JPH049570B2 - - Google Patents
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- JPH049570B2 JPH049570B2 JP62175666A JP17566687A JPH049570B2 JP H049570 B2 JPH049570 B2 JP H049570B2 JP 62175666 A JP62175666 A JP 62175666A JP 17566687 A JP17566687 A JP 17566687A JP H049570 B2 JPH049570 B2 JP H049570B2
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- exhaust gas
- liquid
- absorption liquid
- reaction tank
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- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、排ガス中に含まれるSO2、HF、
HCl、NH3、ダスト等の環境汚染物質を効率よ
く除去する方法に関するものである。
HCl、NH3、ダスト等の環境汚染物質を効率よ
く除去する方法に関するものである。
従来、SO2やダスト等の環境汚染物質を含む排
ガスから、それらの環境汚染物質（以下、単に汚
染物質ともいう）を除去するために、排ガスを吸
収液と接触させる方法は、いわゆる湿式排ガス処
理法として広く知られている。このような湿式排
ガス処理法としては、これまで多くのものが提案
されてきたが、それらの中でも汚染物質の除去率
が高くかつ経済的にもすぐれたものとして、ジエ
ツトバブリングリアクターを用いる技術が知られ
ている（特公昭60−4726号公報、特公昭60−
51372号公報、「公害と対策」vol19、No.11、p79〜
88）。この技術は、吸収液面下に排ガスを高速で
噴出させて、吸収液と排ガスとを激しく混合し
て、排ガスの微細気泡を含む吸収液槽（ジエツト
バブリング槽）を吸収液の表面部に形成させるも
のである。この吸収液の表面部に形成されたジエ
ツトバブリング槽では、高速のガスが吸収液に衝
突し気泡分裂する際の激しい撹乱接触及び層内で
の分裂した微細気泡間の撹乱接触が起り、気液接
触界面が著しく増大される。
ガスから、それらの環境汚染物質（以下、単に汚
染物質ともいう）を除去するために、排ガスを吸
収液と接触させる方法は、いわゆる湿式排ガス処
理法として広く知られている。このような湿式排
ガス処理法としては、これまで多くのものが提案
されてきたが、それらの中でも汚染物質の除去率
が高くかつ経済的にもすぐれたものとして、ジエ
ツトバブリングリアクターを用いる技術が知られ
ている（特公昭60−4726号公報、特公昭60−
51372号公報、「公害と対策」vol19、No.11、p79〜
88）。この技術は、吸収液面下に排ガスを高速で
噴出させて、吸収液と排ガスとを激しく混合し
て、排ガスの微細気泡を含む吸収液槽（ジエツト
バブリング槽）を吸収液の表面部に形成させるも
のである。この吸収液の表面部に形成されたジエ
ツトバブリング槽では、高速のガスが吸収液に衝
突し気泡分裂する際の激しい撹乱接触及び層内で
の分裂した微細気泡間の撹乱接触が起り、気液接
触界面が著しく増大される。
ところで、このようなジエツトバブリングリア
クターを用いる湿式排ガス処理において、従来
は、ジエツトバブリングリアクターの前段に、冷
却液循環ポンプを備えた除塵塔を設け、排ガスを
この除塵塔に導入し、ここで冷却液のスプレー液
滴と接触させて、排ガスの除塵と冷却を行つた
後、排ガスをジエツトバブリングリアクターに導
入している。しかしながら、このような従来技術
の場合、次のような欠点があつた。
クターを用いる湿式排ガス処理において、従来
は、ジエツトバブリングリアクターの前段に、冷
却液循環ポンプを備えた除塵塔を設け、排ガスを
この除塵塔に導入し、ここで冷却液のスプレー液
滴と接触させて、排ガスの除塵と冷却を行つた
後、排ガスをジエツトバブリングリアクターに導
入している。しかしながら、このような従来技術
の場合、次のような欠点があつた。
() 除塵塔における冷却液のスプレー液滴径
は、約2000μｍという大きいために、排ガスの
冷却及び除塵を行うには、大量の冷却液のスプ
レーが必要とされる。従つて、除塵塔では、排
ガスから分離した大量の冷却液を循環再使用す
るための冷却液循環ポンプの設置が必要とさ
れ、そのための動力費を要した。
は、約2000μｍという大きいために、排ガスの
冷却及び除塵を行うには、大量の冷却液のスプ
レーが必要とされる。従つて、除塵塔では、排
ガスから分離した大量の冷却液を循環再使用す
るための冷却液循環ポンプの設置が必要とさ
れ、そのための動力費を要した。
() 排ガス処理系に導入する排ガス圧力は、除
塵塔設置による圧力損失のために、その分大き
くする必要があり、そのための動力費を要し
た。
塵塔設置による圧力損失のために、その分大き
くする必要があり、そのための動力費を要し
た。
本発明は、従来技術に見られる前記欠点を克服
することを目的とする。
することを目的とする。
本発明によれば、除塵塔処理を受けていない排
ガス中に含まれる環境汚染物質を除去する方法に
おいて、 (a) 該排ガス中に、冷却液及び吸収液を、反応槽
の中間に水平に配設された多数の開口を有する
仕切板上方の密閉空間内及び／又は該密閉空間
に連結するダクト内において、平均粒子径が
300μｍ以下の微粒子状で噴霧混合する工程、 (b) 該混合物を該仕切板上方の密閉空間内におい
て気液接触させる工程、 (c) 該密閉空間部から、排ガスを冷却液微粒子及
び吸収液微粒子とともに、該仕切板の開口に垂
設した排ガス導入管を介して反応槽内の仕切板
下方に収容される吸収液中に導入分散してジエ
ツトバブリング層を形成する工程、 (d) 該吸収液中に酸素含有ガスを導入分散させて
酸素含有ガスの微細気液を形成する工程、 からなることを特徴とする排ガスの処理方法が提
供される。
ガス中に含まれる環境汚染物質を除去する方法に
おいて、 (a) 該排ガス中に、冷却液及び吸収液を、反応槽
の中間に水平に配設された多数の開口を有する
仕切板上方の密閉空間内及び／又は該密閉空間
に連結するダクト内において、平均粒子径が
300μｍ以下の微粒子状で噴霧混合する工程、 (b) 該混合物を該仕切板上方の密閉空間内におい
て気液接触させる工程、 (c) 該密閉空間部から、排ガスを冷却液微粒子及
び吸収液微粒子とともに、該仕切板の開口に垂
設した排ガス導入管を介して反応槽内の仕切板
下方に収容される吸収液中に導入分散してジエ
ツトバブリング層を形成する工程、 (d) 該吸収液中に酸素含有ガスを導入分散させて
酸素含有ガスの微細気液を形成する工程、 からなることを特徴とする排ガスの処理方法が提
供される。
本発明の排ガス処理方法は、前記した従来のジ
エツトバブリングリアクターを用いる方法に比較
し、除塵塔を省略し得ると共に、排ガス中に冷却
液及び吸収液を微粒子化噴霧し、排ガスをこれら
の冷却液及び吸収液の各微粒子と共に吸収液中に
導入分散してジエツトバブリング層を形成する点
で相違する。このようにして排ガスを処理する時
には、除塵塔の省略により、その設置及び運転に
要する費用が不要となり、さらに排ガスを処理系
に供給する際の圧力も低減されることから、排ガ
スの加圧に要する動力費も著しく節約される。
エツトバブリングリアクターを用いる方法に比較
し、除塵塔を省略し得ると共に、排ガス中に冷却
液及び吸収液を微粒子化噴霧し、排ガスをこれら
の冷却液及び吸収液の各微粒子と共に吸収液中に
導入分散してジエツトバブリング層を形成する点
で相違する。このようにして排ガスを処理する時
には、除塵塔の省略により、その設置及び運転に
要する費用が不要となり、さらに排ガスを処理系
に供給する際の圧力も低減されることから、排ガ
スの加圧に要する動力費も著しく節約される。
次に、本発明を図面により詳述する。
第１図は本発明の処理装置の模式図である。こ
の図において、１は反応槽を示し、その中間部に
後記する仕切板の開口に垂設された排ガス導入管
２、その上部に吸収液微粒子化ノズル３、及びそ
の下部に酸素含有ガス噴出ノズル４が配置されて
いる。また、この反応槽の液面上部には、中央部
に貫通孔１５を有し、表面に多数の開口１６を有
する環状仕切板１７が配設され、その環状仕切板
１７の上方には、同じく中央部に貫通孔を有する
環状密閉板１８が水平配置され、その環状仕切板
と環状密閉板の中央貫通孔側の環状端部には、環
状の筒状側板１９が配設されて、仕切板の上方に
は、密閉空間（プレナム）１２が形成されてい
る。そして、この密閉空間１２には、排ガス導入
ダクト７が連結され、また、反応槽の上部側壁に
は排ガス導出ダクト１０が各連結され、その排ガ
ス導入ダクト内には冷却液微粒子化ノズル８が配
設されている。３′は吸収液導入管、４′は酸素含
有ガス導入管、５は吸収液撹拌器、６は吸収液、
８′は冷却液導入管を各示す。
の図において、１は反応槽を示し、その中間部に
後記する仕切板の開口に垂設された排ガス導入管
２、その上部に吸収液微粒子化ノズル３、及びそ
の下部に酸素含有ガス噴出ノズル４が配置されて
いる。また、この反応槽の液面上部には、中央部
に貫通孔１５を有し、表面に多数の開口１６を有
する環状仕切板１７が配設され、その環状仕切板
１７の上方には、同じく中央部に貫通孔を有する
環状密閉板１８が水平配置され、その環状仕切板
と環状密閉板の中央貫通孔側の環状端部には、環
状の筒状側板１９が配設されて、仕切板の上方に
は、密閉空間（プレナム）１２が形成されてい
る。そして、この密閉空間１２には、排ガス導入
ダクト７が連結され、また、反応槽の上部側壁に
は排ガス導出ダクト１０が各連結され、その排ガ
ス導入ダクト内には冷却液微粒子化ノズル８が配
設されている。３′は吸収液導入管、４′は酸素含
有ガス導入管、５は吸収液撹拌器、６は吸収液、
８′は冷却液導入管を各示す。
本発明の方法を実施するには、冷却液をその微
粒子化ノズル８から微粒子状で噴出させかつ吸収
液をその微粒子化ノズル３から微粒子状で噴出さ
せると共に、排ガスをその導入ダクト７から装置
内の仕切板上に形成された密閉空間１２内へ導入
する。導入された排ガスは、この密閉空間（プレ
ナム）１２において、冷却液及び吸収液の各微粒
子との間で気液接触を行う。この気液接触によ
り、排ガス中の汚染物質はそれらの液体微粒子に
捕捉吸収されると共に、排ガスの増湿冷却が行わ
れる。また、このプレナム１２においては、排ガ
ス中の酸素及び冷却液と吸収液の微粒子化に用い
られた空気中の酸素による汚染物質の酸化も行わ
れる。
粒子化ノズル８から微粒子状で噴出させかつ吸収
液をその微粒子化ノズル３から微粒子状で噴出さ
せると共に、排ガスをその導入ダクト７から装置
内の仕切板上に形成された密閉空間１２内へ導入
する。導入された排ガスは、この密閉空間（プレ
ナム）１２において、冷却液及び吸収液の各微粒
子との間で気液接触を行う。この気液接触によ
り、排ガス中の汚染物質はそれらの液体微粒子に
捕捉吸収されると共に、排ガスの増湿冷却が行わ
れる。また、このプレナム１２においては、排ガ
ス中の酸素及び冷却液と吸収液の微粒子化に用い
られた空気中の酸素による汚染物質の酸化も行わ
れる。
プレナム１２に導入された排ガスは、液体微粒
子と共に排ガス導入管２を通して吸収液６中に分
散導入され、ジエツトバブリング層Ａを形成す
る。このジエツトバブリング層Ａは、排ガスの微
細気泡と吸収液とからなる液相連続の気液接触層
であつて、排ガスを排ガス導入管２の下部から吸
収液中に水平方向に噴出分散させることによつて
形成することができる。第２図に排ガス導入管２
の構造を示す。このガス導入管は下端開口したも
ので、その下端部に噴出部２１を有し、ガス導入
管に導入された排ガスはその噴出部２１から吸収
液中に水平方向に向けて噴出される。このジエツ
トバブリング層については、前記特公昭60−4726
号公報、特公昭60−51372号公報等に詳述されて
いる。
子と共に排ガス導入管２を通して吸収液６中に分
散導入され、ジエツトバブリング層Ａを形成す
る。このジエツトバブリング層Ａは、排ガスの微
細気泡と吸収液とからなる液相連続の気液接触層
であつて、排ガスを排ガス導入管２の下部から吸
収液中に水平方向に噴出分散させることによつて
形成することができる。第２図に排ガス導入管２
の構造を示す。このガス導入管は下端開口したも
ので、その下端部に噴出部２１を有し、ガス導入
管に導入された排ガスはその噴出部２１から吸収
液中に水平方向に向けて噴出される。このジエツ
トバブリング層については、前記特公昭60−4726
号公報、特公昭60−51372号公報等に詳述されて
いる。
前記のようにして排ガスを液体の微粒子と共に
吸収液中に導入分散させると、プレナム１２にお
いて液体微粒子に捕捉されなかつた汚染物質はこ
のジエツトバブリング層において吸収液に捕捉吸
収され、また排ガスに同伴された液体微粒子もこ
の吸収液に捕捉吸収される。さらに、このジエツ
トバブリング層においては汚染物質の酸化も行わ
れる。この場合、汚染物質の酸化に要する酸素と
しては、排ガス中の酸素及び酸素含有ガス噴出ノ
ズル４から供給される酸素が用いられる。
吸収液中に導入分散させると、プレナム１２にお
いて液体微粒子に捕捉されなかつた汚染物質はこ
のジエツトバブリング層において吸収液に捕捉吸
収され、また排ガスに同伴された液体微粒子もこ
の吸収液に捕捉吸収される。さらに、このジエツ
トバブリング層においては汚染物質の酸化も行わ
れる。この場合、汚染物質の酸化に要する酸素と
しては、排ガス中の酸素及び酸素含有ガス噴出ノ
ズル４から供給される酸素が用いられる。
吸収液と接触し、汚染物質の除去された排ガス
は、ジエツトバブリング層から反応槽上部の排ガ
ス出口部空間１４に放出され、排ガス導出ダクト
１０を通つて反応槽外へ抜出され、ミストエリミ
ネーター１１でその中に含まれるミストを除去し
た後、大気へ放出される。反応槽上部の排ガス入
口部空間１２と排ガス出口部空間１４とは相互に
隔壁等により区画され、導入排ガスは必ず吸収液
中を通つた後、系外へ導出されるようになつてい
る。
は、ジエツトバブリング層から反応槽上部の排ガ
ス出口部空間１４に放出され、排ガス導出ダクト
１０を通つて反応槽外へ抜出され、ミストエリミ
ネーター１１でその中に含まれるミストを除去し
た後、大気へ放出される。反応槽上部の排ガス入
口部空間１２と排ガス出口部空間１４とは相互に
隔壁等により区画され、導入排ガスは必ず吸収液
中を通つた後、系外へ導出されるようになつてい
る。
酸素含有ガス噴出ノズル４から吸収液中に噴出
された酸素含有ガスは、微細気泡となつて吸収液
中を上昇すると共に、吸収液中に溶解し、汚染物
質を酸化する。また、この微細気泡の上昇は、吸
収液の撹拌を促進させる効果も示す。
された酸素含有ガスは、微細気泡となつて吸収液
中を上昇すると共に、吸収液中に溶解し、汚染物
質を酸化する。また、この微細気泡の上昇は、吸
収液の撹拌を促進させる効果も示す。
排ガス中の汚染物質と吸収液との反応により生
成した物質は、排液管９を通して吸収液と共に反
応槽外へ抜出される。
成した物質は、排液管９を通して吸収液と共に反
応槽外へ抜出される。
本発明において、冷却液及び吸収液を微粒子化
する場合、その微粒子の粒径はできるだけ微細に
するのが有利であり、本発明の場合、平均粒径
300μｍ以下、殊に100μｍ以下にするのが有利で
ある。この平均粒径が300μｍを超えるようにな
ると、プレナム１２において排ガス中の汚染物質
の捕捉が困難になると共に、排ガスの冷却効果が
不十分になる。冷却液及び吸収液の微粒子化は、
通常、空気を用いて実施されるが、この微粒子化
に用いた空気は、プレナム１２及びジエツトバブ
リング層Ａにおける汚染物質の酸化剤としても作
用する。また、微粒子化する冷却液及び吸収液の
量は、排ガスを飽和温度まで増湿冷却するのに必
要な量以上である。噴霧に用いる吸収液は、水に
対して吸収剤を添加したものであるが、この噴霧
による吸収液の供給のみでは吸収剤が不足する場
合には、反応槽に対して吸収剤供給管１３を設け
て必要量の吸収剤を供給する。
する場合、その微粒子の粒径はできるだけ微細に
するのが有利であり、本発明の場合、平均粒径
300μｍ以下、殊に100μｍ以下にするのが有利で
ある。この平均粒径が300μｍを超えるようにな
ると、プレナム１２において排ガス中の汚染物質
の捕捉が困難になると共に、排ガスの冷却効果が
不十分になる。冷却液及び吸収液の微粒子化は、
通常、空気を用いて実施されるが、この微粒子化
に用いた空気は、プレナム１２及びジエツトバブ
リング層Ａにおける汚染物質の酸化剤としても作
用する。また、微粒子化する冷却液及び吸収液の
量は、排ガスを飽和温度まで増湿冷却するのに必
要な量以上である。噴霧に用いる吸収液は、水に
対して吸収剤を添加したものであるが、この噴霧
による吸収液の供給のみでは吸収剤が不足する場
合には、反応槽に対して吸収剤供給管１３を設け
て必要量の吸収剤を供給する。
本発明において、冷却液としては、通常、水が
用いられ、吸収液としては、排ガス中の汚染物質
の種類に応じて適当な吸収剤を添加した水が用い
られる。例えば、排ガスがSO2、SO3、NO、
N2O3、NO2、N2O4、N2O5、HCl、HF、有機酸
等の酸性汚染物質を含む場合には、吸収剤として
は、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合
物、アンモニア等の前記汚染物質に反応性を示す
物質が用いられる。この場合、NOはアルカリ性
吸収液への吸収性が悪いのでNO2の形に酸化し
て処理するのがよい。また、排ガスがアンモニア
等のアルカリ性物質を含む場合には、酸性水溶液
を吸収液として用いればよい。
用いられ、吸収液としては、排ガス中の汚染物質
の種類に応じて適当な吸収剤を添加した水が用い
られる。例えば、排ガスがSO2、SO3、NO、
N2O3、NO2、N2O4、N2O5、HCl、HF、有機酸
等の酸性汚染物質を含む場合には、吸収剤として
は、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合
物、アンモニア等の前記汚染物質に反応性を示す
物質が用いられる。この場合、NOはアルカリ性
吸収液への吸収性が悪いのでNO2の形に酸化し
て処理するのがよい。また、排ガスがアンモニア
等のアルカリ性物質を含む場合には、酸性水溶液
を吸収液として用いればよい。
本発明においては、種々の変更が可能であり、
例えば、冷却液及び吸収液の噴霧は共に排ガス導
入ダクト７中に行うことができるし、また、両者
共に反応槽の上部空間１２で行うことができる
し、さらに、吸収液を排ガス導入ダクト及び冷却
液を反応槽上部空間に微粒子化噴霧することがで
きる。さらに、反応槽内には、バツフル板等のこ
の種技術に慣用の付属装置を配設することができ
る。
例えば、冷却液及び吸収液の噴霧は共に排ガス導
入ダクト７中に行うことができるし、また、両者
共に反応槽の上部空間１２で行うことができる
し、さらに、吸収液を排ガス導入ダクト及び冷却
液を反応槽上部空間に微粒子化噴霧することがで
きる。さらに、反応槽内には、バツフル板等のこ
の種技術に慣用の付属装置を配設することができ
る。
本発明では、排ガス中に冷却液及び吸収液を直
接微粒子化噴霧し、排ガスの増湿冷却と同時に汚
染物質の捕捉除去を行う工程を採用したことか
ら、従来の湿式排ガス処理に比べて、排ガス処理
を非常に効率的に行うことができ、従来必要とさ
れていた除塵塔の設置は省略される。従つて、本
発明では、除塵塔の建設費、運転費は削減される
と共に、装置系へ供給する排ガス圧力も低減し得
るので、その動力費もその分節約することができ
る。
接微粒子化噴霧し、排ガスの増湿冷却と同時に汚
染物質の捕捉除去を行う工程を採用したことか
ら、従来の湿式排ガス処理に比べて、排ガス処理
を非常に効率的に行うことができ、従来必要とさ
れていた除塵塔の設置は省略される。従つて、本
発明では、除塵塔の建設費、運転費は削減される
と共に、装置系へ供給する排ガス圧力も低減し得
るので、その動力費もその分節約することができ
る。
また、本発明では、冷却液及び吸収液の各微粒
子化噴霧工程を設け、排ガス処理の相当部分が達
成されていることから、その後のジエツトバブリ
ング層Ａにおける汚染物質の捕捉吸収の負荷は著
しく軽減され、排ガス導入管２の開口先端の吸収
液中深度を浅くしても十分な処理効果を得ること
ができる。従つて、本発明では、排ガス導入管の
吸収液中深度を浅くすることにより排ガスの供給
圧を減少させることができ、排ガスの加圧動力費
をその分減少させることができる。
子化噴霧工程を設け、排ガス処理の相当部分が達
成されていることから、その後のジエツトバブリ
ング層Ａにおける汚染物質の捕捉吸収の負荷は著
しく軽減され、排ガス導入管２の開口先端の吸収
液中深度を浅くしても十分な処理効果を得ること
ができる。従つて、本発明では、排ガス導入管の
吸収液中深度を浅くすることにより排ガスの供給
圧を減少させることができ、排ガスの加圧動力費
をその分減少させることができる。
次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。
る。
実施例
排ガス処理に使用した装置の形式は第１図に示
すものであり、断面円形の反応槽１は直径1000
mm、液面高さを2000mmとし、排ガス導入管２とし
て直径４インチの管12本を使用し、その開口部先
端の深さは液面下100mmとした。この反応槽１に
は撹拌器５を設けた。なお、吸収液微粒子化ノズ
ル３は、冷却液微粒子ノズル８の下流のダクト７
内に設けた。
すものであり、断面円形の反応槽１は直径1000
mm、液面高さを2000mmとし、排ガス導入管２とし
て直径４インチの管12本を使用し、その開口部先
端の深さは液面下100mmとした。この反応槽１に
は撹拌器５を設けた。なお、吸収液微粒子化ノズ
ル３は、冷却液微粒子ノズル８の下流のダクト７
内に設けた。
SO2800ppm、ダスト80mg／Ｎm3、O23％を含む
排煙4000Nm3／ｈを排ガス導入ダクト７より入口
プレナム１２に導入し、撹拌しながら液面下1800
mmに設けた空気噴出ノズル４より空気を40Nm3／
ｈで噴霧した。この場合、吸収液としては、
CaCO3約14Kg／ｈを石膏濃度５％のスラリー400
／ｈに混ぜたもの（石灰石スラリー）を用い、
これを排ガス導入ダクト７に設けられた二流体ス
プレーノズルより空気により微粒化噴霧した。ま
た、このスプレーの上流ダクト７内にもう１つの
二流体スプレーノズル８を設け、冷却液としての
工業用水約300／ｈをガス冷却のために空気に
より微粒化噴霧した。この時の微粒子の平均粒径
は吸収液及び冷却液ともに約60μｍであつた。
排煙4000Nm3／ｈを排ガス導入ダクト７より入口
プレナム１２に導入し、撹拌しながら液面下1800
mmに設けた空気噴出ノズル４より空気を40Nm3／
ｈで噴霧した。この場合、吸収液としては、
CaCO3約14Kg／ｈを石膏濃度５％のスラリー400
／ｈに混ぜたもの（石灰石スラリー）を用い、
これを排ガス導入ダクト７に設けられた二流体ス
プレーノズルより空気により微粒化噴霧した。ま
た、このスプレーの上流ダクト７内にもう１つの
二流体スプレーノズル８を設け、冷却液としての
工業用水約300／ｈをガス冷却のために空気に
より微粒化噴霧した。この時の微粒子の平均粒径
は吸収液及び冷却液ともに約60μｍであつた。
以上のような排ガス処理の結果、脱硫率は94〜
96％と高脱硫率が得られた。また、出口ダクト濃
度は１〜６mg／Ｎm3に維持され、除塵塔とその循
環ポンプがなくても非常に高い除塵性能が得られ
ることが判明した。得られた石膏の性状は次に示
すように高品質であつた。
96％と高脱硫率が得られた。また、出口ダクト濃
度は１〜６mg／Ｎm3に維持され、除塵塔とその循
環ポンプがなくても非常に高い除塵性能が得られ
ることが判明した。得られた石膏の性状は次に示
すように高品質であつた。
表−１
CaSO4・2H2O：99.1重量％（ただしダスト分は
除く） CaCO3 ：0.3 〃 CaSO3 ：０ PH ：６〜７ 平均粒径 ：60〜80μｍ 次に、本発明を従来技術と比較をするために、
石灰石スラリーの微粒化噴霧を停止し、石灰石ス
ラリーを反応槽１の排ガス導入管２の開口部の位
置の吸収液中に直接供給したところ、同じ脱硫率
を得るためには、開口部先端の液面下の深さを約
200mmにする必要があることが判明した。この結
果、本発明によれば、除塵塔の省略による圧力損
失の低減100mmと合わせて約200mmの排ガス供給圧
の削減が可能となり大幅な動力費の削減が可能と
なることが判明した。
除く） CaCO3 ：0.3 〃 CaSO3 ：０ PH ：６〜７ 平均粒径 ：60〜80μｍ 次に、本発明を従来技術と比較をするために、
石灰石スラリーの微粒化噴霧を停止し、石灰石ス
ラリーを反応槽１の排ガス導入管２の開口部の位
置の吸収液中に直接供給したところ、同じ脱硫率
を得るためには、開口部先端の液面下の深さを約
200mmにする必要があることが判明した。この結
果、本発明によれば、除塵塔の省略による圧力損
失の低減100mmと合わせて約200mmの排ガス供給圧
の削減が可能となり大幅な動力費の削減が可能と
なることが判明した。
第１図は本発明で用いる排ガス処理装置の模式
図を示し、第２図は排ガス導入管の構造図を示
す。 １……反応槽、２……排ガス導入管、３……吸
収液微粒子化ノズル、４……酸素含有ガス噴霧ノ
ズル、５……撹拌器、６……吸収液、７……排ガ
ス導入ダクト、８……冷却液微粒子化ノズル、９
……排液管、１０……排ガス導出ダクト、１１…
…ミストエリミネーター、１２……プレナム、２
１……噴出部、Ａ……ジエツトバブリング層。
図を示し、第２図は排ガス導入管の構造図を示
す。 １……反応槽、２……排ガス導入管、３……吸
収液微粒子化ノズル、４……酸素含有ガス噴霧ノ
ズル、５……撹拌器、６……吸収液、７……排ガ
ス導入ダクト、８……冷却液微粒子化ノズル、９
……排液管、１０……排ガス導出ダクト、１１…
…ミストエリミネーター、１２……プレナム、２
１……噴出部、Ａ……ジエツトバブリング層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 除塵処理を受けていない排ガス中に含まれる
環境汚染物質を除去する方法において、 (a) 該排ガス中に、冷却液及び吸収液を反応槽の
中間に水平に配設された多数の開口を有する仕
切板上方の密閉空間内及び／又は該密閉空間に
連結するダクト内において、平均粒子径が
300μｍ以下の微粒子状で噴霧混合する工程、 (b) 該混合物を該仕切板上方の密閉空間内におい
て気液接触させる工程、 (c) 該密閉空間部から、排ガスを、冷却液微粒子
及び吸収液状粒子とともに、該仕切板の開口に
垂設した排ガス導入管を介して反応槽内の仕切
板下方に収容された吸収液中に導入分散してジ
エツトバブリング層を形成する工程、 (d) 該吸収液中に酸素含有ガスを導入分散させて
酸素含有ガスの微細気泡を形成する工程、 からなることを特徴とする排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62175666A JPS6418427A (en) | 1987-07-14 | 1987-07-14 | Method for treating waste gas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62175666A JPS6418427A (en) | 1987-07-14 | 1987-07-14 | Method for treating waste gas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6418427A JPS6418427A (en) | 1989-01-23 |
| JPH049570B2 true JPH049570B2 (ja) | 1992-02-20 |
Family
ID=16000099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62175666A Granted JPS6418427A (en) | 1987-07-14 | 1987-07-14 | Method for treating waste gas |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6418427A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10843115B2 (en) | 2015-04-01 | 2020-11-24 | Chiyoda Corporation | Method of removing impurities |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102424763A (zh) * | 2011-08-29 | 2012-04-25 | 秦皇岛双轮环保科技有限公司 | 高炉煤气洗涤除酸设备及方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU728291A1 (ru) * | 1978-08-08 | 1981-09-23 | Предприятие П/Я А-7555 | Токарный автомат продольного точени |
| JPS604726A (ja) * | 1983-06-23 | 1985-01-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 給湯機用燃焼装置 |
| JPS6051372A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-22 | Toshiba Corp | クランプ回路 |
-
1987
- 1987-07-14 JP JP62175666A patent/JPS6418427A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10843115B2 (en) | 2015-04-01 | 2020-11-24 | Chiyoda Corporation | Method of removing impurities |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6418427A (en) | 1989-01-23 |
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Legal Events
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