JPH0495057A - Ｎ―置換スルホンアニリド化合物 - Google Patents
Ｎ―置換スルホンアニリド化合物Info
- Publication number
- JPH0495057A JPH0495057A JP2209547A JP20954790A JPH0495057A JP H0495057 A JPH0495057 A JP H0495057A JP 2209547 A JP2209547 A JP 2209547A JP 20954790 A JP20954790 A JP 20954790A JP H0495057 A JPH0495057 A JP H0495057A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- nitrophenyl
- cyclohexyloxy
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、Ｎ−置換スルホンアニリド化合物、更に詳細
には消炎作用を有する新規なＮ−置換スルホンアニリド
化合物に関する。
には消炎作用を有する新規なＮ−置換スルホンアニリド
化合物に関する。
従来の技術
消炎作用を有するスルホンアミド化合物に関しては、米
国特許第３．８４０．５９７号明細書、同第３，８５６
、８５９号明細書、同第３．８０６．０２４号明細書、
特開昭６１−１０５８４号公報、特開平２−２６８号公
報に記載の化合物［たとえば、Ｎ−（４−ニトロ−２〜
フェノキシフェニル）メタンスルホンミ）’、Ｎ−（２
−シクロへキシルオキシ−４−二トロフェニル）メタン
スルホンアミドなどコなどが知られている。
国特許第３．８４０．５９７号明細書、同第３，８５６
、８５９号明細書、同第３．８０６．０２４号明細書、
特開昭６１−１０５８４号公報、特開平２−２６８号公
報に記載の化合物［たとえば、Ｎ−（４−ニトロ−２〜
フェノキシフェニル）メタンスルホンミ）’、Ｎ−（２
−シクロへキシルオキシ−４−二トロフェニル）メタン
スルホンアミドなどコなどが知られている。
発明が解決しようとする課題
消炎作用を有する薬剤は、臨床上の副作用として消化管
障害が問題になっている。本発明は長期投与に耐えうる
安全性の高い薬剤を提供することを目的とする。
障害が問題になっている。本発明は長期投与に耐えうる
安全性の高い薬剤を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明者らは、上記を目的に鋭意検討した結果、消炎、
解熱、鎮痛、抗アレルギー作用を有するため、消炎剤、
解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として有用であり、し
かも消化管障害などの副作用の少ない安全性の高い化合
物を見出し、本発明を完成した。
解熱、鎮痛、抗アレルギー作用を有するため、消炎剤、
解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として有用であり、し
かも消化管障害などの副作用の少ない安全性の高い化合
物を見出し、本発明を完成した。
本発明は、式Ｉ
Ｎ（Ｊ２
［式中、Ｒ１はハロゲン原子で置換きれていてもよい低
級アルキル基であり、Ｒ１は低級アルキル基、′ハロゲ
ン原子で置換きれていてもよい。
級アルキル基であり、Ｒ１は低級アルキル基、′ハロゲ
ン原子で置換きれていてもよい。
ベンジル基、式
％式％
（式中、Ｒ４は水酸基、低級アルコキシ基または低級ア
ルカノイルオキシ基であり、ｍは１〜４の整数である。
ルカノイルオキシ基であり、ｍは１〜４の整数である。
）で表わきれる基または式％式％
（式中、Ｒ６は低級アルカノイル基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基またはベンゾイル基であり
、ｎは０〜３の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ１は低級アルキル基で置換きれていてもよいシクロア
ルキル基であり、Ａは酸素原子、硫黄原子、スルフィニ
ル基またはスルホニル基である。］で表わされるＮ−置
換スルホンアニリド化合物である。
ルボニル基、カルボキシル基またはベンゾイル基であり
、ｎは０〜３の整数である。）で表わされる基であり、
Ｒ１は低級アルキル基で置換きれていてもよいシクロア
ルキル基であり、Ａは酸素原子、硫黄原子、スルフィニ
ル基またはスルホニル基である。］で表わされるＮ−置
換スルホンアニリド化合物である。
本発明において、ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子である。低級アルキル基
とは炭素原子数１−５個の直鎖状または分枝鎖状のアル
キル基であり、たとえばメチル基、エチル基、プロピル
基、インピロピル基、ブチル基、３−ペンチル基などで
ある。シクロアルキル基とは炭素原子数５〜８個のシク
ロアルキル基であり、たとえばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基などである。低級アル
コキシ基とは炭素原子数１〜５個のアルコキシ基であり
、たとえばメトキシ基、ニドキシ基、プロピルオキシ基
、ブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基などである。
子、臭素原子またはヨウ素原子である。低級アルキル基
とは炭素原子数１−５個の直鎖状または分枝鎖状のアル
キル基であり、たとえばメチル基、エチル基、プロピル
基、インピロピル基、ブチル基、３−ペンチル基などで
ある。シクロアルキル基とは炭素原子数５〜８個のシク
ロアルキル基であり、たとえばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基などである。低級アル
コキシ基とは炭素原子数１〜５個のアルコキシ基であり
、たとえばメトキシ基、ニドキシ基、プロピルオキシ基
、ブチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基などである。
低級アルカノイル基とは炭素原子数１〜５個のアルカノ
イル基であり、たとえばホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基などであ
る。低級アルコキシカルボニル基とは炭素原子数１〜５
個のアルフキジカルボニル基であり、たとえばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシ
カルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブチ
ルオキシカルボニル基などである。低級アルカノイルオ
キシ基とは、炭素原子数１〜５個のアルカノイルオキシ
基であり、たとえばホルミルオキシ基、アセトキシ基、
プロピオニルオキシ基、インプロピオニルオキシ基、ブ
チリルオキシ基などである。
イル基であり、たとえばホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基などであ
る。低級アルコキシカルボニル基とは炭素原子数１〜５
個のアルフキジカルボニル基であり、たとえばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシ
カルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブチ
ルオキシカルボニル基などである。低級アルカノイルオ
キシ基とは、炭素原子数１〜５個のアルカノイルオキシ
基であり、たとえばホルミルオキシ基、アセトキシ基、
プロピオニルオキシ基、インプロピオニルオキシ基、ブ
チリルオキシ基などである。
本発明の式Ｉの化合物は、たとえば、特開平２−２６８
号公報に記載された化合物から下記に示す方法によって
製造することができる。すなわち、（１）式Ｉの化合物
は、下記式■ （式中、ＲＩ Ｒ１およびＡは前記と同意義である。
号公報に記載された化合物から下記に示す方法によって
製造することができる。すなわち、（１）式Ｉの化合物
は、下記式■ （式中、ＲＩ Ｒ１およびＡは前記と同意義である。
）で表わされる化合物を、塩基存在下式（式中、Ｒ１は
前記と同意義であり、Ｘは塩素原子−１臭素原子または
ヨウ素原子である。）で表わされる化合物を反応きせる
ことにより得ることができる。
前記と同意義であり、Ｘは塩素原子−１臭素原子または
ヨウ素原子である。）で表わされる化合物を反応きせる
ことにより得ることができる。
本反応における塩基とはトリエチルアミン、トリブチル
アミン、１．５−ジアザビシクロＥ４．３゜０コー５−
ノナノン、１．８−ジアザビシクロ［５゜４．０コー７
−ウンデセン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリンな
どの有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、ｔ−ブトキシカリウムなどのアルカリ金属アル
コキシド、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルア
ミドなどの有機金属塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウム
、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属Ｒ＃塩、次
階水素ナトリム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属
次階水素塩、金属ナトリウム、ナトリウムアミドなどで
ある。本反応は無溶媒または水、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、石油エーテル、ヘキサン
、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ピ
リジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、ジクロロメタン、クロロホルムなどの溶媒中
で行うことができる。
アミン、１．５−ジアザビシクロＥ４．３゜０コー５−
ノナノン、１．８−ジアザビシクロ［５゜４．０コー７
−ウンデセン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリンな
どの有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、ｔ−ブトキシカリウムなどのアルカリ金属アル
コキシド、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルア
ミドなどの有機金属塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウム
、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属Ｒ＃塩、次
階水素ナトリム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属
次階水素塩、金属ナトリウム、ナトリウムアミドなどで
ある。本反応は無溶媒または水、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、石油エーテル、ヘキサン
、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ピ
リジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、ジクロロメタン、クロロホルムなどの溶媒中
で行うことができる。
（２）Ｒ’が低級アルカノイル基またはベンゾイル基で
ありｍがＯである式Ｉの化合物は、式■の化合物を、塩
基存在下、下記式 （式中、Ｒ１は低級アルカノイル基またはベンゾイル基
である。）で表わされる酸無水物を用い、上記（１）と
同様に反応させても得ることができる。
ありｍがＯである式Ｉの化合物は、式■の化合物を、塩
基存在下、下記式 （式中、Ｒ１は低級アルカノイル基またはベンゾイル基
である。）で表わされる酸無水物を用い、上記（１）と
同様に反応させても得ることができる。
（３）Ｒ’が水酸基である式■の化合物は、Ｒ５がカル
ボキシル基もしくは低級アルコキシカルボニル基または
Ｒ４が低級アルカノイルオキシ基である式Ｉの化合物を
、水素化リチウムアルミニウムなどの還元剤を用いた通
常の方法によって還元しても得ることができる。
ボキシル基もしくは低級アルコキシカルボニル基または
Ｒ４が低級アルカノイルオキシ基である式Ｉの化合物を
、水素化リチウムアルミニウムなどの還元剤を用いた通
常の方法によって還元しても得ることができる。
（４）Ｒ’がカルボキシル基である式Ｉの化合物は、Ｒ
’が低級アルコキシカルボニル基である式Ｉの化合物を
加水分解しても得ることができる。
’が低級アルコキシカルボニル基である式Ｉの化合物を
加水分解しても得ることができる。
本反応における加水分解とは塩基性条件または酸性条件
における通常の方法、たとえば塩基性条件では、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムなどを用い
る方法、酸性条件では、塩酸、硫酸などを用いる方法で
ある。ここで用いる溶媒は任意に選択すればよいが、一
般には水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、ギ酸、酢酸など
である。
における通常の方法、たとえば塩基性条件では、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムなどを用い
る方法、酸性条件では、塩酸、硫酸などを用いる方法で
ある。ここで用いる溶媒は任意に選択すればよいが、一
般には水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、ギ酸、酢酸など
である。
（５）Ａがスルフィニル基またはスルホニル基である式
■の化合物は、上記の方法で得たＡが硫黄原子である式
Ｉの化合物を、スルフィドをスルホキシドまたはスルホ
ンに変換する通常の酸化方法（たとえば過酸化水素、過
酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸、過マンガン酸カリウム、
過ヨウ素酸ナトリウムなどを用いる方法）で酸化するこ
とによっても得ることができる。
■の化合物は、上記の方法で得たＡが硫黄原子である式
Ｉの化合物を、スルフィドをスルホキシドまたはスルホ
ンに変換する通常の酸化方法（たとえば過酸化水素、過
酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸、過マンガン酸カリウム、
過ヨウ素酸ナトリウムなどを用いる方法）で酸化するこ
とによっても得ることができる。
光１１と雅未
本発明の化合物は、消炎、解熱、鎮痛、抗アレルギー作
用などを示し、消化管障害などの副作用が少ないため消
炎剤、解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として有用であ
る。
用などを示し、消化管障害などの副作用が少ないため消
炎剤、解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として有用であ
る。
この目的のために、この化合物は経口または非経口的に
慣用の投与剤型で投与することができる。これらは、た
とえば錠剤、粉剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、液剤、
乳剤、懸濁剤、注射剤などであり、いずれも通常の製剤
技術で製造することができる。人に対して消炎剤、解熱
剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として用いる場合、その投
与量は年齢、体重、症状、投与経路、投与回数などによ
って異なるが、通常１日当り２０〜１０００ｍｇである
。
慣用の投与剤型で投与することができる。これらは、た
とえば錠剤、粉剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、液剤、
乳剤、懸濁剤、注射剤などであり、いずれも通常の製剤
技術で製造することができる。人に対して消炎剤、解熱
剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として用いる場合、その投
与量は年齢、体重、症状、投与経路、投与回数などによ
って異なるが、通常１日当り２０〜１０００ｍｇである
。
実施例
次に、実施例を挙げ本発明をきらに詳細に説明する。
実施例１
６０％水素化ナトリウム０．２２ｇを含むＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５．５ｍＱ懸濁液に、室温下Ｎ−（２
−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル〉メタン
スルホンアミド１．６ｇを含むＮ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド５．０ｍＱ溶液を加え、１０分間攪拌した後、ヨ
ウ化メチル１．４ｇを加え、１０分間攪拌した。反応液
に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食
塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
チルホルムアミド５．５ｍＱ懸濁液に、室温下Ｎ−（２
−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル〉メタン
スルホンアミド１．６ｇを含むＮ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド５．０ｍＱ溶液を加え、１０分間攪拌した後、ヨ
ウ化メチル１．４ｇを加え、１０分間攪拌した。反応液
に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食
塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去して得られた粗結晶をエタノール−〇−ヘキ
サンで再結晶して、淡黄色針状晶のＮ−（２−シクロへ
キシルオキシ−４−二トロフェニル）−Ｎ−メチルメタ
ンスルホンアミド１．４ｇを得た。
サンで再結晶して、淡黄色針状晶のＮ−（２−シクロへ
キシルオキシ−４−二トロフェニル）−Ｎ−メチルメタ
ンスルホンアミド１．４ｇを得た。
０１．１）、 １２９〜１３１℃
実施例１と同様にして、下記に示される化合物を得た。
Ｎ−（２−シクロペンチルチオ−４−ニトロフェニル〉
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミドｍ、ｐ、 ９６．５
〜９７℃ Ｎ−（２−シクロへキシルチオ−４−ニトロフェニル〉
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミドｆｉ１１．１０１〜
１０２℃ 実施例２ Ｎ−（２−シクロヘキシルオキシ−４−二トロフェニル
）メタンスルホンアミドを原料とし、４−プロモベンジ
ルクロリト、ブロモ酢酸エチルまたはクロロアセトンを
用い実施例１と同様に反応させて、下記に示される化合
物を得た。
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミドｍ、ｐ、 ９６．５
〜９７℃ Ｎ−（２−シクロへキシルチオ−４−ニトロフェニル〉
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミドｆｉ１１．１０１〜
１０２℃ 実施例２ Ｎ−（２−シクロヘキシルオキシ−４−二トロフェニル
）メタンスルホンアミドを原料とし、４−プロモベンジ
ルクロリト、ブロモ酢酸エチルまたはクロロアセトンを
用い実施例１と同様に反応させて、下記に示される化合
物を得た。
Ｎ−（４−ブロモベンジル）−Ｎ−（２−シクロへキシ
ルオキシ−４−ニトロフェニル）メタンスルホンアミド ｍ、ｐ、 １８５〜１８５．５℃ Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル
）−Ｎ−エトキシカルボニルメチルメタンスルホンアミ
ド ｍ．ｐ． １２０〜１２２℃ Ｎ−アセトニル−Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４
−二トロフェニル）メタンスルホンアミドｍ．ｐ． １
３８〜１３９℃ 実施例３ ６０％水素化ナトリウム０．２２ｇを含むＮ．Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５．５ｍｌ懸濁液に、室温下Ｎ−（２
−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル）メタン
スルホンアミド１．６ｇを含むＮ．Ｎ−ジメチルホルム
アミド５．０ｍｌ溶液を加え、１０分間攪拌後、水冷下
メトキシメチルクロリド０． ４８ ｇを加え、２０分
間攪拌し、更に室温で３０分間攪拌した。反応液に水を
加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の
順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた粗結晶をエタノールで再結晶して、黄
色プリズム晶のＮ−（２シクロへキシルオキシ−４−二
トロフェニル）−Ｎ−メトキシメチルメタンスルホンア
ミド１．６ｇを得た。
ルオキシ−４−ニトロフェニル）メタンスルホンアミド ｍ、ｐ、 １８５〜１８５．５℃ Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル
）−Ｎ−エトキシカルボニルメチルメタンスルホンアミ
ド ｍ．ｐ． １２０〜１２２℃ Ｎ−アセトニル−Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４
−二トロフェニル）メタンスルホンアミドｍ．ｐ． １
３８〜１３９℃ 実施例３ ６０％水素化ナトリウム０．２２ｇを含むＮ．Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５．５ｍｌ懸濁液に、室温下Ｎ−（２
−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル）メタン
スルホンアミド１．６ｇを含むＮ．Ｎ−ジメチルホルム
アミド５．０ｍｌ溶液を加え、１０分間攪拌後、水冷下
メトキシメチルクロリド０． ４８ ｇを加え、２０分
間攪拌し、更に室温で３０分間攪拌した。反応液に水を
加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の
順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた粗結晶をエタノールで再結晶して、黄
色プリズム晶のＮ−（２シクロへキシルオキシ−４−二
トロフェニル）−Ｎ−メトキシメチルメタンスルホンア
ミド１．６ｇを得た。
ｍ．ｐ． １４７〜１４９℃
実施例３と同様にして、下記に示きれる化合物を得た。
Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル
）−Ｎ−メトキシメチルエタンスルホンアミド ｍ．ｐ．１２２〜１２２．５℃ Ｎ−［２−（トランス−２−メチルシクロへキシルオキ
シ）−４−ニトロフェニル］−Ｎ−メトキシメチルメタ
ンスルホンアミド ｍ．ｐ． １３１．５〜１３２．５℃Ｎ−（２−シク
ロペンチルチオ−４−二トロフェニル）−Ｎ−メトキシ
メチルメタンスルホンアミド ｍ．ｐ． １２９〜１２９．５℃ Ｎ−（２−シクロへキシルチオ−４−ニトロフェニル）
−Ｎ−メトキシメチルメタンスルホンアミド ｍ．ｐ． １０３〜１０４℃ 実施例４ ６０％水素化ナトリウム０． ２２ ｇを含むＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド５． ５ｒｄ懸濁液に、室温下Ｎ
−（２−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル）
メタンスルホンアミド１．６ｇを含むＮ．Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５．０ｍｌ溶液を加え、１０分間攪拌後、
水冷下クロロ次階エチル０． ６５ ｇを加え、２０分
間攪拌し、更に室温で１時間攪拌した。反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ｎ−へキサン：ジクロロメタン：酢酸
エチル＝ｌＯ：５：１）−ＣＭ部製後ジクロロメタン−
ｎ−ヘキサンで再結晶して、淡黄色針状晶のＮ−（２−
シクロへキシルオキシ−４−二トロフェニル）−Ｎ−エ
トキシカルボニルメタンスルホンアミド０．１４ ｇを
得た。
）−Ｎ−メトキシメチルエタンスルホンアミド ｍ．ｐ．１２２〜１２２．５℃ Ｎ−［２−（トランス−２−メチルシクロへキシルオキ
シ）−４−ニトロフェニル］−Ｎ−メトキシメチルメタ
ンスルホンアミド ｍ．ｐ． １３１．５〜１３２．５℃Ｎ−（２−シク
ロペンチルチオ−４−二トロフェニル）−Ｎ−メトキシ
メチルメタンスルホンアミド ｍ．ｐ． １２９〜１２９．５℃ Ｎ−（２−シクロへキシルチオ−４−ニトロフェニル）
−Ｎ−メトキシメチルメタンスルホンアミド ｍ．ｐ． １０３〜１０４℃ 実施例４ ６０％水素化ナトリウム０． ２２ ｇを含むＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド５． ５ｒｄ懸濁液に、室温下Ｎ
−（２−シクロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル）
メタンスルホンアミド１．６ｇを含むＮ．Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５．０ｍｌ溶液を加え、１０分間攪拌後、
水冷下クロロ次階エチル０． ６５ ｇを加え、２０分
間攪拌し、更に室温で１時間攪拌した。反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ｎ−へキサン：ジクロロメタン：酢酸
エチル＝ｌＯ：５：１）−ＣＭ部製後ジクロロメタン−
ｎ−ヘキサンで再結晶して、淡黄色針状晶のＮ−（２−
シクロへキシルオキシ−４−二トロフェニル）−Ｎ−エ
トキシカルボニルメタンスルホンアミド０．１４ ｇを
得た。
ｉｎ、ｐ、 １４１〜１４３℃
実施例５
Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４−二トロフェニル
）メタンスルホンアミド１．４ｇを含むピリジン５．０
ｍｌ溶液に室温下ベンゾイルクロリド０．９０ｇを加え
、１２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出し、有機層を水、３規定塩酸、飽和食塩水の順で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られた粗結晶をジクロロメタン−酢酸エチルで再結
晶して、淡黄色針状晶のＮ−ベンゾイル−Ｎ−（２−シ
クロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル）メタンスル
ホンアミド１．６ｇを得た。
）メタンスルホンアミド１．４ｇを含むピリジン５．０
ｍｌ溶液に室温下ベンゾイルクロリド０．９０ｇを加え
、１２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出し、有機層を水、３規定塩酸、飽和食塩水の順で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られた粗結晶をジクロロメタン−酢酸エチルで再結
晶して、淡黄色針状晶のＮ−ベンゾイル−Ｎ−（２−シ
クロへキシルオキシ−４−ニトロフェニル）メタンスル
ホンアミド１．６ｇを得た。
ｍ、ｐ、 １９２〜１９３°Ｃ
実施例６
Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４−二トロフェニル
）メタンスルホンアミド１．０ｇを含むピリジン１０ｔ
ｎｌｌ溶液に、水冷下無水酢酸０．５ｇを加え、室温で
４時間攪拌した。反応液に水を加え、ジクロロメタンで
抽出し、有機層を水、３規定塩酸、飽和食塩水の順で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られた粗結晶を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンで再結晶
して、淡黄色結晶のＮ−アセチル−Ｎ−（２−シクロへ
キシルオキシ−４−二トロフェニル）メタンスルホンア
ミドｏ、 ｓｏ ｇを得た。
）メタンスルホンアミド１．０ｇを含むピリジン１０ｔ
ｎｌｌ溶液に、水冷下無水酢酸０．５ｇを加え、室温で
４時間攪拌した。反応液に水を加え、ジクロロメタンで
抽出し、有機層を水、３規定塩酸、飽和食塩水の順で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られた粗結晶を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンで再結晶
して、淡黄色結晶のＮ−アセチル−Ｎ−（２−シクロへ
キシルオキシ−４−二トロフェニル）メタンスルホンア
ミドｏ、 ｓｏ ｇを得た。
ｍ、ｐ、 １９１〜１９３℃
実施例６と同様にしてＮ−アセチル−Ｎ−（２−シクロ
へキシルオキシ−４−ニトロフェニル）クロロメタンス
ルホンアミドを得た。
へキシルオキシ−４−ニトロフェニル）クロロメタンス
ルホンアミドを得た。
ｍ、ｐ、 １５７．５〜１５９℃
実施例７
Ｎ−（２−シクロへキシルオキシ−４−二トロフェニル
〉−Ｎ−エトキシカルボニルメチルメタンスルホンアミ
ド ン３ｍｌ溶液に、水冷下水素化リチウムアルミニウム０
． ０５ ｇを加えた後、室温で４０分間攪拌した。反
応液に酢酸エチル、水、３規定塩酸の順に加え、酢酸エ
チルで抽出後、有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
〉−Ｎ−エトキシカルボニルメチルメタンスルホンアミ
ド ン３ｍｌ溶液に、水冷下水素化リチウムアルミニウム０
． ０５ ｇを加えた後、室温で４０分間攪拌した。反
応液に酢酸エチル、水、３規定塩酸の順に加え、酢酸エ
チルで抽出後、有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去して得られた粗結晶をエタノール−ｎ−ヘキ
サンで再結晶して、淡黄色板状晶のＮ−（２−シクロヘ
キシルオキシ−４−ニトロフェニル）−Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル〉メタンスルホンアミド０． ４６ ｇを
得た。
サンで再結晶して、淡黄色板状晶のＮ−（２−シクロヘ
キシルオキシ−４−ニトロフェニル）−Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル〉メタンスルホンアミド０． ４６ ｇを
得た。
ｒａ．ｐ． １３２〜１３６℃
実施例８
Ｎ−（２−シクロヘキシルオキシ−４−ニトロフェニル
）−Ｎ＝エトキシカルボニルメチルメタンスルホンアミ
ド０．６ｇを含むテトラヒドロフラン６ｍｌおよびエタ
ノール２ｍ１１の混合溶液に、室温で２規定水酸化ナト
リウム水溶液１．５ｍｌｌを加え、３０分間攪拌した。
）−Ｎ＝エトキシカルボニルメチルメタンスルホンアミ
ド０．６ｇを含むテトラヒドロフラン６ｍｌおよびエタ
ノール２ｍ１１の混合溶液に、室温で２規定水酸化ナト
リウム水溶液１．５ｍｌｌを加え、３０分間攪拌した。
反応液に３規定塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機
層を水、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得られた粗結晶をジクロ
ロメタンｎ−ヘキサンで再結晶して、淡黄色プリズム晶
のＮ−カルボキシメチル−Ｎ−（２−シクロへキシルオ
キシ−４−二トロフェニル）メタンスルホンアミド０．
５３ ｇを得た。
層を水、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得られた粗結晶をジクロ
ロメタンｎ−ヘキサンで再結晶して、淡黄色プリズム晶
のＮ−カルボキシメチル−Ｎ−（２−シクロへキシルオ
キシ−４−二トロフェニル）メタンスルホンアミド０．
５３ ｇを得た。
ｍ．ｐ． １６４〜１６５℃
実施例９
Ｎ−（２−シクロへキシルチオ−４−ニトロフェニル）
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミＦ ０． ７５ｇを含
むＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．０ｍｌ溶液に水冷
下ｍークロロ過安息香酸０． ５１ ｇを加え、１時間
攪拌した。反応液に飽和度酸水素ナトリウム水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去して得られた粗結晶をエタノールで再結晶して、黄色
結晶のＮ−（２−シクロへキシルスルフィニル−４−ニ
トロフェニル）−Ｎ−メチルメタンスルホンアミド０．
４６ ｇを得た。
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミＦ ０． ７５ｇを含
むＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．０ｍｌ溶液に水冷
下ｍークロロ過安息香酸０． ５１ ｇを加え、１時間
攪拌した。反応液に飽和度酸水素ナトリウム水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去して得られた粗結晶をエタノールで再結晶して、黄色
結晶のＮ−（２−シクロへキシルスルフィニル−４−ニ
トロフェニル）−Ｎ−メチルメタンスルホンアミド０．
４６ ｇを得た。
ｍ、ｐ、 １５５〜１５６℃
実施例１Ｏ
Ｎ−（２−シクロへキシルチオ−４−ニトロフェニル）
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミ）”０．３５ｇを含む
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３．０ｍｌ溶液に水冷下
ｍ−クロロ過安息香酸０．９６ｇを加え、室温で１時間
攪拌した。反応液に飽和度酸水素ナトリウム水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去して得られた粗結晶ヲエタノールー〇−ヘキサンで再
結晶して、淡黄色＆４のＮ−（２−シクロへキシルスル
ホニル−４−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルメタンスル
ホンアミド０゜２１ｇを得た。
−Ｎ−メチルメタンスルホンアミ）”０．３５ｇを含む
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３．０ｍｌ溶液に水冷下
ｍ−クロロ過安息香酸０．９６ｇを加え、室温で１時間
攪拌した。反応液に飽和度酸水素ナトリウム水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去して得られた粗結晶ヲエタノールー〇−ヘキサンで再
結晶して、淡黄色＆４のＮ−（２−シクロへキシルスル
ホニル−４−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルメタンスル
ホンアミド０゜２１ｇを得た。
ｍ、ｐ、 １３４〜１３５℃
Claims (1)
- （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はハロゲン原子で置換されていてもよい
低級アルキル基であり、Ｒ＾２は低級アルキル基、「ハ
ロゲン原子で置換されていてもよい」ベンジル基、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４は水酸基、低級アルコキシ基または低級
アルカノイルオキシ基であり、ｍは１〜４の整数である
。）で表わされる基または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾５は低級アルカノイル基、低級アルコキシ
カルボニル基、カルボキシル基またはベンゾイル基であ
り、ｎは０〜３の整数である。）で表わされる基であり
、Ｒ＾３は低級アルキル基で置換されていてもよいシク
ロアルキル基であり、Ａは酸素原子、硫黄原子、スルフ
ィニル基またはスルホニル基である。］で表わされるＮ
−置換スルホンアニリド化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2209547A JPH0495057A (ja) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | Ｎ―置換スルホンアニリド化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2209547A JPH0495057A (ja) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | Ｎ―置換スルホンアニリド化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0495057A true JPH0495057A (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16574619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2209547A Pending JPH0495057A (ja) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | Ｎ―置換スルホンアニリド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0495057A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997047594A1 (fr) * | 1996-06-13 | 1997-12-18 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Derives de 4-nitrosulfonanilide |
| WO1999012916A1 (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-18 | Warner-Lambert Company | Certain benzothiazine dioxide endothelin antagonists and processes for their preparation |
-
1990
- 1990-08-08 JP JP2209547A patent/JPH0495057A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997047594A1 (fr) * | 1996-06-13 | 1997-12-18 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Derives de 4-nitrosulfonanilide |
| WO1999012916A1 (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-18 | Warner-Lambert Company | Certain benzothiazine dioxide endothelin antagonists and processes for their preparation |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI851921B (zh) | 吡嗪類衍生物及其在抑制shp2中的應用 | |
| EP0658546B1 (fr) | Dérivés de 3-pyrazolecarboxamide avec une affinité pour le récepteur des cannabinoides | |
| KR100191774B1 (ko) | 피라졸로[1,5-알파] 피리미딘 유도체 및 이것을 함유하는 항염증제 | |
| RU2049779C1 (ru) | Производные 4-аминофенола или их n-алкильные или солевые производные, проявляющие противовоспалительную активность | |
| JP4791729B2 (ja) | インドール−３−硫黄誘導体 | |
| IL304090B2 (en) | Process for making tapinaroof | |
| JP2008511601A (ja) | イソインドリン−１−ワン誘導体 | |
| JP5778297B2 (ja) | 癌治療用のｈｄａｃ阻害剤としての新規４−アミノ−ｎ−ヒドロキシ−ベンズアミド | |
| WO1994010158A1 (fr) | Nouveaux derives de 1,2-benzisoxazole ou sel dudit derive, et agent de protection cerebrale contenant ce derive | |
| EP0267111A1 (fr) | Imidazopyridines, leur préparation et leur application en thérapeutique | |
| US5116995A (en) | Carbazole compounds | |
| TWI249533B (en) | Pyridazin-3-one derivatives and medicines containing the same | |
| CN101481323B (zh) | 苯并环庚烯类衍生物、其制备方法及医药用途 | |
| JP2010524913A (ja) | 炎症治療において有用なピラゾール | |
| FR2565981A1 (fr) | Nouveaux derives de thieno (2,3-b) pyrrole, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques les renfermant | |
| JPH0610174B2 (ja) | アミノフエノ−ル誘導体 | |
| PT98677A (pt) | Processo para a preparacao de derivados de indano e ciclopentanotiofeno antagonitas do factor de activacao de plaquetas | |
| JP4762551B2 (ja) | インデノンカルボン酸誘導体ならびに糖尿病および脂質代謝異常を治療および予防するためのそれらの使用 | |
| JPH04364168A (ja) | スルホンアミドピリジン化合物 | |
| JPS61218571A (ja) | 新規ラクタム誘導体及び新規チオラクタム誘導体並びに抗炎症剤 | |
| JPH07215952A (ja) | カテコール誘導体 | |
| JPH0231075B2 (ja) | ||
| PT681584E (pt) | Derivados heterociclicos condensados do acido glutamico como agentes antiproliferativos | |
| PT91576B (pt) | Processo para a preparacao de de sulfonamidas contendo o radical tetrazolilo e de composicoes farmaceuticas que as contem | |
| JP2967231B2 (ja) | １，４―チアジン誘導体 |