JPH049373B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH049373B2 JPH049373B2 JP57204571A JP20457182A JPH049373B2 JP H049373 B2 JPH049373 B2 JP H049373B2 JP 57204571 A JP57204571 A JP 57204571A JP 20457182 A JP20457182 A JP 20457182A JP H049373 B2 JPH049373 B2 JP H049373B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaned
- ultraviolet
- cleaning
- lamp
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
本発明は洗浄効果の優れた紫外線洗浄装置に関
するものである。 紫外線ランプより発生するオゾンを利用して汚
染物を分解洗浄することが従来より行なわれてい
る。例えばシリコンウエハーに感光レジストを塗
布する際の前処理として、シリコンウエハーに付
着した大気中の有機汚染物を塗布直前に追加洗浄
することにより分解したり、電子ビームによるス
パツタリング蒸着の際に基体に付着した真空ポン
プの油などによる有機汚染物と同じく追加洗浄す
ると塗布膜或は蒸着膜の密着性を著しく向上する
ことができることが明らかになつている。 ところで紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプ
を点灯すると、主として波長が254nmの水銀共鳴
線の紫外線が外部に放出され、従として185nmの
紫外線が、更には他の波長のものがわずかに放出
される。そしてこれらの紫外線によるオゾンの生
成機構とその洗浄作用は次のように考えられてい
る。 h〓（185nm）＋O2（空気）→Ｏ＋Ｏ (1) Ｏ＋O2（空気）→O3 (2) h〓（254nm）＋O3→O*＋O2 (3) O*＋CmHnOl（有機汚染物） →CO，CO2，H2O（ガス化して飛散） (4) 即ち、波長185nmの紫外線によつてオゾンが生
成し、次にこのオゾンが波長254nmの紫外線によ
り分解されて発生基の酸素が生成し、この発生基
の酸素が有機汚染物を分解してガス状態で飛散さ
せるものである。従つて(4)式の反応を効率良く高
速度で行せるには(1)，(3)式のh〓（185nm）とh〓
（254nm）の強度が相互に調和のとれたものの方
が良いと思われる。つまり、これらの強度をそれ
ぞれI185，I254としたとき、これらの比α＝I185／
I254は紫外線洗浄の効率上重要な因子と思われ
る。しかるに、従来実用化された装置や研究報告
によればαの値がいずれも小さな、そして限られ
た範囲のものであり、例えばその値が0.03（「洗浄
設計」近代編集社1981年秋季号）であり、また
0.05（昭和57年応用物理学会報告２８ａ−Ｖ−３）
であつて、必ずしも広範囲にわたつて調査研究し
たうえでの最適値とは言い難いことが分つた。 そこで本発明は、紫外線ランプの光でオゾンを
発生させ、このオゾンの分解により生成される酸
素により物体の表面に付着した有機汚染物や気体
中に浮遊する有機汚染物などを、消費電力が少
く、かつ著しく効率よく高速で分解して洗浄する
ことが可能な紫外線洗浄装置を提供することを目
的とし、本発明者らがαの値を従来にない広範囲
にわたつて変化させて鋭意調査研究した結果、α
の最適範囲を見い出して本発明を完成したもので
ある。有機汚染物の付着した被洗浄体や有機汚染
物を含む被洗浄気体が酸素ガスと共存し、波長が
185nmと254nmの光を放射する紫外線ランプが有
機汚染物と酸素ガスとに対置され、このランプの
185nmと254nmの光の出力をそれぞれI185とI254と
した時、この比α＝I185／I254が0.08から0.3の範
囲に設定されたことを特徴とするものである。な
お、α＝I185／I254の測定はランプ発光部の中央
点より軸の垂直方向に発光点の10倍以上離れた位
置での軸に平行な面上でのエネルギー密度の比で
近似させた。そして185nmの紫外線は空気に吸収
されるので真空中から非吸収雰囲気中で測定し
た。 以下に図面により本発明の実施例を具体的に説
明する。 図面は本発明の紫外線洗浄装置を簡略化して横
式的に示したものであるが、第１図において箱状
の本体１内にはベルトコンベヤー２が張設され、
このコンベヤー２上にはフイルター３を介して低
圧水銀灯の紫外線ランプ４が設置されている。そ
して入口１ａからコンベヤー２上に載せられた被
洗浄体５はランプ４で照射されて洗浄されながら
進み、ランプ４の下を通過し終るときには洗浄が
完了して出口１ｂより取り出される。本体１の下
方には吸引フアン６が設けられ、冷却空気やオゾ
ン、更には分解された気体状の汚染物などが排出
される。第２図は被洗浄体が酸素ガスと共存した
気体であり、その内に汚染物が浮遊している場合
に用いられる実施例を示したものであり、内部を
被洗浄体が所定速度で流動する管体７には合成石
英製の窓孔７ａが設けられ、その上部にランプ４
が設置されて窓孔７ａを通して紫外線が管体７内
に照射される。そして被洗浄体が窓孔７ａの部分
を通過し終ると洗浄が完了するようになつてい
る。 次にαを広範囲にわたつて変化させて洗浄効果
を調査した結果を説明すると、使用したランプ４
は管径20mm、アーク長100cmの450W低圧水銀灯で
あり、αの値は低圧水銀灯の最冷点温度の制御と
フイルター３の波長185nm光の透過率を変えるこ
とにより変化させた。被洗浄体５は直径10mmの石
英板であり、これをエチルアルコール中で30分間
超音波洗浄した後に、更に16MΩcmの純水で洗つ
て乾燥し、有機汚染物として染料（ローダミン
Ｂ）をエチルアルコールで溶かしてこれを石英板
上に塗布した。そしてこの被洗浄体５がランプ４
の下を５分間で通過するようにし、照射の前後に
おける633nm光の透過率の変化を測定して洗浄効
果の代用特性とした。その測定結果を第１表に示
す。ここで、各被洗浄体５の照射前の透過率は96
％であり、照射後が100％のものを◎印、約99％
のものを〇印、約98％のものを△印、約97％もの
を×印で表示した。
するものである。 紫外線ランプより発生するオゾンを利用して汚
染物を分解洗浄することが従来より行なわれてい
る。例えばシリコンウエハーに感光レジストを塗
布する際の前処理として、シリコンウエハーに付
着した大気中の有機汚染物を塗布直前に追加洗浄
することにより分解したり、電子ビームによるス
パツタリング蒸着の際に基体に付着した真空ポン
プの油などによる有機汚染物と同じく追加洗浄す
ると塗布膜或は蒸着膜の密着性を著しく向上する
ことができることが明らかになつている。 ところで紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプ
を点灯すると、主として波長が254nmの水銀共鳴
線の紫外線が外部に放出され、従として185nmの
紫外線が、更には他の波長のものがわずかに放出
される。そしてこれらの紫外線によるオゾンの生
成機構とその洗浄作用は次のように考えられてい
る。 h〓（185nm）＋O2（空気）→Ｏ＋Ｏ (1) Ｏ＋O2（空気）→O3 (2) h〓（254nm）＋O3→O*＋O2 (3) O*＋CmHnOl（有機汚染物） →CO，CO2，H2O（ガス化して飛散） (4) 即ち、波長185nmの紫外線によつてオゾンが生
成し、次にこのオゾンが波長254nmの紫外線によ
り分解されて発生基の酸素が生成し、この発生基
の酸素が有機汚染物を分解してガス状態で飛散さ
せるものである。従つて(4)式の反応を効率良く高
速度で行せるには(1)，(3)式のh〓（185nm）とh〓
（254nm）の強度が相互に調和のとれたものの方
が良いと思われる。つまり、これらの強度をそれ
ぞれI185，I254としたとき、これらの比α＝I185／
I254は紫外線洗浄の効率上重要な因子と思われ
る。しかるに、従来実用化された装置や研究報告
によればαの値がいずれも小さな、そして限られ
た範囲のものであり、例えばその値が0.03（「洗浄
設計」近代編集社1981年秋季号）であり、また
0.05（昭和57年応用物理学会報告２８ａ−Ｖ−３）
であつて、必ずしも広範囲にわたつて調査研究し
たうえでの最適値とは言い難いことが分つた。 そこで本発明は、紫外線ランプの光でオゾンを
発生させ、このオゾンの分解により生成される酸
素により物体の表面に付着した有機汚染物や気体
中に浮遊する有機汚染物などを、消費電力が少
く、かつ著しく効率よく高速で分解して洗浄する
ことが可能な紫外線洗浄装置を提供することを目
的とし、本発明者らがαの値を従来にない広範囲
にわたつて変化させて鋭意調査研究した結果、α
の最適範囲を見い出して本発明を完成したもので
ある。有機汚染物の付着した被洗浄体や有機汚染
物を含む被洗浄気体が酸素ガスと共存し、波長が
185nmと254nmの光を放射する紫外線ランプが有
機汚染物と酸素ガスとに対置され、このランプの
185nmと254nmの光の出力をそれぞれI185とI254と
した時、この比α＝I185／I254が0.08から0.3の範
囲に設定されたことを特徴とするものである。な
お、α＝I185／I254の測定はランプ発光部の中央
点より軸の垂直方向に発光点の10倍以上離れた位
置での軸に平行な面上でのエネルギー密度の比で
近似させた。そして185nmの紫外線は空気に吸収
されるので真空中から非吸収雰囲気中で測定し
た。 以下に図面により本発明の実施例を具体的に説
明する。 図面は本発明の紫外線洗浄装置を簡略化して横
式的に示したものであるが、第１図において箱状
の本体１内にはベルトコンベヤー２が張設され、
このコンベヤー２上にはフイルター３を介して低
圧水銀灯の紫外線ランプ４が設置されている。そ
して入口１ａからコンベヤー２上に載せられた被
洗浄体５はランプ４で照射されて洗浄されながら
進み、ランプ４の下を通過し終るときには洗浄が
完了して出口１ｂより取り出される。本体１の下
方には吸引フアン６が設けられ、冷却空気やオゾ
ン、更には分解された気体状の汚染物などが排出
される。第２図は被洗浄体が酸素ガスと共存した
気体であり、その内に汚染物が浮遊している場合
に用いられる実施例を示したものであり、内部を
被洗浄体が所定速度で流動する管体７には合成石
英製の窓孔７ａが設けられ、その上部にランプ４
が設置されて窓孔７ａを通して紫外線が管体７内
に照射される。そして被洗浄体が窓孔７ａの部分
を通過し終ると洗浄が完了するようになつてい
る。 次にαを広範囲にわたつて変化させて洗浄効果
を調査した結果を説明すると、使用したランプ４
は管径20mm、アーク長100cmの450W低圧水銀灯で
あり、αの値は低圧水銀灯の最冷点温度の制御と
フイルター３の波長185nm光の透過率を変えるこ
とにより変化させた。被洗浄体５は直径10mmの石
英板であり、これをエチルアルコール中で30分間
超音波洗浄した後に、更に16MΩcmの純水で洗つ
て乾燥し、有機汚染物として染料（ローダミン
Ｂ）をエチルアルコールで溶かしてこれを石英板
上に塗布した。そしてこの被洗浄体５がランプ４
の下を５分間で通過するようにし、照射の前後に
おける633nm光の透過率の変化を測定して洗浄効
果の代用特性とした。その測定結果を第１表に示
す。ここで、各被洗浄体５の照射前の透過率は96
％であり、照射後が100％のものを◎印、約99％
のものを〇印、約98％のものを△印、約97％もの
を×印で表示した。
【表】
第１表から明らかな様に、αが0.08から0.3の
範囲では優れた洗浄効果を示し、ことに0.1から
0.2の範囲ではほとんど完全に洗浄することが出
来た。これに対してαが0.08未満や0.3を越える
ところではh〓（185）とh〓（254）の調和が崩れて洗
浄効果が低下し、効率が悪い。 従つて本発明の紫外線洗浄装置の光源系のαを
従来試みられていない0.08から0.3の範囲に設定
することにより、洗浄効果が優れ、このため消費
電力が少く、かつ高速で処理できる紫外線洗浄装
置を提供することができる。
範囲では優れた洗浄効果を示し、ことに0.1から
0.2の範囲ではほとんど完全に洗浄することが出
来た。これに対してαが0.08未満や0.3を越える
ところではh〓（185）とh〓（254）の調和が崩れて洗
浄効果が低下し、効率が悪い。 従つて本発明の紫外線洗浄装置の光源系のαを
従来試みられていない0.08から0.3の範囲に設定
することにより、洗浄効果が優れ、このため消費
電力が少く、かつ高速で処理できる紫外線洗浄装
置を提供することができる。
第１図は本発明の実施例を示す断面図、第２図
は他の実施例を示す断面図である。 １……本体、２……ベルトコンベヤー、３……
フイルター、４……ランプ、５……被洗浄体。
は他の実施例を示す断面図である。 １……本体、２……ベルトコンベヤー、３……
フイルター、４……ランプ、５……被洗浄体。
Claims (1)
- １ 有機汚染物の付着した被洗浄体や有機汚染物
を含む被洗浄気体が酸素ガスと共存し、波長が
185nmと254nmの光を放射する紫外線ランプが有
機汚染物と酸素ガスとに対置され、該185nmと
254nmの光の出力をそれぞれI185とI254とした時、
この比α＝I185／I254が0.08から0.3の範囲に設定
されたことを特徴とする紫外線洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204571A JPS5994823A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204571A JPS5994823A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994823A JPS5994823A (ja) | 1984-05-31 |
| JPH049373B2 true JPH049373B2 (ja) | 1992-02-20 |
Family
ID=16492671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57204571A Granted JPS5994823A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5994823A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018168270A1 (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-20 | 本田技研工業株式会社 | レーザ加工機 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0659453B2 (ja) * | 1986-06-06 | 1994-08-10 | 株式会社東芝 | 基板へのレジスト塗布方法 |
| JPH0644976B2 (ja) * | 1989-04-26 | 1994-06-15 | 松下電器産業株式会社 | 光触媒の再生方法及び光触媒による脱臭装置 |
| JPH02299287A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | プリント回路基板の洗浄方法 |
| JPH03254192A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-13 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層配線基板 |
| JPH1190370A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Iwasaki Electric Co Ltd | 表面処理装置及びその処理方法 |
| WO2009088984A1 (en) * | 2008-01-08 | 2009-07-16 | Newport Corporation | Novel optical filters for use with mercury arc lamp monitoring applications |
| JP6967487B2 (ja) | 2018-05-24 | 2021-11-17 | 本田技研工業株式会社 | レーザ加工機 |
-
1982
- 1982-11-24 JP JP57204571A patent/JPS5994823A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018168270A1 (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-20 | 本田技研工業株式会社 | レーザ加工機 |
| US11285566B2 (en) | 2017-03-14 | 2022-03-29 | Honda Motor Co., Ltd. | Laser machining apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5994823A (ja) | 1984-05-31 |
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