JPH0487039A - Optical disk - Google Patents

Optical disk

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JPH0487039A
JPH0487039A JP2203049A JP20304990A JPH0487039A JP H0487039 A JPH0487039 A JP H0487039A JP 2203049 A JP2203049 A JP 2203049A JP 20304990 A JP20304990 A JP 20304990A JP H0487039 A JPH0487039 A JP H0487039A
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JP
Japan
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layer
adhesive
substrate
substrates
adhesive layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2203049A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsuneo Kuwabara
恒男 桑原
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
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Publication of JPH0487039A publication Critical patent/JPH0487039A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve the reliability under severe thermal conditions by constituting an adhesive layer of a radiation curing hot melt type adhesive and specifying the glass transition temp., modulus of elasticity and dynamical loss coefft. of this adhesive layer. CONSTITUTION:The adhesive layer 9 is constituted of the radiation curing hot melt type adhesive. This adhesive layer 9 is so formed that the glass transition temp. Tg thereof is <=-10 deg.C, the modulus of elasticity is <=100kgf/mm<2> at -20 deg.C and 10Hz, and the dynamical loss coefft. tandelta is <=0.1 at -20 deg.C and 10Hz. Then, the stresses and strains, etc., generated between a substrate 2 and a substrate 2, between these substrates and respective constituting layers, and further between the constituting layer and the constituting layer, by a temp. change, etc., are absorbed or relieved. The peeling between the substrate 2 and the substrate 2, between these substrates and the respective constituting layers, and between the constituting layer and the constituting layer is completely prevented in this way even in the case of preservation under the severe thermal conditions. The high reliability is thus obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光ディスク、特に光磁気記録ディスク、相変
化型の光記録ディスクや、再生専用の光ディスク等に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to optical discs, particularly magneto-optical recording discs, phase change type optical recording discs, read-only optical discs, and the like.

〈従来の技術〉 光ディスクのうち、特に光記録ディスクは、基板上に情
報担持部としての記録層を設層して構成され、その記録
・再生に際しては、通常、基板側からレーザビーム等を
照射することによって行われる。
<Prior Art> Among optical discs, especially optical recording discs, a recording layer serving as an information-carrying portion is provided on a substrate. During recording and reproduction, a laser beam or the like is usually irradiated from the substrate side. It is done by doing.

このため用いる基板は透明なもの、例えば、ガラスや樹
脂から構成されている。
For this reason, the substrate used is made of a transparent material, such as glass or resin.

この場合、ディスクの軽量化や、トラッキング用のグル
ープやビット形成の容易さの点から、従来、光ディスク
の基板としては樹脂製の基板が用いられている。
In this case, a resin substrate has conventionally been used as the substrate for the optical disk in order to reduce the weight of the disk and to facilitate the formation of tracking groups and bits.

そして、記録層のヒラカキ等による機械的損傷を防ぐた
めに、基板の記録層設層側に保護基板を設けたり、一対
の基板を記録層が内封されるようにして一体化している
In order to prevent mechanical damage to the recording layer due to cracking or the like, a protective substrate is provided on the side of the substrate on which the recording layer is provided, or a pair of substrates are integrated so that the recording layer is encapsulated therein.

このように樹脂製の一対の基板ないし基板と保護基板と
を接着する場合において、米国特許筒4,503,53
1号明細書には、軟化点140℃以下、常態引張り接着
強度が20℃で1 kg/Cm”以上、溶融粘度が16
0℃で1000P以下のホットメルト接着剤によって接
着する旨が提案されている。
In the case of bonding a pair of resin substrates or a substrate and a protective substrate in this way, U.S. Patent No. 4,503,53
Specification No. 1 states that the softening point is 140°C or less, the normal tensile adhesive strength is 1 kg/Cm” or more at 20°C, and the melt viscosity is 16
It has been proposed to bond with a hot melt adhesive of 1000P or less at 0°C.

また、特開平1−165050号では、一対の基板を所
定のホットメルト型接着剤により一体化する旨が提案さ
れている。
Furthermore, Japanese Patent Laid-Open No. 1-165050 proposes that a pair of substrates be integrated using a predetermined hot melt adhesive.

さらに、特開平1−143033号公報では、一対の基
板を紫外線架橋性ホットメルト型接着剤により貼りあわ
せる旨が提案されている。
Furthermore, JP-A-1-143033 proposes bonding a pair of substrates together using an ultraviolet crosslinkable hot melt adhesive.

同公報に開示されている光ディスクの製造方法は、紫外
線架橋性ホットメルト型接着剤を一方の基板だけに塗布
し、紫外線を照射した後、他方の基板を貼りあわせると
いうものである。
The method for manufacturing an optical disk disclosed in this publication involves applying an ultraviolet crosslinkable hot melt adhesive to only one substrate, irradiating it with ultraviolet light, and then bonding the other substrate.

また、同公報記載の実施例では、ビット記録情報部を有
する基板にアルミニウムを蒸着した再生専用光ディスク
を作製している。
Further, in the embodiment described in the same publication, a read-only optical disk is manufactured by depositing aluminum on a substrate having a bit recording information section.

〈発明が解決しようとする課題〉 光ディスク、特に光記録ディスクの基板上には、ガラス
や金属等の異なる材質からなる構成層が、通常、多層構
造にて設層される。
<Problems to be Solved by the Invention> On the substrate of an optical disk, particularly an optical recording disk, constituent layers made of different materials such as glass and metal are usually formed in a multilayer structure.

このため、例えば光ディスクを高温ないし低温下に保存
すると、基板、保護基板、さらには記録層、保護コート
、接着剤層等の構成層に反り、応力、歪等が発生する。
For this reason, for example, when an optical disk is stored at high or low temperatures, warping, stress, distortion, etc. occur in the substrate, protective substrate, and constituent layers such as the recording layer, protective coat, and adhesive layer.

従って、例えば−30〜65℃、20℃/秒で温度変化
する苛酷な熱的条件下では、基板と基板、基板と保護基
板、あるいはこれらと各構成層、さらには構成層と構成
層とが剥離してしまうことになる。
Therefore, under severe thermal conditions where the temperature changes at -30 to 65°C at a rate of 20°C/second, substrates, substrates and protective substrates, or these and each constituent layer, or even constituent layers and constituent layers, may It will come off.

このように従来の光ディスクに用いられる接着剤により
一体化された光ディスクは、苛酷な熱的条件下での信頼
性が不十分である。
Optical discs that are integrated using adhesives used in conventional optical discs have insufficient reliability under severe thermal conditions.

本発明の目的は、例えば−30〜65℃、20℃/秒で
温度変化する苛酷な熱的条件下に保存しても、基板と基
板、基板と保護基板、これらと各構成層、さらには構成
層同士が剥離することがなく、信頼性の高い光ディスク
を提供することにある。
The object of the present invention is to maintain the structure of substrates, substrates and protective substrates, and their respective constituent layers even when stored under severe thermal conditions such as -30 to 65°C and temperature changes of 20°C/second. The object of the present invention is to provide a highly reliable optical disc in which constituent layers do not peel off from each other.

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は下記の(1)〜(4)の本発明によっ
て達成される。
<Means for Solving the Problems> Such objects are achieved by the following inventions (1) to (4).

(1)一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
担持部を形成し、この情報担持部が内封されるように、
前記一対の基板を接着剤層を介して一体化した光ディス
クであって、前記接着剤層が放射線硬化性ホットメルト
型接着剤から構成されており、この接着剤層のガラス転
移温度Tgが一10℃以下であり、弾性率が一20℃、
10Hzにて100 kgf/lr+rn”以下であり
、力学的損失係数tanδが一20℃、10Hzにて0
.1以上であることを特徴とする光ディスク。
(1) having a pair of substrates, forming an information carrying part on at least one of the substrates, so that the information carrying part is enclosed;
An optical disc in which the pair of substrates are integrated via an adhesive layer, the adhesive layer being made of a radiation-curable hot melt adhesive, and the adhesive layer having a glass transition temperature Tg of -110 ℃ or less, the elastic modulus is -20℃,
100 kgf/lr+rn" or less at 10Hz, and the mechanical loss coefficient tan δ is 0 at -20℃ and 10Hz.
.. 1 or more.

(2)前記一対の基板のそれぞれに接着剤を塗布し、放
射線硬化した後、側基板を一体化して形成された上記(
1)に記載の光ディスク。
(2) After applying adhesive to each of the pair of substrates and curing with radiation, the side substrates are integrated.
The optical disc described in 1).

(3)前記情報担持部が記録層である上記(1)または
(2)に記載の光ディスク。
(3) The optical disc according to (1) or (2) above, wherein the information carrying section is a recording layer.

(4)前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
層上に樹脂製の保護コートが設層されている上記(1)
ないしく3)のいずれかに記載の光ディスク。
(4) The above (1), wherein the recording layer contains a rare earth metal element, and a protective coat made of resin is provided on the recording layer.
The optical disc according to any one of 3) to 3).

〈作用〉 本発明の光ディスクは、情報担持部が内封されるように
、一対の基板を放射線硬化性ホットメルト型接着剤から
構成される接着剤層により貼りあわせて作製される。
<Function> The optical disc of the present invention is manufactured by bonding a pair of substrates together using an adhesive layer made of a radiation-curable hot-melt adhesive so that the information carrying portion is encapsulated therein.

放射線硬化性ホットメルト型接着剤を用いることにより
、エポキシ系接着剤やウレタン系接着剤で問題であった
硬化速度の遅さが改善され、また、紫外線硬化型接着剤
で問題であったモノマー成分による記録層や基板の侵食
の恐れがな(なり、さらに、ホットメルト型接着剤で問
題であった耐熱性の低さが改善される。
By using radiation-curable hot-melt adhesives, the slow curing speed that was a problem with epoxy adhesives and urethane adhesives has been improved, and the monomer component that has been a problem with UV-curable adhesives has been improved. There is no fear of corrosion of the recording layer or substrate due to the adhesive, and the problem of low heat resistance, which was a problem with hot melt adhesives, is improved.

そして、本発明の光ディスクの接着剤層は、所定のガラ
ス転移温度Tg、弾性率および力学的損失係数tanδ
を有するので、温度変化等によって生じる基板と基板と
の間、あるいはこれらと各構成層との間、さらには構成
層と構成層との間の応力や歪み等が接着剤層により吸収
あるいは緩和される。
The adhesive layer of the optical disc of the present invention has a predetermined glass transition temperature Tg, elastic modulus, and mechanical loss coefficient tanδ.
Therefore, stress or strain, etc. between the substrates, between these and each constituent layer, or between the constituent layers, caused by temperature changes, etc., is absorbed or alleviated by the adhesive layer. Ru.

従って、例えば−30〜65℃、20℃/秒で温度変化
する苛酷な熱的条件下に保存する場合であっても基板と
基板、これらと各構成層および構成層と構成層との剥離
を完全に防止することができ、高い信頼性を得ることが
できる。
Therefore, even when the substrates are stored under severe thermal conditions where the temperature changes at -30 to 65°C at a rate of 20°C/second, peeling between the substrates, each constituent layer, and each constituent layer is prevented. It can be completely prevented and high reliability can be obtained.

なお、本発明における情報担持部とは、再生専用ディス
クにおけるように、情報を予め担持しているもの、およ
び記録・再生ディスクにおけるように情報を担持させつ
る記録層の双方を指すものである。
Note that the information carrying section in the present invention refers to both a section that carries information in advance, as in a read-only disk, and a recording layer that carries information, as in a recording/playback disk.

く具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。Specific composition> Hereinafter, the specific configuration of the present invention will be explained in detail.

第1図に、本発明の光ディスクの好適実施例として、光
磁気記録ディスクの1例を示す。
FIG. 1 shows an example of a magneto-optical recording disk as a preferred embodiment of the optical disk of the present invention.

第1図に示される光磁気記録ディスク1は、保護層4、
中間層5、情報担持部としての記録層6、保護層7およ
び保護コート8が順次形成されている2枚の基板2が、
記録層6が内側になるように接着剤層9により接着され
た構成を有する。
The magneto-optical recording disk 1 shown in FIG. 1 includes a protective layer 4,
Two substrates 2 on which are sequentially formed an intermediate layer 5, a recording layer 6 as an information bearing section, a protective layer 7 and a protective coat 8,
It has a configuration in which the recording layer 6 is bonded with an adhesive layer 9 so as to be on the inside.

本発明において、基板2は、記録光および再生光に対し
て透明なものであり、樹脂製あるいはガラス製とする。
In the present invention, the substrate 2 is transparent to recording light and reproduction light, and is made of resin or glass.

基板2の形状は、ディスク状であり、その直径は、通常
、50〜360mm程度であり、その厚さは、0.5〜
2+am程度である。
The shape of the substrate 2 is a disk, and its diameter is usually about 50 to 360 mm, and its thickness is about 0.5 to 360 mm.
It is about 2+am.

基板2を樹脂製とする場合は、剛性の樹脂を用いる。When the substrate 2 is made of resin, a rigid resin is used.

この場合、用いる樹脂に制限はないが、例えばアクリル
樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリメチルペ
ンテン、ポリオレフィン等が好適である。
In this case, the resin used is not limited, but acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin, polymethylpentene, polyolefin, etc. are suitable, for example.

基板2は公知の方法に従い製造すればよい。The substrate 2 may be manufactured according to a known method.

例えば樹脂製基板の場合には、射出成形等を用い、基板
表面に、トラッキング用、アドレス用等のためにビット
あるいはグループ等の所定のパターンを同時に形成すれ
ばよい。
For example, in the case of a resin substrate, a predetermined pattern such as bits or groups for tracking, addressing, etc. may be simultaneously formed on the substrate surface using injection molding or the like.

基板2をガラス製とする場合は、強化ガラスから構成す
ることが好ましい。 強化ガラスを用いることにより、
より高い剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。
When the substrate 2 is made of glass, it is preferably made of tempered glass. By using tempered glass,
Higher rigidity, better weather resistance, and durability can be obtained.

ガラス製の基板2を用いる場合は、基板2上には、樹脂
層が設層されることが好ましい。
When using the glass substrate 2, it is preferable that a resin layer is provided on the substrate 2.

樹脂層は、その表面に、トラッキング用、アドレス用等
のために、ビットあるいはグループ等の所定のパターン
を有する。 なお、樹脂層を設けず、化学エツチング等
により所定のパターンを形成してもよい。
The resin layer has a predetermined pattern such as bits or groups on its surface for tracking, addressing, and the like. Note that a predetermined pattern may be formed by chemical etching or the like without providing a resin layer.

樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はなく、いわゆる
2P法に用いられる公知の樹脂から適当に選択すればよ
い。
There is no particular restriction on the resin material constituting the resin layer, and it may be appropriately selected from known resins used in the so-called 2P method.

このような樹脂層の設層は、公知の2P法により行なえ
ばよい。
The formation of such a resin layer may be performed by the well-known 2P method.

中間層5はC/N比を向上させるために設けられ、各種
誘電体物質から形成されることが好ましく、その層厚は
30〜150nm程度であることが好ましい、 また、
設層方法とじては、スパッタ法等の気相成膜法を用いる
ことが好ましい。
The intermediate layer 5 is provided to improve the C/N ratio, and is preferably formed from various dielectric materials, and preferably has a layer thickness of about 30 to 150 nm.
As the layer forming method, it is preferable to use a vapor phase film forming method such as a sputtering method.

なお、このような中間層材質を後述する記録層6の上に
保護層7として設けて、前記中間層5と併用することも
できる。 併用する場合には、中間層5と保護層7の組
成は同一であっても異なっていてもよい。
Note that such an intermediate layer material may be provided as a protective layer 7 on a recording layer 6 to be described later, and used in combination with the intermediate layer 5. When used together, the compositions of the intermediate layer 5 and the protective layer 7 may be the same or different.

保護層4および保護層7は、記録層6の耐食性向上のた
めに設けられるものであり、これらは少なくとも一方、
好ましくは両方が設けられることが好ましい。 これら
保護層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるい
はこれらの混合物からなる無機薄膜から構成されること
が好ましい。 また、前述したように、上記の中間層材
質で形成してもよい。 保護層の層厚は30〜300 
nm程度であることが耐食性向上の点から好ましい。
The protective layer 4 and the protective layer 7 are provided to improve the corrosion resistance of the recording layer 6, and at least one of them is
Preferably both are provided. These protective layers are preferably composed of inorganic thin films made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides, or mixtures thereof. Further, as described above, the intermediate layer may be formed of the above-mentioned materials. The thickness of the protective layer is 30 to 300
It is preferable that the thickness is about nm from the viewpoint of improving corrosion resistance.

このような保護層は、スパッタ法等の各種気相成膜法等
によって形成されることが好ましい。
Such a protective layer is preferably formed by various vapor phase deposition methods such as sputtering.

記録層6は、変調された熱ビームあるいは変調された磁
界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記録
情報は磁気−光変換して再生されるものである。
Information is magnetically recorded in the recording layer 6 using a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.

言己録層6は、光磁気記録が行なえるものであればその
材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合
金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッタ、
蒸着法等により、非晶質膜として形成したものであるこ
とが好ましい。
The material for the recording layer 6 is not particularly limited as long as it can perform magneto-optical recording, but alloys containing rare earth metal elements, particularly alloys of rare earth metals and transition metals, can be used by sputtering,
It is preferable that the film be formed as an amorphous film by a vapor deposition method or the like.

希土類金属としては、Tb、Dy、Nd、Gd、Sm、
Ceのうちの1種以上を用いることが好ましい。
Rare earth metals include Tb, Dy, Nd, Gd, Sm,
It is preferable to use one or more types of Ce.

遷移金属としては、FeおよびCOが好ましい。As the transition metal, Fe and CO are preferred.

この場合、FeとCOの総合有量は、65〜85at%
であることが好ましい。
In this case, the total amount of Fe and CO is 65 to 85 at%
It is preferable that

そして、残部は実質的に希土類金属である。The remainder is substantially rare earth metal.

好適に用いられる記録層の組成として は、TbFeCo、DyTbFeCo。Composition of the recording layer suitably used are TbFeCo and DyTbFeCo.

NdDyFeCo、NdGdFeCo等がある。Examples include NdDyFeCo and NdGdFeCo.

なお、記録層中には、10at%以下の範囲でCr、A
ff、Ti%Pt1S i、Mo、M n 。
In addition, the recording layer contains Cr and A in a range of 10 at% or less.
ff, Ti%Pt1S i, Mo, M n .

■、Ni、Cu、Zn、Ge、Au等が含有されてもよ
い。
(2) Ni, Cu, Zn, Ge, Au, etc. may be contained.

また、10at%以下の範囲で、Sc、Y、La、Ce
、Pr%Pm、Sm、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、
Lu等の他の希土類金属元素を含有してもよい。
In addition, in the range of 10at% or less, Sc, Y, La, Ce
, Pr%Pm, Sm, Eu, Ho, Er, Tm, Yb,
It may also contain other rare earth metal elements such as Lu.

このような記録層6の層厚は、通常、10〜500 n
m程度である。
The thickness of such a recording layer 6 is usually 10 to 500 nm.
It is about m.

このような記録層は、蒸着法、スパッタ法、イオンブレ
ーティング法等のドライコーティング方式等を用いて設
層すればよい。
Such a recording layer may be formed using a dry coating method such as a vapor deposition method, a sputtering method, an ion blating method, or the like.

保護コート8は耐食性や耐擦傷性の向上のために設けら
れるものであり、種々の有機系の物質から構成されるこ
とが好ましいが、特に、放射線硬化型化合物を含有する
組成物を放射線硬化させた物質から構成されることが好
ましい。
The protective coat 8 is provided to improve corrosion resistance and scratch resistance, and is preferably composed of various organic substances, but in particular, it is made of a composition containing a radiation-curable compound that is cured by radiation. Preferably, it is made of a material that is

放射線硬化型化合物を含有する組成物としては、エポキ
シ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物が好
ましい。
As the composition containing the radiation-curable compound, a composition containing an epoxy resin and a photocationic polymerization catalyst is preferable.

エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく
、特に、分子内に2個以上のエポキシ基を有するものが
好ましい。
As the epoxy resin, alicyclic epoxy resins are preferred, and those having two or more epoxy groups in the molecule are particularly preferred.

脂環式エポキシ樹脂としては、3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル)アジペート、ビス−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)アジペート、2− (3,4−エポキシシ
クロへキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シ
クロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポ
キシシクロベンチル)エーテル、ビニルシクロヘキセン
ジオキシド等の1種以上が好ましい。
As the alicyclic epoxy resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis-(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis-(3,4-epoxycyclohexyl) adipate, 1 such as 2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane-meta-dioxane, bis(2,3-epoxycyclobentyl)ether, vinylcyclohexene dioxide, etc. More than one species is preferred.

脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが
、良好な硬化性が得られることから、60〜300、特
に100〜200であることが好ましい。
Although there is no particular restriction on the epoxy equivalent of the alicyclic epoxy resin, it is preferably from 60 to 300, particularly from 100 to 200, since good curability can be obtained.

光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いても
よく、特に制限はない。
Any known cationic photopolymerization catalyst may be used and is not particularly limited.

例えば、1種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ
化ホウ素の錯体、ビス(ペルフルオロアルキルスルホニ
ル)メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、6A
族元素の芳香族オニウム塩、5A族元素の芳香族オニウ
ム塩、3A族〜5A族元素のジカルボニルキレート、チ
オピリリウム塩、M F sアニオン(ただしMは、P
、Asまたはsb)を有する6A族元素、トリアリール
スルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族ス
ルホニウム錯塩等を用いることができ、特に、ボリアリ
ールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族
スルホニウム塩またはイオドニウム塩、3A族元素、5
A族元素および6A族元素の芳香族オニウム塩の1種以
上を用いることが好ましい。
For example, complexes of one or more metal fluoroborates and boron trifluoride, bis(perfluoroalkylsulfonyl)methane metal salts, aryldiazonium compounds, 6A
Aromatic onium salts of group elements, aromatic onium salts of group 5A elements, dicarbonyl chelates of group 3A to 5A elements, thiopyrylium salts, M F s anions (where M is P
, As or sb), triarylsulfonium complex salts, aromatic iodonium complex salts, aromatic sulfonium complex salts, etc. can be used. In particular, polyarylsulfonium complex salts, aromatic sulfonium salts of halogen-containing complex ions, or iodonium complex salts can be used. salt, group 3A elements, 5
It is preferable to use one or more aromatic onium salts of Group A elements and Group 6A elements.

また、有機金属化合物と光分解性を有する有機けい素化
合物とを含有する光カチオン重合触媒も用いることがで
きる。 このような光カチオン重合触媒は非強酸系であ
るため、光磁気記録ディスク等の腐食性の高い記録層に
対する悪影響を避けることができる。
Further, a photocationic polymerization catalyst containing an organometallic compound and a photodegradable organosilicon compound can also be used. Since such a photocationic polymerization catalyst is non-strongly acidic, it can avoid adverse effects on highly corrosive recording layers of magneto-optical recording disks and the like.

有機金属化合物としては、Ti、V、Cr、Mn、Fe
、Co、Ni、Cu、Zn、Aj2、Zr等の金属原子
に、アルコキシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等
が結合した錯体化合物が好ましい。 これらのうち特に
有機アルミニウム化合物が好ましく、具体的には、トリ
スメトキシアルミニウム、トリスプロピオナトアルミニ
ウム、トリストリフルオロアセチルアルミニウム、トリ
スエチルアセトアセトナトアルミニウムが好ましい。
Examples of organometallic compounds include Ti, V, Cr, Mn, and Fe.
, Co, Ni, Cu, Zn, Aj2, Zr, etc., and a complex compound in which an alkoxy group, phenoxy group, β-diketonato group, etc. is bonded is preferable. Among these, organoaluminum compounds are particularly preferred, and specifically, trismethoxyaluminum, trispropionatoaluminum, tristrifluoroacetylaluminum, and trisethylacetoacetonatoaluminum are preferred.

光分解性を有する有機けい素化合物は、紫外線等の光照
射によりシラノールを生じるものであり、ペルオキシシ
ラノ基、0−ニトロベンジル基、α−ケトシリル基等を
有するけい素化合物が好ましい。
The photodecomposable organosilicon compound is one that generates silanol upon irradiation with light such as ultraviolet rays, and is preferably a silicon compound having a peroxysilano group, an 0-nitrobenzyl group, an α-ketosilyl group, or the like.

組成物中の光カチオン重合触媒の含有量は、エポキシ樹
脂100重量部に対し、o、05〜0.7重量部、特に
0.1〜0.5重量部であることが好ましい。
The content of the photocationic polymerization catalyst in the composition is preferably from 0.05 to 0.7 parts by weight, particularly from 0.1 to 0.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

このような組成物の塗膜は、通常、スピンナーコート、
グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々
の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。 この時
の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的と
する塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
Coatings of such compositions are typically spinner coats,
The layer may be formed by combining various known methods such as gravure coating, spray coating, and dipping. The conditions for forming the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of coating film composition, the intended coating thickness, etc.

塗膜の硬化に用いる放射線は、用いる放射線硬化型化合
物に応じて決定すればよいが、上記した組成物では紫外
線により行なうことが好ましい。
The radiation used for curing the coating film may be determined depending on the radiation-curable compound used, but in the case of the above-mentioned compositions, it is preferable to use ultraviolet rays.

保護コート8の膜厚は0.1〜1oou、より好ましく
は5〜30−程度とすることが好ましい。
The thickness of the protective coat 8 is preferably about 0.1 to 1 oou, more preferably about 5 to 30 mm.

この膜厚が0.1−未満になると、−様な膜を形成でき
ず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でな(、記
録層の耐久性が向上しない。 また、100−をこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中にクラックが生じることになる。
If this film thickness is less than 0.1-, it will not be possible to form a -like film, and the moisture-proofing effect will not be sufficient in a humid atmosphere (and the durability of the recording layer will not improve. If it exceeds this, the shrinkage that accompanies the curing of the resin film will cause warping of the recording medium and cracks in the protective film.

接着剤層9は、放射線硬化性ホットメルト型接着剤から
構成される。
The adhesive layer 9 is made of a radiation-curable hot-melt adhesive.

接着剤層9のガラス転移温度Tgは、−10℃以下、好
ましくは一15℃以下とする。
The glass transition temperature Tg of the adhesive layer 9 is -10°C or lower, preferably -15°C or lower.

Tgが前記範囲をこえると、低温、例えば−10℃以下
で接着力が消失してしまう。
If Tg exceeds the above range, the adhesive strength will disappear at low temperatures, for example -10°C or lower.

なお、Tgが低くなるとフローポイント(FP)も低下
する。 FPとは、接着剤が流動する温度である。 通
常のホットメルト型接着剤では、Tgが一60℃未満と
なると、FPが低(なりすぎ、高温、例えば45〜60
℃程度で接着剤が流出してしまう。 一方、放射線硬化
性ホットメルト型接着剤では、放射線照射によりTgは
殆ど変化しないがFPは大きく向上するため、Tgの下
限は特にないが、通常、Tgは一60℃以上である。
Note that as Tg decreases, flow point (FP) also decreases. FP is the temperature at which the adhesive flows. With normal hot melt adhesives, if the Tg is less than 160°C, the FP will be low (too high, for example 45 to 60°C).
The adhesive will flow out at temperatures around ℃. On the other hand, in the case of radiation-curable hot-melt adhesives, the Tg hardly changes by radiation irradiation, but the FP greatly improves, so there is no particular lower limit to the Tg, but the Tg is usually -60° C. or higher.

また、接着剤層9の弾性率は、−20℃、10Hzにて
100 kgf/a+m”以下、好ましくは3〜l O
Okgf/mm”とする。 前記範囲をこえると、基板
2と基板2との間、あるいは、これらと保護コート8等
の各構成層間、さらには構成層と構成層間に生じる応力
や歪を接着剤層9により吸収あるいは緩和することが困
難である。 例えば、−30〜65℃、20℃/秒で温
度が変化する苛酷な条件下に置くと、保護コート8等の
構成層が基板2あるいは他の構成層から剥離してしまう
。 また、弾性率があまり低いと高温側での弾性率がさ
らに減少し、接着力が低下してしまう。
Further, the elastic modulus of the adhesive layer 9 is 100 kgf/a+m" or less at -20°C and 10 Hz, preferably 3 to 1 O
If the above range is exceeded, the stress or strain occurring between the substrates 2, between these and each of the constituent layers such as the protective coat 8, or between the constituent layers may be reduced by using an adhesive. For example, if placed under severe conditions in which the temperature changes from -30 to 65°C at a rate of 20°C/sec, the constituent layers such as the protective coat 8 may be absorbed by the substrate 2 or other layers. In addition, if the elastic modulus is too low, the elastic modulus at high temperatures will further decrease, resulting in a decrease in adhesive strength.

このため弾性率は、前記のとおり3〜 100 kgf/m+a”であることが好ましい。Therefore, the elastic modulus is 3 to 3 as mentioned above. It is preferably 100 kgf/m+a''.

さらに接着剤層9の力学的損失係数tanδは、−20
℃、10Hzにて0.1以上、好ましくは0.2〜1.
5とする。 前記範囲未満では粘着性が低く、十分な接
着強度を得ることが困難である。 例えば、−30〜6
5℃、2゜℃/秒で温度が変化する苛酷な条件下に置く
と、接着剤層9が、基板2あるいは保護コート8等の構
成層から剥離してしまう、 また、tanδがあまり高
いと基板2の反り、あるいは衝撃等の外部応力が働いた
場合に、両基板の間にずれが起こる可能性がある。
Furthermore, the mechanical loss coefficient tan δ of the adhesive layer is -20
℃, 0.1 or more, preferably 0.2 to 1.
5. If it is less than the above range, the adhesiveness will be low and it will be difficult to obtain sufficient adhesive strength. For example, -30 to 6
If the adhesive layer 9 is placed under severe conditions where the temperature changes at a rate of 5°C and 2°C/sec, the adhesive layer 9 will peel off from the constituent layers such as the substrate 2 or the protective coat 8. Also, if the tan δ is too high, If the substrate 2 is warped or an external stress such as an impact is applied, there is a possibility that a shift will occur between the two substrates.

このためtanδは、前記のとおり0.2〜1.5であ
ることが好ましい。
Therefore, tan δ is preferably 0.2 to 1.5 as described above.

Tg、FP、弾性率および力学的損失係数tanδは以
下のようにして測定される。
Tg, FP, elastic modulus, and mechanical loss coefficient tanδ are measured as follows.

接着剤を例えば離型紙上にロールコータ等を用い、厚さ
100〜500μとなるように塗布する。 次いで、紫
外線等の放射線を光デイスク作製時と同条件にて照射し
、硬化する。 硬化後、接着剤を離型紙から剥離して接
着剤層サンプルとする。 このサンプルについて、粘弾
性測定装置を用い、強制振動法により加振周波数10H
z(正弦波)にて、−50〜80℃間で測定する。 こ
の場合、Tgは損失弾性率E″のピークを生じる温度よ
り求め、FPは、7g以上の高温側での弾性率E′が急
激に減少する温度より求める。
For example, the adhesive is applied onto release paper using a roll coater or the like to a thickness of 100 to 500 μm. Next, it is irradiated with radiation such as ultraviolet rays under the same conditions as when producing the optical disk, and is cured. After curing, the adhesive is peeled off from the release paper to obtain an adhesive layer sample. For this sample, using a viscoelasticity measuring device, an excitation frequency of 10H was measured using the forced vibration method.
Measurement is performed between -50 and 80°C using z (sine wave). In this case, Tg is determined from the temperature at which the loss modulus E'' peaks, and FP is determined from the temperature at which the elastic modulus E' sharply decreases on the high temperature side of 7 g or higher.

本発明で用いる放射線硬化性ホットメルト型接着剤とし
ては、ホットメルト型樹脂ベースポリマー、放射線硬化
性成分および光重合開始剤を含有するものが好ましい。
The radiation-curable hot-melt adhesive used in the present invention preferably contains a hot-melt resin base polymer, a radiation-curable component, and a photopolymerization initiator.

ホットメルト型樹脂ベースポリマーとしては、常温で粘
着性を有するものであれば特に制限はないが、熱可塑性
ブロック共重合エラストマーを用いることが好ましい。
The hot-melt resin base polymer is not particularly limited as long as it has tackiness at room temperature, but it is preferable to use a thermoplastic block copolymer elastomer.

熱可塑性ブロック共重合エラストマーのブロック構成要
素としては、ポリスチレン、ポリブタジェン、ポリイソ
プレン、エチレン−ブチレン共重合体等が好ましく、こ
れらの1種以上を用いることが好ましい。
As the block component of the thermoplastic block copolymerized elastomer, polystyrene, polybutadiene, polyisoprene, ethylene-butylene copolymer, etc. are preferable, and it is preferable to use one or more of these.

特に、分子量2000〜12500程度のポリスチレン
と、分子量1000〜250000程度のポリブタジェ
ン、ポリイソプレンまたはエチレン−ブチレン共重合体
とのブロック共重合エラストマーであることが好ましい
。 また、ブロック共重合エラストマーの分子量は30
00〜50万程度であることが好ましい。
Particularly preferred is a block copolymer elastomer of polystyrene with a molecular weight of about 2,000 to 12,500 and polybutadiene, polyisoprene, or ethylene-butylene copolymer with a molecular weight of about 1,000 to 250,000. In addition, the molecular weight of the block copolymer elastomer is 30
It is preferable that it is about 000,000 to 500,000.

また、ホットメルト型樹脂ベースポリマーには、これら
の熱可塑性ブロック共重合エラストマーの他、インブレ
ンゴム、スチレンゴム、ブタジェンゴム、ブチルゴム等
の合成ゴム、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
−ビニルアセテート共重合体等のポリオレフィンやポリ
オレフィン系共重合体などの1種以上が必要に応じて含
有されることが好ましい。
In addition to these thermoplastic block copolymer elastomers, hot-melt resin base polymers include synthetic rubbers such as inbrene rubber, styrene rubber, butadiene rubber, butyl rubber, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene-vinyl acetate copolymers. It is preferable that one or more types of polyolefin copolymers and the like are contained as necessary.

放射線硬化性成分としては、放射線感応性を示す二重結
合を有するアクリロイル基を1分子中に少なくとも1つ
有する飽和炭化水素系樹脂のオリゴマーが好ましい。
As the radiation-curable component, an oligomer of a saturated hydrocarbon resin having at least one acryloyl group having a double bond exhibiting radiation sensitivity in one molecule is preferable.

このようなオリゴマーとしては、例えば、水添ポリブタ
ジェン、ポリブテン、水添ポリイソプレン、ポリイソブ
チレン等の1分子中に少なくとも1つの水酸基またはカ
ルボキシル基を含有する飽和炭化水素系樹脂オリゴマー
のアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアク
リレートまたはエステルアクリレートが好ましく、これ
らの1種以上を用いることが好ましい。
Examples of such oligomers include acrylates, urethane acrylates of saturated hydrocarbon resin oligomers containing at least one hydroxyl group or carboxyl group in one molecule, such as hydrogenated polybutadiene, polybutene, hydrogenated polyisoprene, and polyisobutylene. Epoxy acrylate or ester acrylate is preferred, and it is preferred to use one or more of these.

接着剤中のホットメルト型樹脂ベースポリマーと放射線
硬化性成分との比率は、ホットメルト型樹脂ベースポリ
マー100重量部に対し放射線硬化性成分が5〜100
重量部、特に10〜40重量部であることが好ましい。
The ratio of the hot melt type resin base polymer and the radiation curable component in the adhesive is 5 to 100 parts by weight of the radiation curable component per 100 parts by weight of the hot melt type resin base polymer.
It is preferably 10 to 40 parts by weight, particularly 10 to 40 parts by weight.

 放射線硬化性成分が前記範囲未満であると、接着剤の
耐熱性向上が不十分となる傾向にあり、前記範囲を超え
ると粘着性が不十分となる傾向にある。
When the radiation-curable component is less than the above range, the heat resistance of the adhesive tends to be insufficiently improved, and when it exceeds the above range, the adhesiveness tends to be insufficient.

光重合開始剤としては、紫外線等の放射線照射によりラ
ジカルを発生する通常の光重合開始剤を用いればよ(、
例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系、ベンゾ
フェノン、p−メトキシベンゾフェノン、p−ブロモベ
ンゾフェノン等のベンゾフェノン系、ベンジルメチルケ
タール、2.2−ジェトキシアセトフェノン、l、1−
ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン系、2−ク
ロロチオキサントン等のチオキサントン系、アントラキ
ノン、フエナントラキノン等のキノン系、ベンジルジス
ルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等のス
ルフィド系などが挙げられる。
As the photopolymerization initiator, a normal photopolymerization initiator that generates radicals when irradiated with radiation such as ultraviolet rays may be used.
For example, benzoin ethers such as benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether, benzophenones such as benzophenone, p-methoxybenzophenone, and p-bromobenzophenone, benzyl methyl ketal, 2,2-jethoxyacetophenone, l, 1-
Examples include acetophenone types such as dichloroacetophenone, thioxanthone types such as 2-chlorothioxanthone, quinone types such as anthraquinone and phenanthraquinone, and sulfide types such as benzyl disulfide and tetramethylthiuram monosulfide.

光重合開始剤は、ホットメルト型樹脂ベースポリマーと
放射線硬化性成分との合計に対し、0.5〜5重量%で
あることが好ましい。
The amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.5 to 5% by weight based on the total of the hot-melt resin base polymer and the radiation-curable component.

さらに、これらの他、粘着付与剤が含有されることが好
ましい。 粘着付与剤としては、ロジン樹脂、クマロン
樹脂、水添石油樹脂、水添テルペン樹脂、フェノール樹
脂等の1種以上が好ましい。 水添タイプの粘着付与剤
は、相溶性が良好で、熱安定性に悪影響を与えず、また
、吸水率が低いので耐食性が良好である。
Furthermore, in addition to these, it is preferable that a tackifier is contained. As the tackifier, one or more of rosin resin, coumaron resin, hydrogenated petroleum resin, hydrogenated terpene resin, phenol resin, etc. is preferable. Hydrogenated tackifiers have good compatibility, do not adversely affect thermal stability, and have low water absorption, so they have good corrosion resistance.

粘着付与剤の含有量は、ホットメルト型樹脂ベースポリ
マー100重量部に対し5〜300重量部、特に10〜
150重量部であることが好ましい。
The content of the tackifier is 5 to 300 parts by weight, particularly 10 to 300 parts by weight, per 100 parts by weight of the hot-melt resin base polymer.
Preferably it is 150 parts by weight.

また、さらに、必要に応じて軟化剤が含有されることが
好ましい。 軟化剤としては、プロセス油、パラフィン
油、ポリブテン、ポリイソブチレン等の1種以上が好ま
しい。
Furthermore, it is preferable that a softener is further contained as needed. As the softener, one or more of process oil, paraffin oil, polybutene, polyisobutylene, etc. is preferred.

なお、可塑剤、ワックス、紫外線吸収剤、充填剤、老化
防止剤等の添加剤を必要に応じて加えてもよい。
Additionally, additives such as plasticizers, waxes, ultraviolet absorbers, fillers, and anti-aging agents may be added as necessary.

これらの接着剤構成成分を適宜選択して組み合わせるこ
とにより、接着剤層の物性を前記した範囲とすることが
できる。
By appropriately selecting and combining these adhesive constituents, the physical properties of the adhesive layer can be controlled within the ranges described above.

上記した放射線硬化性ホットメルト型接着剤により基板
を貼りあわせる際には、下記の方法を用いることが好ま
しい。
When bonding substrates together using the radiation-curable hot-melt adhesive described above, it is preferable to use the following method.

接着剤は、ホットメルト型接着剤用のロールコータ等に
より溶融状態にて基板表面に塗布する。
The adhesive is applied to the substrate surface in a molten state using a roll coater for hot melt adhesives or the like.

接着剤は、一対の基板のうち一方だけに塗布しても両方
に塗布してもよいが、好ましくは両方に塗布する。 こ
れは、接着剤の塗膜表面を平滑にすることが困難なため
である。
The adhesive may be applied to only one or both of the pair of substrates, but is preferably applied to both. This is because it is difficult to make the adhesive coating surface smooth.

すなわち、一方の基板だけに接着剤を塗布し、放射線硬
化後に他方の基板と貼りあわせた場合、接着剤層表面に
存在する凹凸により基板に歪が発生し易(、この歪によ
り光ディスクとして使用する際の面振れ加速度が太き(
なる。
In other words, if adhesive is applied to only one substrate and bonded to the other substrate after curing with radiation, the substrate is likely to become distorted due to the unevenness existing on the surface of the adhesive layer (this distortion may cause the disc to be used as an optical disc). The surface runout acceleration is large (
Become.

しかし、両方の基板に接着剤を塗布した場合、各基板の
接着剤層表面にはやはり凹凸が存在するが、これらを貼
りあわせると接着剤塗膜表面の凹凸が両接着剤層に吸収
され、基板に悪影響を与えることが少ない、 このため
、面振れ加速度を小さ(抑えることができる。
However, when adhesive is applied to both substrates, there are still unevenness on the surface of the adhesive layer of each substrate, but when these are bonded together, the unevenness on the surface of the adhesive coating is absorbed by both adhesive layers. It has little negative effect on the board, and therefore the surface runout acceleration can be kept small.

接着剤を基板に塗布後、放射線を照射する。After applying the adhesive to the substrate, it is irradiated with radiation.

放射線としては紫外線を用いることが好ましいが、電子
線を用いてもよい。
Although it is preferable to use ultraviolet rays as the radiation, electron beams may also be used.

紫外線の照射条件は、積算照射量で300〜5000 
mJ/ c+++”とすることが好ましい。 このよう
な条件にて紫外線硬化を行なうことにより、前記した物
性の接着剤層が容易に得られる。
The ultraviolet irradiation conditions are 300 to 5000 in cumulative irradiation amount.
mJ/c+++". By carrying out ultraviolet curing under such conditions, an adhesive layer having the above-mentioned physical properties can be easily obtained.

硬化後、側基板を重ねあわせ、例えば0.2〜20 k
gf/Cm”程度の圧力で押圧することにより接着し、
光ディスクを得る。
After curing, the side substrates are stacked together, e.g. 0.2~20k
Adhesive by pressing with a pressure of about gf/Cm,
Get an optical disc.

接着剤層9の厚さは、10〜100μ、特に50〜80
−とすることが好ましい。 接着剤層の厚さが前記範囲
未満であると接着力が不十分となる傾向にあり、前記範
囲をこえると耐久性が低下する傾向にある。
The thickness of the adhesive layer 9 is 10 to 100μ, especially 50 to 80μ
- is preferable. When the thickness of the adhesive layer is less than the above range, the adhesive force tends to be insufficient, and when it exceeds the above range, the durability tends to decrease.

本発明では前記したような物性の接着剤層で接着するこ
とにより、情報担持部としての記録層6や保護コート8
等の各構成層が形成されている基板2同士の強固な接着
が可能となる。
In the present invention, by adhering with an adhesive layer having the physical properties described above, the recording layer 6 and the protective coat 8 as an information carrying part are bonded together.
It becomes possible to firmly bond the substrates 2 on which the respective constituent layers such as the above are formed.

つまり、熱膨張等によって生じる基板2.2間や各構成
層相互間の応力や歪を、接着剤層9が吸収ないし緩和す
る。
In other words, the adhesive layer 9 absorbs or relieves the stress and strain between the substrates 2 and 2 and between each constituent layer caused by thermal expansion or the like.

このため、例えば本発明の光磁気記録ディスク1を一3
0〜65℃、20℃/秒で温度変化する苛酷な熱的条件
下に保存しても基板2,2問および各構成層相互間の剥
離を防止することができる。
For this reason, for example, the magneto-optical recording disk 1 of the present invention can be
Even when stored under severe thermal conditions in which the temperature changes from 0 to 65°C at a rate of 20°C/sec, peeling between the substrates 2 and each constituent layer can be prevented.

以上では、本発明の光ディスクを両面記録型の光磁気記
録ディスクに適用する場合を説明したが、本発明は片面
記録型の光磁気記録ディスクにも適用することができる
Although the case where the optical disk of the present invention is applied to a double-sided recording type magneto-optical recording disk has been described above, the present invention can also be applied to a single-sided recording type magneto-optical recording disk.

片面記録型の光磁気記録ディスクは、前述した各構成層
を有する基板2と保護基板とを、記録層が内側になるよ
うに接着した構成を有するものである。
A single-sided recording type magneto-optical recording disk has a structure in which a substrate 2 having each of the constituent layers described above and a protective substrate are bonded together so that the recording layer is on the inside.

この場合も、前述した両面記録型の光磁気記録ディスク
と同様の効果を得ることができる。
In this case as well, the same effects as those of the above-mentioned double-sided recording type magneto-optical recording disk can be obtained.

保護基板は、記録層の損傷等を有効に防止するために設
けられるものである。
The protective substrate is provided to effectively prevent damage to the recording layer.

保護基板は、樹脂製であってもガラス製であってもよ(
、不透明なものであってもよい。
The protective board may be made of resin or glass (
, may be opaque.

ガラス製保護基板の場合、前述した強化ガラス、特に化
学強化ガラスを用いることが好ましい。
In the case of a glass protective substrate, it is preferable to use the above-mentioned tempered glass, especially chemically strengthened glass.

また、樹脂製保護基板では、剛性の樹脂、例えば、ポリ
カーボネート、アクリル樹脂、ポリオレフィン等が好適
である。
Further, for the resin protective substrate, a rigid resin such as polycarbonate, acrylic resin, polyolefin, etc. is suitable.

保護基板の厚さは、剛性を確保するために、0.5〜2
.On+m程度とすることが好ましい。
The thickness of the protective substrate is 0.5 to 2 to ensure rigidity.
.. It is preferable to set it to about On+m.

そして、保護基板の形状は、基板2の形状に合わせれば
よい。
The shape of the protective substrate may be matched to the shape of the substrate 2.

本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層を有し
、反射率変化により記録・再生を行なう光記録ディスク
にも適用することができる。
The present invention can also be applied to optical recording disks that have a so-called phase change type recording layer and perform recording and reproduction by changing reflectance.

このような記録層としては、例えば、特公昭54−41
902号、特許第1004835号などに記載のTe、
Se系合金、特開昭58−54338号、特許第974
257号、特許第974258号、特許第974257
号記載のTe酸化物系、その他各種Te、Seを主体と
するカルコゲン系、 Ge−3n、5i−3n等の非晶質−結晶質転移を生じ
る合金 Ag−Zn、  Ag−Aj2−Cu、  Cu−Aj
2等の結晶構造変化によって色変化を生じる合金、In
−5b等の結晶粒径の変化を生じる合金などがある。
As such a recording layer, for example,
Te described in No. 902, Patent No. 1004835, etc.
Se-based alloy, JP-A-58-54338, Patent No. 974
No. 257, Patent No. 974258, Patent No. 974257
Te oxide system described in the above issue, various other chalcogen systems mainly composed of Te and Se, alloys that cause amorphous-crystalline transition such as Ge-3n and 5i-3n, Ag-Zn, Ag-Aj2-Cu, Cu -Aj
Alloys that change color due to changes in crystal structure, such as In
There are alloys that cause changes in crystal grain size, such as -5b.

この他、本発明は、再生専用の光ディスクにも適用可能
である。 ただし、本発明の効果が高い光ディスクは、
上記のうち情報担持部が記録層である光記録ディスクで
あり、最も効果が高い光ディスクは、希土類金属元素等
の腐食性の高い金属を含有する記録層を有する光記録デ
ィスクである。
In addition, the present invention is also applicable to read-only optical discs. However, the optical disc on which the present invention is highly effective is
Among the above optical recording disks, the information carrying portion is a recording layer, and the most effective optical disk is an optical recording disk having a recording layer containing a highly corrosive metal such as a rare earth metal element.

なお、保護コート8を介して基板2同士を接着するとき
には、発生する応力や歪を、接着剤層9に加えて保護コ
ート8も吸収するので、高温および低温における保存性
はきわめて高いものとなるという効果が発現する。
Note that when bonding the substrates 2 together via the protective coat 8, the protective coat 8 absorbs the stress and strain that occurs in addition to the adhesive layer 9, so the storage stability at high and low temperatures is extremely high. This effect appears.

さらに、保護コート8を前記した放射線硬化型樹脂で構
成すれば、同じく放射線硬化型樹脂で構成される接着剤
層との接着力が高くなる。
Furthermore, if the protective coat 8 is made of the above-mentioned radiation-curable resin, the adhesive force with the adhesive layer also made of the radiation-curable resin will be increased.

本発明の光ディスクは、100 rpm以上の回転速度
にて駆動されて記録や再生を行う。
The optical disc of the present invention is driven at a rotational speed of 100 rpm or more for recording and reproduction.

この際、記録や再生は公知の方式に従えばよい。At this time, recording and reproduction may be performed according to a known method.

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving specific examples of the present invention.

[実施例1] 第1図に示されるような光磁気記録ディスクを作製した
[Example 1] A magneto-optical recording disk as shown in FIG. 1 was manufactured.

まず、樹脂製の基板2に、ガラス保護層4、SiNxの
中間層5、TbFeCo記録層6、SiNx保護層71
3よび保護コート8を順次形成した。
First, a glass protective layer 4, an SiNx intermediate layer 5, a TbFeCo recording layer 6, and an SiNx protective layer 71 are placed on a resin substrate 2.
3 and protective coat 8 were sequentially formed.

樹脂製基板2は、材料にポリカーボネートを用い、外径
130mm、厚さ1.2mmのディスク状とした。
The resin substrate 2 was made of polycarbonate and had a disk shape with an outer diameter of 130 mm and a thickness of 1.2 mm.

基板2の製造は射出成形により行い、同時にその表面に
はトラッキング用グループを形成した。
The substrate 2 was manufactured by injection molding, and at the same time, tracking groups were formed on its surface.

また、保護層4、中間層5、記録層6および保護層7の
形成にはスパッタ法を用いた。
Further, a sputtering method was used to form the protective layer 4, intermediate layer 5, recording layer 6, and protective layer 7.

また、保護コート8は、脂環式エポキシ樹脂と光カチオ
ン重合触媒とを含有する組成物を塗布後、紫外線照射し
て架橋硬化させることにより、10μ厚に設層した。
The protective coat 8 was formed to a thickness of 10 μm by applying a composition containing an alicyclic epoxy resin and a cationic photopolymerization catalyst, and then irradiating it with ultraviolet rays to crosslink and cure the composition.

次いで、このようにして得られた2枚の基板を、記録層
が内側になるように接着した。
Next, the two substrates thus obtained were bonded together so that the recording layer was on the inside.

接着に際しては、まず、両基板の保護コート8表面に、
下記接着剤Aを同じ厚さに塗布した。 塗布にはロール
コータを用いた。
When adhering, first apply the protective coat 8 surface of both substrates.
Adhesive A below was applied to the same thickness. A roll coater was used for application.

次いで、接着剤に下記条件Aにて紫外線を照射した後、
基板同士を重ねあわせ、1.0kgf/cm”にて押圧
して接着した。
Next, after irradiating the adhesive with ultraviolet rays under the following condition A,
The substrates were overlapped and bonded by pressing at 1.0 kgf/cm''.

(接着剤A組成) ポリスチレン−ポリブタジェン 共重合体          30重量部イソブチレン
         10重量部両末端アクリロイル水添
ブタジ エンオリゴマー       20重量部水添ロジン樹
脂系粘着付与剤  30重量部ベンゾフェノン系光重合
開始剤  3重量部(紫外線照射条件A) 積算照射量1000 mj/ Cm” 基板搬送速度1 、5 m/win 2枚の基板間に存在する接着剤層の厚さは、70−であ
った。
(Adhesive A composition) Polystyrene-polybutadiene copolymer 30 parts by weight Isobutylene 10 parts by weight acryloyl hydrogenated butadiene oligomer at both ends 20 parts by weight Hydrogenated rosin resin tackifier 30 parts by weight Benzophenone photopolymerization initiator 3 parts by weight ( Ultraviolet irradiation conditions A) Cumulative irradiation dose: 1000 mj/cm'' Substrate transport speed: 1,5 m/win The thickness of the adhesive layer existing between the two substrates was 70-cm.

このようにして得られた光磁気記録ディスクを、サンプ
ルAとした。
The magneto-optical recording disk thus obtained was designated as Sample A.

サンプルAの接着剤層9のガラス転移温度Tg、−20
℃、10Hzでの弾性率および力学的損失係数tanδ
は表1に示されるとおりである。
Glass transition temperature Tg of adhesive layer 9 of sample A, -20
Elastic modulus and mechanical loss coefficient tan δ at ℃, 10 Hz
is as shown in Table 1.

なお、ガラス転移温度Tg、弾性率および力学的損失係
数tanδは、以下のようにして測定した。
Note that the glass transition temperature Tg, elastic modulus, and mechanical loss coefficient tan δ were measured as follows.

接着剤を離型紙上にロールコータを用いて厚さ300−
となるように塗布し、上記条件Aにて紫外線を照射し、
硬化させた。 得られた接着剤層を離型紙から剥離し、
台本製作所製粘弾性スペクトロメータにより、加振周波
数(正弦波)10Hzにて、−50〜80℃間で測定し
た。
Apply adhesive onto release paper to a thickness of 300 mm using a roll coater.
Apply it so that
hardened. Peel the obtained adhesive layer from the release paper,
Measurement was performed using a viscoelastic spectrometer manufactured by Script Seisakusho at an excitation frequency (sine wave) of 10 Hz at a temperature of -50 to 80°C.

サンプルAに対し、下記の試験および測定を行った。Sample A was subjected to the following tests and measurements.

(熱衝撃試験) サンプルを一30℃の雰囲気中に入れ30分間保存し、
その後、サンプルを入れたまま雰囲気の温度を5秒間で
65℃に昇温する。 そして、65℃の雰囲気中に30
分間保存後、5秒間で一30℃に冷却する。
(Thermal shock test) The sample was placed in an atmosphere of -30°C and stored for 30 minutes.
Thereafter, the temperature of the atmosphere is raised to 65° C. for 5 seconds with the sample still inside. Then, 30
After storing for 5 minutes, cool to -30°C for 5 seconds.

以上を1サイクルとし、20サイクル行った。The above was considered as one cycle, and 20 cycles were performed.

(サイクル試験) サンプルを温度−30℃の雰囲気中に入れ、4.5時間
保存する。 その後サンプルを入れたまま雰囲気の温度
を速度10℃/時間で65℃に昇温し、湿度を80%R
Hに保つ。 そして、65℃、80%RHの雰囲気中に
4.5時間保存後、速度10℃/時間で一30℃に冷却
する。
(Cycle test) The sample is placed in an atmosphere at a temperature of -30°C and stored for 4.5 hours. Afterwards, the temperature of the atmosphere was raised to 65°C at a rate of 10°C/hour with the sample still in it, and the humidity was reduced to 80%R.
Keep it at H. After being stored in an atmosphere of 65° C. and 80% RH for 4.5 hours, it was cooled to -30° C. at a rate of 10° C./hour.

以上を1サイクルとし、14サイクル行った。The above was considered as one cycle, and 14 cycles were performed.

(面振れ加速度測定) ディスク回転数を1800 rpmとし、ディスク中心
から半径30〜60mmの範囲において5II1m間隔
で測定した。 測定サンプル数は3個とし、最大面振れ
加速度の平均値を表1に示した。
(Measurement of surface runout acceleration) The disk rotation speed was 1800 rpm, and measurements were made at 5II 1 m intervals within a radius of 30 to 60 mm from the center of the disk. The number of measurement samples was three, and the average value of the maximum surface runout acceleration is shown in Table 1.

面振れ加速度は、フォーカシングサーボ時の光ピツクア
ップの加速度で表わされ、トラッキング用グループが形
成された基板の平坦度を示すものである。 この値は、
ISO規格では、外径130■の光磁気記録ディスクの
場合20m/s”以下、特に10園/s2以下であるこ
とが好ましい。
The surface runout acceleration is expressed by the acceleration of light pickup during focusing servo, and indicates the flatness of the substrate on which the tracking group is formed. This value is
According to the ISO standard, in the case of a magneto-optical recording disk with an outer diameter of 130 cm, the speed is preferably 20 m/s" or less, particularly 10 m/s2 or less.

これらの試験および測定の結果を、表1に示す。The results of these tests and measurements are shown in Table 1.

[比較例1] 接着剤として下記Bを用い、紫外線照射を下記条件Bに
て行ない、その他は実施例1と同様にして光磁気記録デ
ィスクサンプルBを作製した。
[Comparative Example 1] Magneto-optical recording disk sample B was produced in the same manner as in Example 1 except that the following B was used as the adhesive and ultraviolet irradiation was performed under the following conditions B.

(接着剤B組成) ウレタン系ポリマー      50重量部ウレタンア
クリレート オリゴマー         10重量部クマロン樹脂
系粘着付与剤   30重量部ベンゾフェノン系光重合
開始剤  2重量部(紫外線照射条件B) 積算照射量600 mj/ ca+” 基板搬送速度1.5m/win このサンプルBについて実施例1と同様な試験および測
定を行なった。
(Adhesive B composition) Urethane polymer 50 parts by weight Urethane acrylate oligomer 10 parts by weight Coumarone resin tackifier 30 parts by weight Benzophenone photopolymerization initiator 2 parts by weight (Ultraviolet irradiation condition B) Cumulative irradiation dose 600 mj/ca+" Substrate conveyance speed: 1.5 m/win Tests and measurements similar to those of Example 1 were performed on this sample B.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

[実施例2] 接着剤Aを一方の基板だけに塗布した他は実施例1と同
様にして光磁気記録ディスクサンプルCを作製した。
[Example 2] Magneto-optical recording disk sample C was produced in the same manner as in Example 1 except that adhesive A was applied to only one substrate.

このサンプルCについて実施例1と同様な試験および測
定を行なった。
The same tests and measurements as in Example 1 were performed on this sample C.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

表1に示される結果から、本発明の効果が明らかである
From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.

なお、樹脂製基板と樹脂製保護基板とを一体化した片面
記録型の光磁気記録ディスクについても試験を行ったと
ころ、前記実施例と同様の結果が得られた。
When a single-sided recording type magneto-optical recording disk in which a resin substrate and a resin protective substrate were integrated was also tested, the same results as in the above example were obtained.

〈発明の効果〉 本発明の光ディスクでは、情報担持部が内封されるよう
に一対の基板が一体化されるため、情報担持部、例えば
記録層の損傷を十分に防止することができる。
<Effects of the Invention> In the optical disc of the present invention, since the pair of substrates are integrated so that the information bearing part is enclosed, damage to the information bearing part, for example, the recording layer, can be sufficiently prevented.

また、接着剤層が放射線硬化性ホットメルト型接着剤か
ら構成されているため、作業時間が短くて済み、しかも
耐熱性が良好であり、また、基板への悪影響も少ない。
Furthermore, since the adhesive layer is made of a radiation-curable hot-melt adhesive, the working time is short, the heat resistance is good, and there is little adverse effect on the substrate.

そして、本発明の光ディスクでは、基板と基板とが所定
のガラス転移温度Tg、弾性率および力学的損失係数t
anδを有する接着剤層により一体化される。
In the optical disc of the present invention, the substrates have a predetermined glass transition temperature Tg, elastic modulus, and mechanical loss coefficient t.
They are integrated by an adhesive layer with an δ.

このため、例えば−30〜65℃、20℃/秒で温度変
化する苛酷な熱的条件下に保存する場合であっても、基
板と基板との間、あるいはこれらと保護コート等の各構
成層との間、さらには構成層と構成層との間に生じる応
力や歪み等が接着剤層により吸収あるいは緩和され、相
互間での剥離を防止することができる。
For this reason, even when stored under severe thermal conditions where the temperature changes at -30 to 65°C and 20°C/sec, it is possible to maintain the temperature between the substrates, or between them and each constituent layer such as a protective coat. The stress, strain, etc. that occur between the layers and between the constituent layers are absorbed or relaxed by the adhesive layer, and peeling between the layers can be prevented.

また、接着剤塗布時に両方の基板表面に接着剤を塗布す
れば、面振れ加速度の小さい光ディスクが得られる。
Furthermore, if the adhesive is applied to the surfaces of both substrates when applying the adhesive, an optical disk with low surface runout acceleration can be obtained.

このように、本発明によれば信頼性の高い光ディスクが
実現する。
Thus, according to the present invention, a highly reliable optical disc is realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の光ディスクの好適実施例である光磁
気記録ディスクの構成例を示す断面図である。 IG 符号の説明 1・・・光磁気記録ディスク 2・・・基板 4・・・保護層 5・・・中間層 6・・・記録層 7・・・保護層 8・・・保護コート 9・・・接着剤層
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the configuration of a magneto-optical recording disk which is a preferred embodiment of the optical disk of the present invention. IG Code explanation 1...Magneto-optical recording disk 2...Substrate 4...Protective layer 5...Intermediate layer 6...Recording layer 7...Protective layer 8...Protective coat 9...・Adhesive layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
担持部を形成し、この情報担持部が内封されるように、
前記一対の基板を接着剤層を介して一体化した光ディス
クであって、 前記接着剤層が放射線硬化性ホットメルト型接着剤から
構成されており、この接着剤層のガラス転移温度Tgが
−10℃以下であり、弾性率が−20℃、10Hzにて
100kgf/mm^2以下であり、力学的損失係数t
anδが−20℃、10Hzにて0.1以上であること
を特徴とする光ディスク。
(1) having a pair of substrates, forming an information carrying part on at least one of the substrates, so that the information carrying part is enclosed;
An optical disc in which the pair of substrates are integrated via an adhesive layer, wherein the adhesive layer is made of a radiation-curable hot-melt adhesive, and the adhesive layer has a glass transition temperature Tg of -10. ℃ or less, the elastic modulus is 100kgf/mm^2 or less at -20℃ and 10Hz, and the mechanical loss coefficient t
An optical disc characterized in that an δ is 0.1 or more at −20° C. and 10 Hz.
(2)前記一対の基板のそれぞれに接着剤を塗布し、放
射線硬化した後、両基板を一体化して形成された請求項
1に記載の光ディスク。
(2) The optical disc according to claim 1, wherein an adhesive is applied to each of the pair of substrates and cured by radiation, and then the two substrates are integrated.
(3)前記情報担持部が記録層である請求項1または2
に記載の光ディスク。
(3) Claim 1 or 2, wherein the information carrying section is a recording layer.
The optical disc described in .
(4)前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
層上に樹脂製の保護コートが設層されている請求項1な
いし3のいずれかに記載の光ディスク。
(4) The optical disc according to any one of claims 1 to 3, wherein the recording layer contains a rare earth metal element, and a resin protective coat is provided on the recording layer.
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