JPH0447957Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0447957Y2 JPH0447957Y2 JP1983129846U JP12984683U JPH0447957Y2 JP H0447957 Y2 JPH0447957 Y2 JP H0447957Y2 JP 1983129846 U JP1983129846 U JP 1983129846U JP 12984683 U JP12984683 U JP 12984683U JP H0447957 Y2 JPH0447957 Y2 JP H0447957Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ozone
- ultraviolet
- cleaning
- cleaned
- irradiation chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は紫外線洗浄装置に関するものである。
紫外線ランプより発生するオゾンを利用して汚
染物を分解洗浄することが従来より行なわれてい
る。例えばシリコンウエハーに感光レジストを塗
付する際の前処理として、主洗浄後にシリコンウ
エハーに付着した大気中の有機汚染物を塗布直前
に追加洗浄することにより分解したり、電子ビー
ムによるスパツタリング蒸着の際に基体に付着し
た真空ポンプの油などによる有機汚染物を同じく
追加洗浄すると塗布膜あるいは蒸着膜の密着性を
著しく向上できることが明らかになつている。そ
の他にもレンズや水晶振動子など多くの被洗浄体
に適用されるが、いずれにしてもウエツト法によ
る主洗浄工程の後にこの紫外線洗浄装置を用いる
と優れた洗浄効果を得ることができる。
染物を分解洗浄することが従来より行なわれてい
る。例えばシリコンウエハーに感光レジストを塗
付する際の前処理として、主洗浄後にシリコンウ
エハーに付着した大気中の有機汚染物を塗布直前
に追加洗浄することにより分解したり、電子ビー
ムによるスパツタリング蒸着の際に基体に付着し
た真空ポンプの油などによる有機汚染物を同じく
追加洗浄すると塗布膜あるいは蒸着膜の密着性を
著しく向上できることが明らかになつている。そ
の他にもレンズや水晶振動子など多くの被洗浄体
に適用されるが、いずれにしてもウエツト法によ
る主洗浄工程の後にこの紫外線洗浄装置を用いる
と優れた洗浄効果を得ることができる。
ところで紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプ
を点灯すると、主として波長が254nmの水銀共鳴
線の紫外線が外部に放出され、従として185nmの
紫外線が、更には他の波長のものがわずかに放出
される。そして、波長185nmの紫外線によつてオ
ゾンが生成し、次に、このオゾンが波長254nmの
紫外線により分解されて発生基の酸素が生成し、
この発生基の酸素が有機汚染物を分解してガス状
態で飛散することが知られている。
を点灯すると、主として波長が254nmの水銀共鳴
線の紫外線が外部に放出され、従として185nmの
紫外線が、更には他の波長のものがわずかに放出
される。そして、波長185nmの紫外線によつてオ
ゾンが生成し、次に、このオゾンが波長254nmの
紫外線により分解されて発生基の酸素が生成し、
この発生基の酸素が有機汚染物を分解してガス状
態で飛散することが知られている。
紫外線による洗浄機構は以上の通りであるが、
この際に発生するオゾンは有害物質であり、装置
外への漏洩量も環境基準で定められる範囲内でな
ければならない。そして、この紫外線洗浄装置で
は酸素を含むガスの供給と、有機汚染物の分解ガ
スの排出のために、作動中は照射室はある程度の
換気が行れている。しかし、この様に換気の目的
が、洗浄終了後の照射室内のオゾンの排除を主と
したものではないためにその風量は少く、オゾン
が完全に排除されるまでに長時間を要した。従つ
て、洗浄終了後に被洗浄物を取出すために装置の
開閉扉を開けると内部のオゾンが漏洩して環境基
準を越えてしまつたり、また、内部のオゾンが排
除されるのを待つて開扉したのでは待ち時間が長
くなつてしまう問題点があつた。
この際に発生するオゾンは有害物質であり、装置
外への漏洩量も環境基準で定められる範囲内でな
ければならない。そして、この紫外線洗浄装置で
は酸素を含むガスの供給と、有機汚染物の分解ガ
スの排出のために、作動中は照射室はある程度の
換気が行れている。しかし、この様に換気の目的
が、洗浄終了後の照射室内のオゾンの排除を主と
したものではないためにその風量は少く、オゾン
が完全に排除されるまでに長時間を要した。従つ
て、洗浄終了後に被洗浄物を取出すために装置の
開閉扉を開けると内部のオゾンが漏洩して環境基
準を越えてしまつたり、また、内部のオゾンが排
除されるのを待つて開扉したのでは待ち時間が長
くなつてしまう問題点があつた。
そこで本考案は、洗浄が終了してから所定の短
時間内に開扉して安全に被洗浄体を取出すことが
可能な紫外線洗浄装置を提供することを目的と
し、その構成は、紫外線ランプの光でオゾンを発
生させ、このオゾンの分解により生成される発生
基の酸素により被洗浄体の表面に付着する有機汚
染物などを分解して洗浄する紫外線洗浄装置であ
つて、１分間に、被洗浄体が支持される照射室を
その容積の少なくとも５倍の風量で換気が可能な
排気装置を備えてなることを特徴とする。
時間内に開扉して安全に被洗浄体を取出すことが
可能な紫外線洗浄装置を提供することを目的と
し、その構成は、紫外線ランプの光でオゾンを発
生させ、このオゾンの分解により生成される発生
基の酸素により被洗浄体の表面に付着する有機汚
染物などを分解して洗浄する紫外線洗浄装置であ
つて、１分間に、被洗浄体が支持される照射室を
その容積の少なくとも５倍の風量で換気が可能な
排気装置を備えてなることを特徴とする。
以下に図面に示す実施例に基づいて本考案を具
体的に説明する。
体的に説明する。
第１図は装置の断面図を示すが、装置箱１には
灯体２が内蔵されて二重構造をなし、発生したオ
ゾンが外部に漏洩しないようになつている。灯体
２の内部が照射室３であるが、その上方には紫外
線ランプ３としてＵ字状の350W高出力低圧水銀
灯が２本配設され、その背後にはミラー５が設け
られて紫外線が下方に照射される。灯体２の天井
上面には冷却水路６が固着されて水冷されてい
る。照射室３の中央部には被洗浄体支持台７が配
設されており、被洗浄体８が支持されるが、この
被洗浄体８は開閉扉９を開閉して出し入れされ
る。灯体２の側方には換気のための吸入孔１０と
排気孔１１が設けられ、排気孔１１には排気装置
２０が接続されて、この中でオゾンが分解されて
装置箱１外に排出されるようになつている。
灯体２が内蔵されて二重構造をなし、発生したオ
ゾンが外部に漏洩しないようになつている。灯体
２の内部が照射室３であるが、その上方には紫外
線ランプ３としてＵ字状の350W高出力低圧水銀
灯が２本配設され、その背後にはミラー５が設け
られて紫外線が下方に照射される。灯体２の天井
上面には冷却水路６が固着されて水冷されてい
る。照射室３の中央部には被洗浄体支持台７が配
設されており、被洗浄体８が支持されるが、この
被洗浄体８は開閉扉９を開閉して出し入れされ
る。灯体２の側方には換気のための吸入孔１０と
排気孔１１が設けられ、排気孔１１には排気装置
２０が接続されて、この中でオゾンが分解されて
装置箱１外に排出されるようになつている。
排気装置２０は、第２図に示すようにフイルタ
ー３０を脱着可能に内蔵するが、蓋２１を開けて
段部２２上にフイルター３０を載置し、上方をス
プリング２３で押圧することにより装着されてお
り、フイルター３０を取換える際も簡単に取出せ
るようになつている。そして段部２２の下方には
フアン２４が設けられ、この吸引力により、オゾ
ンを含む照射室３内の空気が、排気孔１１、フイ
ルター３０を通つて排出される。このフアン２４
の吸引力は強力であつて、１分間の短時間内に照
射室３の容積の少なくとも５倍の風量を排出でき
るものが使用される。
ー３０を脱着可能に内蔵するが、蓋２１を開けて
段部２２上にフイルター３０を載置し、上方をス
プリング２３で押圧することにより装着されてお
り、フイルター３０を取換える際も簡単に取出せ
るようになつている。そして段部２２の下方には
フアン２４が設けられ、この吸引力により、オゾ
ンを含む照射室３内の空気が、排気孔１１、フイ
ルター３０を通つて排出される。このフアン２４
の吸引力は強力であつて、１分間の短時間内に照
射室３の容積の少なくとも５倍の風量を排出でき
るものが使用される。
フイルター３０は、第３図に示すように、内面
にフツ素樹脂がコーテングされた筒体３１内にハ
ニカム状の活性炭３２が多層に保持されている。
もつとも活性炭３２の代りに二酸化マンガンなど
の触媒も使用可能であり、要はオゾンを吸着や分
解させるものであればよい。活性炭３２，３２間
には長さ数mmの短筒状のスペーサー３３が介装さ
れ、従つて活性炭３２は相互に数mm離間してい
る。このため、ハニカム状の活性炭３２内を層流
で通過したオゾンを含む空気がこの間隙で乱流と
なり次の活性炭３２内に流れ込むので、活性炭３
２との反応性が向上し効率よくオゾンが吸着され
る。従つてハニカム状の活性炭３２を５層に並べ
ておくと100ppmのオゾンは0.1ppm以下にまで吸
着分解されて環境基準を満すことができる。な
お、入口部にはガラス繊維３４が充填されてお
り、異物が除去されるようになつている。
にフツ素樹脂がコーテングされた筒体３１内にハ
ニカム状の活性炭３２が多層に保持されている。
もつとも活性炭３２の代りに二酸化マンガンなど
の触媒も使用可能であり、要はオゾンを吸着や分
解させるものであればよい。活性炭３２，３２間
には長さ数mmの短筒状のスペーサー３３が介装さ
れ、従つて活性炭３２は相互に数mm離間してい
る。このため、ハニカム状の活性炭３２内を層流
で通過したオゾンを含む空気がこの間隙で乱流と
なり次の活性炭３２内に流れ込むので、活性炭３
２との反応性が向上し効率よくオゾンが吸着され
る。従つてハニカム状の活性炭３２を５層に並べ
ておくと100ppmのオゾンは0.1ppm以下にまで吸
着分解されて環境基準を満すことができる。な
お、入口部にはガラス繊維３４が充填されてお
り、異物が除去されるようになつている。
しかして、上記構成の洗浄装置において、被洗
浄体８を支持台７上にセツトし、開閉扉９を閉じ
て紫外線ランプ４を点灯すると紫外線が照射され
て洗浄されるが、洗浄が終了して紫外線ランプ４
が消灯された後もフアン２４は回転し、その吸引
力によつてオゾンを含む空気は排気装置２０内に
導かれ、フイルター３０によつてオゾンが環境基
準以下に吸着分解されて装置箱１外に排出され
る。そして消灯後１分間の間に、照射室３の容積
の約５倍の風量が排出されて換気されるので、照
射室３内のオゾンは環境基準の0.1ppm以下とな
る。このことは、例えば電気機器の防爆基準とし
て、その容器の５倍の換気をしたのち不活性ガス
を充填することにより安全を確保することが定め
られていることからも理解される。従つて、消灯
１分後に開閉扉９を開けて被洗浄体８を取出して
もオゾンの漏洩により環境が害されることがな
い。
浄体８を支持台７上にセツトし、開閉扉９を閉じ
て紫外線ランプ４を点灯すると紫外線が照射され
て洗浄されるが、洗浄が終了して紫外線ランプ４
が消灯された後もフアン２４は回転し、その吸引
力によつてオゾンを含む空気は排気装置２０内に
導かれ、フイルター３０によつてオゾンが環境基
準以下に吸着分解されて装置箱１外に排出され
る。そして消灯後１分間の間に、照射室３の容積
の約５倍の風量が排出されて換気されるので、照
射室３内のオゾンは環境基準の0.1ppm以下とな
る。このことは、例えば電気機器の防爆基準とし
て、その容器の５倍の換気をしたのち不活性ガス
を充填することにより安全を確保することが定め
られていることからも理解される。従つて、消灯
１分後に開閉扉９を開けて被洗浄体８を取出して
もオゾンの漏洩により環境が害されることがな
い。
この様に、本考案の紫外線洗浄装置は、１分間
に、被洗浄体が支持される照射室をその容積の少
なくとも５倍の風量で換気が可能であり、オゾン
を吸着や分解するフイルターを内蔵した排気装置
を備えるようにしたので、紫外線ランプの消灯後
に短時間で照射室内のオゾンは環境基準以下とな
り、従つて本考案によれば、洗浄が終了してから
短時間内に開扉して安全に被洗浄体を取出すこと
が可能な紫外線洗浄装置を提供することができ
る。
に、被洗浄体が支持される照射室をその容積の少
なくとも５倍の風量で換気が可能であり、オゾン
を吸着や分解するフイルターを内蔵した排気装置
を備えるようにしたので、紫外線ランプの消灯後
に短時間で照射室内のオゾンは環境基準以下とな
り、従つて本考案によれば、洗浄が終了してから
短時間内に開扉して安全に被洗浄体を取出すこと
が可能な紫外線洗浄装置を提供することができ
る。
第１図は本考案実施例の断面図、第２図は排気
装置の断面図、第３図はフイルターの断面図であ
る。 １……装置箱、２……灯体、３……照射室、４
……紫外線ランプ、５……ミラー、７……支持
台、８……被洗浄体、９……開閉扉、１０……吸
入孔、１１……排気孔、２０……排気装置、２４
……フアン、３０……フイルター、３２……活性
炭。
装置の断面図、第３図はフイルターの断面図であ
る。 １……装置箱、２……灯体、３……照射室、４
……紫外線ランプ、５……ミラー、７……支持
台、８……被洗浄体、９……開閉扉、１０……吸
入孔、１１……排気孔、２０……排気装置、２４
……フアン、３０……フイルター、３２……活性
炭。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 紫外線ランプの光でオゾンを発生させ、このオ
ゾンの分解により生成される発生基の酸素により
被洗浄体の表面に付着する有機汚染物などを分解
して洗浄する紫外線洗浄装置であつて、 １分間に、被洗浄体が支持される照射室をその
容積の少なくとも５倍の風量で換気が可能であ
り、オゾンを吸着や分解するフイルターを内蔵し
た排気装置を備えてなる紫外線洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12984683U JPS6039240U (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12984683U JPS6039240U (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6039240U JPS6039240U (ja) | 1985-03-19 |
| JPH0447957Y2 true JPH0447957Y2 (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=30294075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12984683U Granted JPS6039240U (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6039240U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0621236Y2 (ja) * | 1985-03-28 | 1994-06-01 | シャープ株式会社 | 半導体基板の洗浄装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT992983B (it) * | 1972-08-18 | 1975-09-30 | Gen Electric | Metodo per asportare materiale fotoresistente da un supporto |
| JPS5588335A (en) * | 1978-12-07 | 1980-07-04 | Kokusai Electric Co Ltd | Automatic conveying mechanism for plasma etching/ stripping device |
| JPS5858726A (ja) * | 1981-10-05 | 1983-04-07 | Hitachi Ltd | 半導体処理装置 |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP12984683U patent/JPS6039240U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6039240U (ja) | 1985-03-19 |
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