990-11-28

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JP (1) JPH0482841U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0574739A (ja) * 1991-09-13 1993-03-26 Hitachi Ltd 真空処理装置およびその運転方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0574739A (ja) * 1991-09-13 1993-03-26 Hitachi Ltd 真空処理装置およびその運転方法

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