JPH0483316A - カレントトランス - Google Patents

カレントトランス

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JPH0483316A
JPH0483316A JP2199941A JP19994190A JPH0483316A JP H0483316 A JPH0483316 A JP H0483316A JP 2199941 A JP2199941 A JP 2199941A JP 19994190 A JP19994190 A JP 19994190A JP H0483316 A JPH0483316 A JP H0483316A
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JP
Japan
Prior art keywords
temperature
magnetic
current transformer
magnetic core
stable
Prior art date
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Pending
Application number
JP2199941A
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English (en)
Inventor
Hidenori Kakehashi
英典 掛橋
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、インバータ点灯装置やスイッチング電源等
に適用されるカレントトランスに関するものである。
〔従来の技術〕
比較的裔周波(20kF[z〜IMHz程度)でスイッ
チングを行うインバータ点灯装置やスイッチング電源等
においては、主回路や制御回路などの電流を検出し、検
出信号により制御信号の帰還を行うカレントトランス方
式が多く採用されている。
たとえば第6図に示すインバータ点灯装置ではランプL
と直列にカレントトランスCTを設け、ランプLに流れ
る電流を検出して、ランプLの動作状態すなわち正常点
灯状態、調光点灯状態、異常点灯状態を検知し、制御回
路CONをコントロールしている。図において、DR,
、DR2はドライブ回路、Tr (、T r 2はnM
Osトランジスタを一例とするスイッチング素子、Eは
電源である。
このようなインバータ点灯装置に使用されるカレントト
ランスとして感度が良いことが必要であるが、使用され
る周波数域、温度域、電流域での特性が重要である。
第70はカレントトランスの原理を示すもので、これは
1次電流11を検出して出力電圧■2を出力するもので
ある。2次電i12.1次巻線Nよ、2次巻vAN2、
磁心の磁化力H,@心の磁路長iとすると、起磁力の関
係から NI I、=H1+N212   ・・・・・・・・・
(1)が成立する。この式(11より、 H= (N、1l−N212)z!・・・・・・・・・
(2)となり、また磁心の透磁率μとすると、B−μH
の関係から B=μ(N111−\212)/I!・・・・・・・・
(3)が得られる。一方、2次電圧V2は磁心の磁路断
面積Sとして、 V2=N2S (dB/d t)   ・・・・・・・
・・(4)で与えられるから、 V2 =μ(S//2)  −d(N、 I  、 −
N 21 2 )/dt・・・・・・・・・(5) となる。この式(5)より2次電圧V2は磁心の透磁率
μで変化することがわかり、透磁率μが大きいほど感度
が良好になることがわかる。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、従来よりカレントトランス用の磁性材料とし
てフェライトが使用されていたが、温度により検出感度
が変化し、制御が困難であるという課題があった。すな
わち、従来のMn−Znフェライト (日立フェライト
製5B7C)の透磁率の温度特性は第8図に示すように
なっており、温度に依存して大きく変化している。たと
えば40度を基準にすると10度では約30%程度の透
磁率が減少しこれに比例して検出電圧は減少していこの
ように従来材料のフェライトは温度特性が悪いという欠
点があった。また他にも種々のフェライト材料で検討し
たが、数値の大小はあるが著しい改善は見出せなかった
したがって、この発明の目的は、安定な温度特性を有す
るカレントトランスを提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
この発明のカレントトランスは、厚さ約70μm以下の
1帯状でキュリー温度が250℃以上のアモルファス磁
性材料により形成された磁心を有するものである。
〔作用〕
この発明の構成によれば、磁心を、厚さ70μm以下の
薄帯状でキュリー温度が250℃以上のアモルファス磁
性材料により形成することにより、周波数および温度に
安定なカレントトランスが可能となり、またインバータ
点灯装置に通用した場合安定した点灯動作が可能乙こな
り、さらに飽和磁束密度が高くなることにより磁心の小
形化が可能になる。
〔実施例〕
この発明の一実施例を第1図ないし第5図に基づいて説
明する。すなわち、アモルファス磁性材料F eqqs
 is Baaについてトロイダル磁心を作製し、その
後適性な熱処理を行って直流ヒステリシス特性を測定し
た。その結果を第1図に示す。
この直流ヒステリシス特性において、飽和磁束密度14
000G、残留磁束密度4800G、保磁力0.060
eであった。また前記磁性材料の磁歪定数λSは20X
lO−6、キュリー温度は358℃である。
つぎにこのアモルファス磁性材料の周波数特性をインピ
ーダンスアナライザ(YHP4192A)により測定し
、第2図に示す結果を得た。このグラフから1ookH
zまでの透磁率はほぼ一定であり、フェライトよりも高
い性能をもっことがわかった。また前記式(5)よりわ
かるように周波数に対するl率が一定であるため安定し
た周波数特性を有し、しかも3度のよいカレントトラン
スが得られる。
また透磁率の温度特性を測定した結果、第3図に示すよ
うに透磁率が一定であることがわかり、しかも−10’
C〜100℃の透磁率の変化も2(1/’C)と極めて
熱的に安定であった。
また透磁率の周波数特性はアモルファス磁性薄帯の厚さ
に依存している。これは薄帯に流れる磁束により薄帯の
内部にうず電流が流れ、磁束を妨げるためと考えられる
。そこで、透磁率について定量的につかむために薄帯厚
さを変化させて測定し、その結果を第4図に示す。図中
Q1はこの実施例のグラフ、Q2はフェライトのグラフ
である。
この結果から明らかなように約70μm以下ではフェラ
イトよりもこの実施例の方が高透磁率すなわち、優位に
なっていることがわかる。
さらに透磁率の温度変化は材料のキュリー温度に依存し
ていることから、種々のアモルファス磁性材料について
透磁率の温度変化率とキュリー温度の関係を測定しだ。
その結果、第5図Sこ示すようにキュリー温度が下がる
程度化率は増大してくるが、250℃以上であればこの
実施例の方がフェライトよりも十分な優位性をもつこと
がわかる。
したがって、磁心を、厚さ70μm以下の薄帯状でキュ
リー温度が250℃以上のアモルファス磁性材料により
形成することにより、周波数および温度に安定なカレン
トトランスが可能となり、また第6図に示すインバータ
点灯装置に適用した場合、安定した点灯動作が可能にな
った。さらに飽和磁束密度が高くなることにより小形化
が可能になった。
なお、アモルファス磁性材料の1帯以外に例えば珪素含
有量6.5%の珪素薄帯(Si−Fe)で同様の透磁率
の計測を行ったところ、前記実施例と同様の傾向が得ら
れ、厚さとキュリー温度の条件を満足すればカレントト
ランスとじて好適であることを明らかとなった。
〔発明の効果〕
この発明のカレントトランスによれば、磁心を、厚さ7
0μm以下の1帯状でキュリー温度が250℃以上のア
モルファス磁性材料により形成することにより、周波数
および温度に安定なカレントトランスが可能となり、ま
たインバータ点灯装置に適用した場合安定した点灯動作
が可能になり、さらに飽和磁束密度が高くなることによ
り磁心の小形化が可能になるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例のアモルファス磁性材料の
直流ヒステリシス特性図、第2図は透磁率の周波数特性
図、第3図は透磁率の温度特性図、第4図は透磁率の薄
帯の厚さに対する特性図、第5圓はi3磁率の温度変化
率のキュリー温度に対する特性図、第6図はインバータ
点灯回路図、第7図はカレントトランスの原理図、第8
図はフェライトの透磁率の温度特性図である。 第3図 一8涙数(にHz) □ 湛 度(0C) 第 図 第 図 渾等の厚と(μm) キュリーi屋(0C) 第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  厚さ約70μm以下の薄帯状でキュリー温度が250
    ℃以上のアモルファス磁性材料により形成された磁心を
    有するカレントトランス。
JP2199941A 1990-07-25 1990-07-25 カレントトランス Pending JPH0483316A (ja)

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JP2199941A JPH0483316A (ja) 1990-07-25 1990-07-25 カレントトランス

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JP2199941A JPH0483316A (ja) 1990-07-25 1990-07-25 カレントトランス

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JPH0483316A true JPH0483316A (ja) 1992-03-17

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013126508A (ja) * 2011-12-19 2013-06-27 Toshiba Corp 磁気共鳴イメージング装置
WO2015022904A1 (ja) * 2013-08-13 2015-02-19 日立金属株式会社 Fe基アモルファストランス磁心及びその製造方法、並びにトランス

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