JPH0487039A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光ディスク、特に光磁気記録ディスク、相変
化型の光記録ディスクや、再生専用の光ディスク等に関
する。

〈従来の技術〉 光ディスクのうち、特に光記録ディスクは、基板上に情
報担持部としての記録層を設層して構成され、その記録
・再生に際しては、通常、基板側からレーザビーム等を
照射することによって行われる。

このため用いる基板は透明なもの、例えば、ガラスや樹
脂から構成されている。

この場合、ディスクの軽量化や、トラッキング用のグル
ープやビット形成の容易さの点から、従来、光ディスク
の基板としては樹脂製の基板が用いられている。

そして、記録層のヒラカキ等による機械的損傷を防ぐた
めに、基板の記録層設層側に保護基板を設けたり、一対
の基板を記録層が内封されるようにして一体化している
。

このように樹脂製の一対の基板ないし基板と保護基板と
を接着する場合において、米国特許筒４，５０３，５３
１号明細書には、軟化点１４０℃以下、常態引張り接着
強度が２０℃で１　ｋｇ／Ｃｍ”以上、溶融粘度が１６
０℃で１０００Ｐ以下のホットメルト接着剤によって接
着する旨が提案されている。

また、特開平１−１６５０５０号では、一対の基板を所
定のホットメルト型接着剤により一体化する旨が提案さ
れている。

さらに、特開平１−１４３０３３号公報では、一対の基
板を紫外線架橋性ホットメルト型接着剤により貼りあわ
せる旨が提案されている。

同公報に開示されている光ディスクの製造方法は、紫外
線架橋性ホットメルト型接着剤を一方の基板だけに塗布
し、紫外線を照射した後、他方の基板を貼りあわせると
いうものである。

また、同公報記載の実施例では、ビット記録情報部を有
する基板にアルミニウムを蒸着した再生専用光ディスク
を作製している。

〈発明が解決しようとする課題〉 光ディスク、特に光記録ディスクの基板上には、ガラス
や金属等の異なる材質からなる構成層が、通常、多層構
造にて設層される。

このため、例えば光ディスクを高温ないし低温下に保存
すると、基板、保護基板、さらには記録層、保護コート
、接着剤層等の構成層に反り、応力、歪等が発生する。

従って、例えば−３０〜６５℃、２０℃／秒で温度変化
する苛酷な熱的条件下では、基板と基板、基板と保護基
板、あるいはこれらと各構成層、さらには構成層と構成
層とが剥離してしまうことになる。

このように従来の光ディスクに用いられる接着剤により
一体化された光ディスクは、苛酷な熱的条件下での信頼
性が不十分である。

本発明の目的は、例えば−３０〜６５℃、２０℃／秒で
温度変化する苛酷な熱的条件下に保存しても、基板と基
板、基板と保護基板、これらと各構成層、さらには構成
層同士が剥離することがなく、信頼性の高い光ディスク
を提供することにある。

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は下記の（１）〜（４）の本発明によっ
て達成される。

（１）一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
担持部を形成し、この情報担持部が内封されるように、
前記一対の基板を接着剤層を介して一体化した光ディス
クであって、前記接着剤層が放射線硬化性ホットメルト
型接着剤から構成されており、この接着剤層のガラス転
移温度Ｔｇが一１０℃以下であり、弾性率が一２０℃、
１０Ｈｚにて１００　ｋｇｆ／ｌｒ＋ｒｎ”以下であり
、力学的損失係数ｔａｎδが一２０℃、１０Ｈｚにて０
．１以上であることを特徴とする光ディスク。

（２）前記一対の基板のそれぞれに接着剤を塗布し、放
射線硬化した後、側基板を一体化して形成された上記（
１）に記載の光ディスク。

（３）前記情報担持部が記録層である上記（１）または
（２）に記載の光ディスク。

（４）前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
層上に樹脂製の保護コートが設層されている上記（１）
ないしく３）のいずれかに記載の光ディスク。

〈作用〉 本発明の光ディスクは、情報担持部が内封されるように
、一対の基板を放射線硬化性ホットメルト型接着剤から
構成される接着剤層により貼りあわせて作製される。

放射線硬化性ホットメルト型接着剤を用いることにより
、エポキシ系接着剤やウレタン系接着剤で問題であった
硬化速度の遅さが改善され、また、紫外線硬化型接着剤
で問題であったモノマー成分による記録層や基板の侵食
の恐れがな（なり、さらに、ホットメルト型接着剤で問
題であった耐熱性の低さが改善される。

そして、本発明の光ディスクの接着剤層は、所定のガラ
ス転移温度Ｔｇ、弾性率および力学的損失係数ｔａｎδ
を有するので、温度変化等によって生じる基板と基板と
の間、あるいはこれらと各構成層との間、さらには構成
層と構成層との間の応力や歪み等が接着剤層により吸収
あるいは緩和される。

従って、例えば−３０〜６５℃、２０℃／秒で温度変化
する苛酷な熱的条件下に保存する場合であっても基板と
基板、これらと各構成層および構成層と構成層との剥離
を完全に防止することができ、高い信頼性を得ることが
できる。

なお、本発明における情報担持部とは、再生専用ディス
クにおけるように、情報を予め担持しているもの、およ
び記録・再生ディスクにおけるように情報を担持させつ
る記録層の双方を指すものである。

く具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。

第１図に、本発明の光ディスクの好適実施例として、光
磁気記録ディスクの１例を示す。

第１図に示される光磁気記録ディスク１は、保護層４、
中間層５、情報担持部としての記録層６、保護層７およ
び保護コート８が順次形成されている２枚の基板２が、
記録層６が内側になるように接着剤層９により接着され
た構成を有する。

本発明において、基板２は、記録光および再生光に対し
て透明なものであり、樹脂製あるいはガラス製とする。

基板２の形状は、ディスク状であり、その直径は、通常
、５０〜３６０ｍｍ程度であり、その厚さは、０．５〜
２＋ａｍ程度である。

基板２を樹脂製とする場合は、剛性の樹脂を用いる。

この場合、用いる樹脂に制限はないが、例えばアクリル
樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリメチルペ
ンテン、ポリオレフィン等が好適である。

基板２は公知の方法に従い製造すればよい。

例えば樹脂製基板の場合には、射出成形等を用い、基板
表面に、トラッキング用、アドレス用等のためにビット
あるいはグループ等の所定のパターンを同時に形成すれ
ばよい。

基板２をガラス製とする場合は、強化ガラスから構成す
ることが好ましい。　強化ガラスを用いることにより、
より高い剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。

ガラス製の基板２を用いる場合は、基板２上には、樹脂
層が設層されることが好ましい。

樹脂層は、その表面に、トラッキング用、アドレス用等
のために、ビットあるいはグループ等の所定のパターン
を有する。　なお、樹脂層を設けず、化学エツチング等
により所定のパターンを形成してもよい。

樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はなく、いわゆる
２Ｐ法に用いられる公知の樹脂から適当に選択すればよ
い。

このような樹脂層の設層は、公知の２Ｐ法により行なえ
ばよい。

中間層５はＣ／Ｎ比を向上させるために設けられ、各種
誘電体物質から形成されることが好ましく、その層厚は
３０〜１５０ｎｍ程度であることが好ましい、　また、
設層方法とじては、スパッタ法等の気相成膜法を用いる
ことが好ましい。

なお、このような中間層材質を後述する記録層６の上に
保護層７として設けて、前記中間層５と併用することも
できる。　併用する場合には、中間層５と保護層７の組
成は同一であっても異なっていてもよい。

保護層４および保護層７は、記録層６の耐食性向上のた
めに設けられるものであり、これらは少なくとも一方、
好ましくは両方が設けられることが好ましい。　これら
保護層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるい
はこれらの混合物からなる無機薄膜から構成されること
が好ましい。　また、前述したように、上記の中間層材
質で形成してもよい。　保護層の層厚は３０〜３００　
ｎｍ程度であることが耐食性向上の点から好ましい。

このような保護層は、スパッタ法等の各種気相成膜法等
によって形成されることが好ましい。

記録層６は、変調された熱ビームあるいは変調された磁
界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記録
情報は磁気−光変換して再生されるものである。

言己録層６は、光磁気記録が行なえるものであればその
材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合
金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッタ、
蒸着法等により、非晶質膜として形成したものであるこ
とが好ましい。

希土類金属としては、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｓｍ、
Ｃｅのうちの１種以上を用いることが好ましい。

遷移金属としては、ＦｅおよびＣＯが好ましい。

この場合、ＦｅとＣＯの総合有量は、６５〜８５ａｔ％
であることが好ましい。

そして、残部は実質的に希土類金属である。

好適に用いられる記録層の組成として は、ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＴｂＦｅＣｏ。

ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＮｄＧｄＦｅＣｏ等がある。

なお、記録層中には、１０ａｔ％以下の範囲でＣｒ、Ａ
ｆｆ、Ｔｉ％Ｐｔ１Ｓ　ｉ、Ｍｏ、Ｍ　ｎ　。

■、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｕ等が含有されてもよ
い。

また、１０ａｔ％以下の範囲で、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ
、Ｐｒ％Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、
Ｌｕ等の他の希土類金属元素を含有してもよい。

このような記録層６の層厚は、通常、１０〜５００　ｎ
ｍ程度である。

このような記録層は、蒸着法、スパッタ法、イオンブレ
ーティング法等のドライコーティング方式等を用いて設
層すればよい。

保護コート８は耐食性や耐擦傷性の向上のために設けら
れるものであり、種々の有機系の物質から構成されるこ
とが好ましいが、特に、放射線硬化型化合物を含有する
組成物を放射線硬化させた物質から構成されることが好
ましい。

放射線硬化型化合物を含有する組成物としては、エポキ
シ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物が好
ましい。

エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく
、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を有するものが
好ましい。

脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）アジペート、２−　（３，４−エポキシシ
クロへキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シ
クロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポ
キシシクロベンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセン
ジオキシド等の１種以上が好ましい。

脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが
、良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特
に１００〜２００であることが好ましい。

光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いても
よく、特に制限はない。

例えば、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ
化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニ
ル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ
族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウ
ム塩、３Ａ族〜５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チ
オピリリウム塩、Ｍ　Ｆ　ｓアニオン（ただしＭは、Ｐ
、Ａｓまたはｓｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリール
スルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族ス
ルホニウム錯塩等を用いることができ、特に、ボリアリ
ールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族
スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５
Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以
上を用いることが好ましい。

また、有機金属化合物と光分解性を有する有機けい素化
合物とを含有する光カチオン重合触媒も用いることがで
きる。　このような光カチオン重合触媒は非強酸系であ
るため、光磁気記録ディスク等の腐食性の高い記録層に
対する悪影響を避けることができる。

有機金属化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ
、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｊ２、Ｚｒ等の金属原子
に、アルコキシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等
が結合した錯体化合物が好ましい。　これらのうち特に
有機アルミニウム化合物が好ましく、具体的には、トリ
スメトキシアルミニウム、トリスプロピオナトアルミニ
ウム、トリストリフルオロアセチルアルミニウム、トリ
スエチルアセトアセトナトアルミニウムが好ましい。

光分解性を有する有機けい素化合物は、紫外線等の光照
射によりシラノールを生じるものであり、ペルオキシシ
ラノ基、０−ニトロベンジル基、α−ケトシリル基等を
有するけい素化合物が好ましい。

組成物中の光カチオン重合触媒の含有量は、エポキシ樹
脂１００重量部に対し、ｏ、０５〜０．７重量部、特に
０．１〜０．５重量部であることが好ましい。

このような組成物の塗膜は、通常、スピンナーコート、
グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々
の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。　この時
の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的と
する塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

塗膜の硬化に用いる放射線は、用いる放射線硬化型化合
物に応じて決定すればよいが、上記した組成物では紫外
線により行なうことが好ましい。

保護コート８の膜厚は０．１〜１ｏｏｕ、より好ましく
は５〜３０−程度とすることが好ましい。

この膜厚が０．１−未満になると、−様な膜を形成でき
ず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でな（、記
録層の耐久性が向上しない。　また、１００−をこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中にクラックが生じることになる。

接着剤層９は、放射線硬化性ホットメルト型接着剤から
構成される。

接着剤層９のガラス転移温度Ｔｇは、−１０℃以下、好
ましくは一１５℃以下とする。

Ｔｇが前記範囲をこえると、低温、例えば−１０℃以下
で接着力が消失してしまう。

なお、Ｔｇが低くなるとフローポイント（ＦＰ）も低下
する。　ＦＰとは、接着剤が流動する温度である。　通
常のホットメルト型接着剤では、Ｔｇが一６０℃未満と
なると、ＦＰが低（なりすぎ、高温、例えば４５〜６０
℃程度で接着剤が流出してしまう。　一方、放射線硬化
性ホットメルト型接着剤では、放射線照射によりＴｇは
殆ど変化しないがＦＰは大きく向上するため、Ｔｇの下
限は特にないが、通常、Ｔｇは一６０℃以上である。

また、接着剤層９の弾性率は、−２０℃、１０Ｈｚにて
１００　ｋｇｆ／ａ＋ｍ”以下、好ましくは３〜ｌ　Ｏ
Ｏｋｇｆ／ｍｍ”とする。　前記範囲をこえると、基板
２と基板２との間、あるいは、これらと保護コート８等
の各構成層間、さらには構成層と構成層間に生じる応力
や歪を接着剤層９により吸収あるいは緩和することが困
難である。　例えば、−３０〜６５℃、２０℃／秒で温
度が変化する苛酷な条件下に置くと、保護コート８等の
構成層が基板２あるいは他の構成層から剥離してしまう
。　また、弾性率があまり低いと高温側での弾性率がさ
らに減少し、接着力が低下してしまう。

このため弾性率は、前記のとおり３〜 １００　ｋｇｆ／ｍ＋ａ”であることが好ましい。

さらに接着剤層９の力学的損失係数ｔａｎδは、−２０
℃、１０Ｈｚにて０．１以上、好ましくは０．２〜１．
５とする。　前記範囲未満では粘着性が低く、十分な接
着強度を得ることが困難である。　例えば、−３０〜６
５℃、２゜℃／秒で温度が変化する苛酷な条件下に置く
と、接着剤層９が、基板２あるいは保護コート８等の構
成層から剥離してしまう、　また、ｔａｎδがあまり高
いと基板２の反り、あるいは衝撃等の外部応力が働いた
場合に、両基板の間にずれが起こる可能性がある。

このためｔａｎδは、前記のとおり０．２〜１．５であ
ることが好ましい。

Ｔｇ、ＦＰ、弾性率および力学的損失係数ｔａｎδは以
下のようにして測定される。

接着剤を例えば離型紙上にロールコータ等を用い、厚さ
１００〜５００μとなるように塗布する。　次いで、紫
外線等の放射線を光デイスク作製時と同条件にて照射し
、硬化する。　硬化後、接着剤を離型紙から剥離して接
着剤層サンプルとする。　このサンプルについて、粘弾
性測定装置を用い、強制振動法により加振周波数１０Ｈ
ｚ（正弦波）にて、−５０〜８０℃間で測定する。　こ
の場合、Ｔｇは損失弾性率Ｅ″のピークを生じる温度よ
り求め、ＦＰは、７ｇ以上の高温側での弾性率Ｅ′が急
激に減少する温度より求める。

本発明で用いる放射線硬化性ホットメルト型接着剤とし
ては、ホットメルト型樹脂ベースポリマー、放射線硬化
性成分および光重合開始剤を含有するものが好ましい。

ホットメルト型樹脂ベースポリマーとしては、常温で粘
着性を有するものであれば特に制限はないが、熱可塑性
ブロック共重合エラストマーを用いることが好ましい。

熱可塑性ブロック共重合エラストマーのブロック構成要
素としては、ポリスチレン、ポリブタジェン、ポリイソ
プレン、エチレン−ブチレン共重合体等が好ましく、こ
れらの１種以上を用いることが好ましい。

特に、分子量２０００〜１２５００程度のポリスチレン
と、分子量１０００〜２５００００程度のポリブタジェ
ン、ポリイソプレンまたはエチレン−ブチレン共重合体
とのブロック共重合エラストマーであることが好ましい
。　また、ブロック共重合エラストマーの分子量は３０
００〜５０万程度であることが好ましい。

また、ホットメルト型樹脂ベースポリマーには、これら
の熱可塑性ブロック共重合エラストマーの他、インブレ
ンゴム、スチレンゴム、ブタジェンゴム、ブチルゴム等
の合成ゴム、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
−ビニルアセテート共重合体等のポリオレフィンやポリ
オレフィン系共重合体などの１種以上が必要に応じて含
有されることが好ましい。

放射線硬化性成分としては、放射線感応性を示す二重結
合を有するアクリロイル基を１分子中に少なくとも１つ
有する飽和炭化水素系樹脂のオリゴマーが好ましい。

このようなオリゴマーとしては、例えば、水添ポリブタ
ジェン、ポリブテン、水添ポリイソプレン、ポリイソブ
チレン等の１分子中に少なくとも１つの水酸基またはカ
ルボキシル基を含有する飽和炭化水素系樹脂オリゴマー
のアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアク
リレートまたはエステルアクリレートが好ましく、これ
らの１種以上を用いることが好ましい。

接着剤中のホットメルト型樹脂ベースポリマーと放射線
硬化性成分との比率は、ホットメルト型樹脂ベースポリ
マー１００重量部に対し放射線硬化性成分が５〜１００
重量部、特に１０〜４０重量部であることが好ましい。

　放射線硬化性成分が前記範囲未満であると、接着剤の
耐熱性向上が不十分となる傾向にあり、前記範囲を超え
ると粘着性が不十分となる傾向にある。

光重合開始剤としては、紫外線等の放射線照射によりラ
ジカルを発生する通常の光重合開始剤を用いればよ（、
例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系、ベンゾ
フェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ｐ−ブロモベ
ンゾフェノン等のベンゾフェノン系、ベンジルメチルケ
タール、２．２−ジェトキシアセトフェノン、ｌ、１−
ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン系、２−ク
ロロチオキサントン等のチオキサントン系、アントラキ
ノン、フエナントラキノン等のキノン系、ベンジルジス
ルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等のス
ルフィド系などが挙げられる。

光重合開始剤は、ホットメルト型樹脂ベースポリマーと
放射線硬化性成分との合計に対し、０．５〜５重量％で
あることが好ましい。

さらに、これらの他、粘着付与剤が含有されることが好
ましい。　粘着付与剤としては、ロジン樹脂、クマロン
樹脂、水添石油樹脂、水添テルペン樹脂、フェノール樹
脂等の１種以上が好ましい。　水添タイプの粘着付与剤
は、相溶性が良好で、熱安定性に悪影響を与えず、また
、吸水率が低いので耐食性が良好である。

粘着付与剤の含有量は、ホットメルト型樹脂ベースポリ
マー１００重量部に対し５〜３００重量部、特に１０〜
１５０重量部であることが好ましい。

また、さらに、必要に応じて軟化剤が含有されることが
好ましい。　軟化剤としては、プロセス油、パラフィン
油、ポリブテン、ポリイソブチレン等の１種以上が好ま
しい。

なお、可塑剤、ワックス、紫外線吸収剤、充填剤、老化
防止剤等の添加剤を必要に応じて加えてもよい。

これらの接着剤構成成分を適宜選択して組み合わせるこ
とにより、接着剤層の物性を前記した範囲とすることが
できる。

上記した放射線硬化性ホットメルト型接着剤により基板
を貼りあわせる際には、下記の方法を用いることが好ま
しい。

接着剤は、ホットメルト型接着剤用のロールコータ等に
より溶融状態にて基板表面に塗布する。

接着剤は、一対の基板のうち一方だけに塗布しても両方
に塗布してもよいが、好ましくは両方に塗布する。　こ
れは、接着剤の塗膜表面を平滑にすることが困難なため
である。

すなわち、一方の基板だけに接着剤を塗布し、放射線硬
化後に他方の基板と貼りあわせた場合、接着剤層表面に
存在する凹凸により基板に歪が発生し易（、この歪によ
り光ディスクとして使用する際の面振れ加速度が太き（
なる。

しかし、両方の基板に接着剤を塗布した場合、各基板の
接着剤層表面にはやはり凹凸が存在するが、これらを貼
りあわせると接着剤塗膜表面の凹凸が両接着剤層に吸収
され、基板に悪影響を与えることが少ない、　このため
、面振れ加速度を小さ（抑えることができる。

接着剤を基板に塗布後、放射線を照射する。

放射線としては紫外線を用いることが好ましいが、電子
線を用いてもよい。

紫外線の照射条件は、積算照射量で３００〜５０００　
ｍＪ／　ｃ＋＋＋”とすることが好ましい。　このよう
な条件にて紫外線硬化を行なうことにより、前記した物
性の接着剤層が容易に得られる。

硬化後、側基板を重ねあわせ、例えば０．２〜２０　ｋ
ｇｆ／Ｃｍ”程度の圧力で押圧することにより接着し、
光ディスクを得る。

接着剤層９の厚さは、１０〜１００μ、特に５０〜８０
−とすることが好ましい。　接着剤層の厚さが前記範囲
未満であると接着力が不十分となる傾向にあり、前記範
囲をこえると耐久性が低下する傾向にある。

本発明では前記したような物性の接着剤層で接着するこ
とにより、情報担持部としての記録層６や保護コート８
等の各構成層が形成されている基板２同士の強固な接着
が可能となる。

つまり、熱膨張等によって生じる基板２．２間や各構成
層相互間の応力や歪を、接着剤層９が吸収ないし緩和す
る。

このため、例えば本発明の光磁気記録ディスク１を一３
０〜６５℃、２０℃／秒で温度変化する苛酷な熱的条件
下に保存しても基板２，２問および各構成層相互間の剥
離を防止することができる。

以上では、本発明の光ディスクを両面記録型の光磁気記
録ディスクに適用する場合を説明したが、本発明は片面
記録型の光磁気記録ディスクにも適用することができる
。

片面記録型の光磁気記録ディスクは、前述した各構成層
を有する基板２と保護基板とを、記録層が内側になるよ
うに接着した構成を有するものである。

この場合も、前述した両面記録型の光磁気記録ディスク
と同様の効果を得ることができる。

保護基板は、記録層の損傷等を有効に防止するために設
けられるものである。

保護基板は、樹脂製であってもガラス製であってもよ（
、不透明なものであってもよい。

ガラス製保護基板の場合、前述した強化ガラス、特に化
学強化ガラスを用いることが好ましい。

また、樹脂製保護基板では、剛性の樹脂、例えば、ポリ
カーボネート、アクリル樹脂、ポリオレフィン等が好適
である。

保護基板の厚さは、剛性を確保するために、０．５〜２
．Ｏｎ＋ｍ程度とすることが好ましい。

そして、保護基板の形状は、基板２の形状に合わせれば
よい。

本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層を有し
、反射率変化により記録・再生を行なう光記録ディスク
にも適用することができる。

このような記録層としては、例えば、特公昭５４−４１
９０２号、特許第１００４８３５号などに記載のＴｅ、
Ｓｅ系合金、特開昭５８−５４３３８号、特許第９７４
２５７号、特許第９７４２５８号、特許第９７４２５７
号記載のＴｅ酸化物系、その他各種Ｔｅ、Ｓｅを主体と
するカルコゲン系、 Ｇｅ−３ｎ、５ｉ−３ｎ等の非晶質−結晶質転移を生じ
る合金 Ａｇ−Ｚｎ、　　Ａｇ−Ａｊ２−Ｃｕ、　　Ｃｕ−Ａｊ
２等の結晶構造変化によって色変化を生じる合金、Ｉｎ
−５ｂ等の結晶粒径の変化を生じる合金などがある。

この他、本発明は、再生専用の光ディスクにも適用可能
である。　ただし、本発明の効果が高い光ディスクは、
上記のうち情報担持部が記録層である光記録ディスクで
あり、最も効果が高い光ディスクは、希土類金属元素等
の腐食性の高い金属を含有する記録層を有する光記録デ
ィスクである。

なお、保護コート８を介して基板２同士を接着するとき
には、発生する応力や歪を、接着剤層９に加えて保護コ
ート８も吸収するので、高温および低温における保存性
はきわめて高いものとなるという効果が発現する。

さらに、保護コート８を前記した放射線硬化型樹脂で構
成すれば、同じく放射線硬化型樹脂で構成される接着剤
層との接着力が高くなる。

本発明の光ディスクは、１００　ｒｐｍ以上の回転速度
にて駆動されて記録や再生を行う。

この際、記録や再生は公知の方式に従えばよい。

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。

［実施例１］ 第１図に示されるような光磁気記録ディスクを作製した
。

まず、樹脂製の基板２に、ガラス保護層４、ＳｉＮｘの
中間層５、ＴｂＦｅＣｏ記録層６、ＳｉＮｘ保護層７１
３よび保護コート８を順次形成した。

樹脂製基板２は、材料にポリカーボネートを用い、外径
１３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのディスク状とした。

基板２の製造は射出成形により行い、同時にその表面に
はトラッキング用グループを形成した。

また、保護層４、中間層５、記録層６および保護層７の
形成にはスパッタ法を用いた。

また、保護コート８は、脂環式エポキシ樹脂と光カチオ
ン重合触媒とを含有する組成物を塗布後、紫外線照射し
て架橋硬化させることにより、１０μ厚に設層した。

次いで、このようにして得られた２枚の基板を、記録層
が内側になるように接着した。

接着に際しては、まず、両基板の保護コート８表面に、
下記接着剤Ａを同じ厚さに塗布した。　塗布にはロール
コータを用いた。

次いで、接着剤に下記条件Ａにて紫外線を照射した後、
基板同士を重ねあわせ、１．０ｋｇｆ／ｃｍ”にて押圧
して接着した。

（接着剤Ａ組成） ポリスチレン−ポリブタジェン 共重合体　　　　　　　　　　３０重量部イソブチレン
　　　　　　　　　１０重量部両末端アクリロイル水添
ブタジ エンオリゴマー　　　　　　　２０重量部水添ロジン樹
脂系粘着付与剤　　３０重量部ベンゾフェノン系光重合
開始剤　　３重量部（紫外線照射条件Ａ） 積算照射量１０００　ｍｊ／　Ｃｍ” 基板搬送速度１　、５　ｍ／ｗｉｎ ２枚の基板間に存在する接着剤層の厚さは、７０−であ
った。

このようにして得られた光磁気記録ディスクを、サンプ
ルＡとした。

サンプルＡの接着剤層９のガラス転移温度Ｔｇ、−２０
℃、１０Ｈｚでの弾性率および力学的損失係数ｔａｎδ
は表１に示されるとおりである。

なお、ガラス転移温度Ｔｇ、弾性率および力学的損失係
数ｔａｎδは、以下のようにして測定した。

接着剤を離型紙上にロールコータを用いて厚さ３００−
となるように塗布し、上記条件Ａにて紫外線を照射し、
硬化させた。　得られた接着剤層を離型紙から剥離し、
台本製作所製粘弾性スペクトロメータにより、加振周波
数（正弦波）１０Ｈｚにて、−５０〜８０℃間で測定し
た。

サンプルＡに対し、下記の試験および測定を行った。

（熱衝撃試験） サンプルを一３０℃の雰囲気中に入れ３０分間保存し、
その後、サンプルを入れたまま雰囲気の温度を５秒間で
６５℃に昇温する。　そして、６５℃の雰囲気中に３０
分間保存後、５秒間で一３０℃に冷却する。

以上を１サイクルとし、２０サイクル行った。

（サイクル試験） サンプルを温度−３０℃の雰囲気中に入れ、４．５時間
保存する。　その後サンプルを入れたまま雰囲気の温度
を速度１０℃／時間で６５℃に昇温し、湿度を８０％Ｒ
Ｈに保つ。　そして、６５℃、８０％ＲＨの雰囲気中に
４．５時間保存後、速度１０℃／時間で一３０℃に冷却
する。

以上を１サイクルとし、１４サイクル行った。

（面振れ加速度測定） ディスク回転数を１８００　ｒｐｍとし、ディスク中心
から半径３０〜６０ｍｍの範囲において５ＩＩ１ｍ間隔
で測定した。　測定サンプル数は３個とし、最大面振れ
加速度の平均値を表１に示した。

面振れ加速度は、フォーカシングサーボ時の光ピツクア
ップの加速度で表わされ、トラッキング用グループが形
成された基板の平坦度を示すものである。　この値は、
ＩＳＯ規格では、外径１３０■の光磁気記録ディスクの
場合２０ｍ／ｓ”以下、特に１０園／ｓ２以下であるこ
とが好ましい。

これらの試験および測定の結果を、表１に示す。

［比較例１］ 接着剤として下記Ｂを用い、紫外線照射を下記条件Ｂに
て行ない、その他は実施例１と同様にして光磁気記録デ
ィスクサンプルＢを作製した。

（接着剤Ｂ組成） ウレタン系ポリマー　　　　　　５０重量部ウレタンア
クリレート オリゴマー　　　　　　　　　１０重量部クマロン樹脂
系粘着付与剤　　　３０重量部ベンゾフェノン系光重合
開始剤　　２重量部（紫外線照射条件Ｂ） 積算照射量６００　ｍｊ／　ｃａ＋” 基板搬送速度１．５ｍ／ｗｉｎ このサンプルＢについて実施例１と同様な試験および測
定を行なった。

結果を表１に示す。

［実施例２］ 接着剤Ａを一方の基板だけに塗布した他は実施例１と同
様にして光磁気記録ディスクサンプルＣを作製した。

このサンプルＣについて実施例１と同様な試験および測
定を行なった。

結果を表１に示す。

表１に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。

なお、樹脂製基板と樹脂製保護基板とを一体化した片面
記録型の光磁気記録ディスクについても試験を行ったと
ころ、前記実施例と同様の結果が得られた。

〈発明の効果〉 本発明の光ディスクでは、情報担持部が内封されるよう
に一対の基板が一体化されるため、情報担持部、例えば
記録層の損傷を十分に防止することができる。

また、接着剤層が放射線硬化性ホットメルト型接着剤か
ら構成されているため、作業時間が短くて済み、しかも
耐熱性が良好であり、また、基板への悪影響も少ない。

そして、本発明の光ディスクでは、基板と基板とが所定
のガラス転移温度Ｔｇ、弾性率および力学的損失係数ｔ
ａｎδを有する接着剤層により一体化される。

このため、例えば−３０〜６５℃、２０℃／秒で温度変
化する苛酷な熱的条件下に保存する場合であっても、基
板と基板との間、あるいはこれらと保護コート等の各構
成層との間、さらには構成層と構成層との間に生じる応
力や歪み等が接着剤層により吸収あるいは緩和され、相
互間での剥離を防止することができる。

また、接着剤塗布時に両方の基板表面に接着剤を塗布す
れば、面振れ加速度の小さい光ディスクが得られる。

このように、本発明によれば信頼性の高い光ディスクが
実現する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光ディスクの好適実施例である光磁
気記録ディスクの構成例を示す断面図である。 ＩＧ 符号の説明 １・・・光磁気記録ディスク ２・・・基板 ４・・・保護層 ５・・・中間層 ６・・・記録層 ７・・・保護層 ８・・・保護コート ９・・・接着剤層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
   担持部を形成し、この情報担持部が内封されるように、
   前記一対の基板を接着剤層を介して一体化した光ディス
   クであって、 前記接着剤層が放射線硬化性ホットメルト型接着剤から
   構成されており、この接着剤層のガラス転移温度Ｔｇが
   −１０℃以下であり、弾性率が−２０℃、１０Ｈｚにて
   １００ｋｇｆ／ｍｍ＾２以下であり、力学的損失係数ｔ
   ａｎδが−２０℃、１０Ｈｚにて０．１以上であること
   を特徴とする光ディスク。
2. （２）前記一対の基板のそれぞれに接着剤を塗布し、放
   射線硬化した後、両基板を一体化して形成された請求項
   １に記載の光ディスク。
3. （３）前記情報担持部が記録層である請求項１または２
   に記載の光ディスク。
4. （４）前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
   層上に樹脂製の保護コートが設層されている請求項１な
   いし３のいずれかに記載の光ディスク。