JPH0498607A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0498607A JPH0498607A JP2216866A JP21686690A JPH0498607A JP H0498607 A JPH0498607 A JP H0498607A JP 2216866 A JP2216866 A JP 2216866A JP 21686690 A JP21686690 A JP 21686690A JP H0498607 A JPH0498607 A JP H0498607A
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- Japan
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- film
- coil
- magnetic
- insulating layer
- magnetic head
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、コンピュータなどの磁気記録装置に用いられ
る薄膜磁気ヘッドに関する。
る薄膜磁気ヘッドに関する。
従来の技術
近年、磁気記録装置においては、記録密度が高密度化さ
れるのに伴い、バルクヘッドに代わす％１膜磁気ヘッド
が使用され始めている。
れるのに伴い、バルクヘッドに代わす％１膜磁気ヘッド
が使用され始めている。
従来の薄膜磁気ヘッドは第５図（斜視図）および第６図
（断面図）に示すような構造をしていた（特公平１−５
４７６８号公報参照）その薄膜磁気ヘッドは、まずＮｉ
−ＺｎまたはＭｎ−Ｚｎフェライトなどの磁性体からな
る下部コア１にフォトリソグラフィ技術とイオンエツチ
ング技術により溝２を形成する。溝２の深さは約１〜８
μｍである。次に下部コア１の上面全体に酸化アルミニ
ウムまたは酸化ケイ素からなる絶縁膜３を約０．５〜２
μｍスパッタまたは蒸着などにより形成する。その後、
溝２内の絶縁膜３上にコイル４として銅、金、銀、アル
ミニウムなどの導電膜を形成する。次に酸化アルミニウ
ムまたは酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素からなる絶
縁膜５を設け、最後に上部コア６としてフェライト基板
を下部コア１の上にエポキシ樹脂などにより接着する。
（断面図）に示すような構造をしていた（特公平１−５
４７６８号公報参照）その薄膜磁気ヘッドは、まずＮｉ
−ＺｎまたはＭｎ−Ｚｎフェライトなどの磁性体からな
る下部コア１にフォトリソグラフィ技術とイオンエツチ
ング技術により溝２を形成する。溝２の深さは約１〜８
μｍである。次に下部コア１の上面全体に酸化アルミニ
ウムまたは酸化ケイ素からなる絶縁膜３を約０．５〜２
μｍスパッタまたは蒸着などにより形成する。その後、
溝２内の絶縁膜３上にコイル４として銅、金、銀、アル
ミニウムなどの導電膜を形成する。次に酸化アルミニウ
ムまたは酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素からなる絶
縁膜５を設け、最後に上部コア６としてフェライト基板
を下部コア１の上にエポキシ樹脂などにより接着する。
また、他の従来の薄膜磁気ヘッドとして第７図（斜視図
）および第８図（断面図）に示すように、上部コアに飽
和磁束密度の高いアモルファス合金またはＮｉ−Ｆｅ合
金などの金属磁性膜８を用いたものが開発されている。
）および第８図（断面図）に示すように、上部コアに飽
和磁束密度の高いアモルファス合金またはＮｉ−Ｆｅ合
金などの金属磁性膜８を用いたものが開発されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら第５図および第６図に示した従来の薄膜磁
気ヘッドでは、上部と下部のコアに飽和磁束密度の低い
フェライト基板を用いているために高密度記録用の高抗
磁力媒体に十分な書込み磁界をあたえることができない
という課題があった。
気ヘッドでは、上部と下部のコアに飽和磁束密度の低い
フェライト基板を用いているために高密度記録用の高抗
磁力媒体に十分な書込み磁界をあたえることができない
という課題があった。
また、トラック幅を規制する溝がガラス７は機械加工で
行うことや２つのフェライト基板を合わせるために上部
コアと下部コアのずれなどのトラックの精度が悪いとい
う課題もあった。
行うことや２つのフェライト基板を合わせるために上部
コアと下部コアのずれなどのトラックの精度が悪いとい
う課題もあった。
第７図および第８図に示した従来の薄膜磁気ヘッドでは
、コイル上の平坦化加工９を行う工程やテーパー加工１
０を行う工程の制御が難しいという課題やテーパー加工
を行った段差部に金属磁性膜８をスパッタした細に金属
磁性膜の不連続面が発生し、書込み磁界の発生効率が低
下するという課題があった。また、金属磁性膜８が段差
部にかかることやコイル４からの熱によりノイズが発生
するという課題もあった。この対策として、金属磁性膜
の磁歪定数を０に近づけることやコイルの断面積を大き
くして抵抗を小さくすることが行われている。しかしな
がらギャップ長や段差部の不連続面の発生という問題が
あり、コイルの断面積を大きくすることも制限されてい
る。さらに段差部の根元の複雑な形状部において、金属
磁性膜をフォトリソグラフィ技術とイオンエツチング技
術により、所定の形状にパターニングする際レジストや
テーパ一部によるシャドウ効果のためトラック幅が広が
り易いという課題があった。第９図は段差部の根元の斜
視図である。なお、第８図、第９図においては酸化アル
ミニウムまたは酸化ケイ素からなる絶縁層、１９は保護
層である。
、コイル上の平坦化加工９を行う工程やテーパー加工１
０を行う工程の制御が難しいという課題やテーパー加工
を行った段差部に金属磁性膜８をスパッタした細に金属
磁性膜の不連続面が発生し、書込み磁界の発生効率が低
下するという課題があった。また、金属磁性膜８が段差
部にかかることやコイル４からの熱によりノイズが発生
するという課題もあった。この対策として、金属磁性膜
の磁歪定数を０に近づけることやコイルの断面積を大き
くして抵抗を小さくすることが行われている。しかしな
がらギャップ長や段差部の不連続面の発生という問題が
あり、コイルの断面積を大きくすることも制限されてい
る。さらに段差部の根元の複雑な形状部において、金属
磁性膜をフォトリソグラフィ技術とイオンエツチング技
術により、所定の形状にパターニングする際レジストや
テーパ一部によるシャドウ効果のためトラック幅が広が
り易いという課題があった。第９図は段差部の根元の斜
視図である。なお、第８図、第９図においては酸化アル
ミニウムまたは酸化ケイ素からなる絶縁層、１９は保護
層である。
本発明は上記のような従来の課題を解決し、高密度記録
用の高抗磁力媒体に十分に書込みができ、記録・再生効
率が高く、トラック幅精度の高い薄膜磁気ヘッドの提供
を目的とする。
用の高抗磁力媒体に十分に書込みができ、記録・再生効
率が高く、トラック幅精度の高い薄膜磁気ヘッドの提供
を目的とする。
課題を解決するための手段
上記の目的を達成するために本発明の薄膜磁気ヘッドは
、フェライトからなる下部コアの上面に溝を設け、その
溝の底面に絶縁層を設け、その絶縁層の上にコイルを設
け、そのコイルの上に絶縁層を設け、その絶縁層を下部
コアの上面と一致するまで平坦化加工し、その平坦化加
工した面上に磁気ギャップ長に等しい厚さの絶縁層を設
け、その絶縁層のうちパックギャップ上の絶縁層を除去
し、前記絶縁層上および前記パックギャップ上に金属磁
性膜からなる上部コアを設け、その上部コア上に保護層
を設けた構成とした。
、フェライトからなる下部コアの上面に溝を設け、その
溝の底面に絶縁層を設け、その絶縁層の上にコイルを設
け、そのコイルの上に絶縁層を設け、その絶縁層を下部
コアの上面と一致するまで平坦化加工し、その平坦化加
工した面上に磁気ギャップ長に等しい厚さの絶縁層を設
け、その絶縁層のうちパックギャップ上の絶縁層を除去
し、前記絶縁層上および前記パックギャップ上に金属磁
性膜からなる上部コアを設け、その上部コア上に保護層
を設けた構成とした。
作 用
本発明は上記の構成により高抗磁力媒体に書込みができ
ることになる。
ることになる。
実施例
以下、本発明の実施例を添付図面を参照しながら説明す
る。
る。
第１図および第２図は本発明における薄膜磁気ヘッドの
一実施例の部分斜視図および部分断面図である。
一実施例の部分斜視図および部分断面図である。
第１図において、■はフェライトからなる下部コアであ
り、２はその下部コア１の上に設けられた溝である。４
は酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素からなる絶縁膜１
３の上に設けられた銅。
り、２はその下部コア１の上に設けられた溝である。４
は酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素からなる絶縁膜１
３の上に設けられた銅。
金、銀またはアルミニウムからなるコイルである。
１４は酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素からなる絶縁
層であり、磁気ギャップｇを形成するとともに金属磁性
膜からなる上部コア°１８とコイル４を絶縁する。
層であり、磁気ギャップｇを形成するとともに金属磁性
膜からなる上部コア°１８とコイル４を絶縁する。
１９は酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素からなる保護
層である。
層である。
第３図は薄膜磁気ヘラ下金体の斜視図である。
以下、第４図（ａ）〜（Ｗにより本発明の薄膜磁気ヘッ
ドの構成方法を説明する。
ドの構成方法を説明する。
図において、ｌはＮｉ−ＺｎフェライトまたはＭ ｎ
−Ｚ ｎフェライトからなる下部コアで、その下部コア
１の上面に溝２を形成する（ａ）。その溝２はフォトリ
ソグラフィ技術およびイオンエツチング技術により深さ
約５〜８μｍに加工する。次に、溝２を形成した上記下
部コア１の上面に酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素か
らなる絶縁膜１３を形成する（ｂ）。この膜厚は、０．
５〜１μｍで、スパッタまたは蒸着により形成する。次
に、蒸着またはスパッタによりＡｎ、Ｃｎ、ＡＩなどの
導体膜を形成し、フォトリソグラフィ技術およびイオン
エツチング技術、またはケミカルエツチング技術により
所定の形状にコイル４を形成する（Ｃ）。
−Ｚ ｎフェライトからなる下部コアで、その下部コア
１の上面に溝２を形成する（ａ）。その溝２はフォトリ
ソグラフィ技術およびイオンエツチング技術により深さ
約５〜８μｍに加工する。次に、溝２を形成した上記下
部コア１の上面に酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素か
らなる絶縁膜１３を形成する（ｂ）。この膜厚は、０．
５〜１μｍで、スパッタまたは蒸着により形成する。次
に、蒸着またはスパッタによりＡｎ、Ｃｎ、ＡＩなどの
導体膜を形成し、フォトリソグラフィ技術およびイオン
エツチング技術、またはケミカルエツチング技術により
所定の形状にコイル４を形成する（Ｃ）。
この膜厚は１〜２μｍで、溝２の深さより小さい値であ
ればよい。次に、全体に酸化アルミニウムまたは酸化ケ
イ素をスパッタまたは蒸着などにより、膜厚的５〜８μ
ｍの絶縁膜１４を形成する（ｄ）。次に、下部コアｌの
上面が平坦１５になるようにラップ加工またはイオンエ
ツチング技術により、平坦化加工を行う（ｅ）。この際
、コイル４が露出しないようにする。次に、全面に酸化
アルミニウムまたは酸化ケイ素を０．５〜２μｍ、スパ
ッタまたは蒸着により絶縁膜１６を形成する（ｆ）。こ
の絶縁膜１６の厚さがギャップ長となる。次にバックギ
ャップ１７上に絶縁膜１６をフォトリソグラフィ技術と
イオンエツチング技術により除去する（ｇ）。次に、ア
モルファス合金またはＦｅ−Ｎｉ合金などの金属磁性膜
１８を形成する（吊。上記金属磁性膜１８の膜厚は約２
〜７μｍで、スパッタまたは蒸着により形成す、る。次
に、上記金属磁性膜１８をフォトリソグラフィ技術およ
びイオンエツチング技術、またはケミカルエツチング技
術により所定の形状に加工し、上部コア１８とする（ｉ
）。この際、上記形状によりトラック幅が規制される。
ればよい。次に、全体に酸化アルミニウムまたは酸化ケ
イ素をスパッタまたは蒸着などにより、膜厚的５〜８μ
ｍの絶縁膜１４を形成する（ｄ）。次に、下部コアｌの
上面が平坦１５になるようにラップ加工またはイオンエ
ツチング技術により、平坦化加工を行う（ｅ）。この際
、コイル４が露出しないようにする。次に、全面に酸化
アルミニウムまたは酸化ケイ素を０．５〜２μｍ、スパ
ッタまたは蒸着により絶縁膜１６を形成する（ｆ）。こ
の絶縁膜１６の厚さがギャップ長となる。次にバックギ
ャップ１７上に絶縁膜１６をフォトリソグラフィ技術と
イオンエツチング技術により除去する（ｇ）。次に、ア
モルファス合金またはＦｅ−Ｎｉ合金などの金属磁性膜
１８を形成する（吊。上記金属磁性膜１８の膜厚は約２
〜７μｍで、スパッタまたは蒸着により形成す、る。次
に、上記金属磁性膜１８をフォトリソグラフィ技術およ
びイオンエツチング技術、またはケミカルエツチング技
術により所定の形状に加工し、上部コア１８とする（ｉ
）。この際、上記形状によりトラック幅が規制される。
次に、酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素からなる保護
膜１９をスパッタまたは蒸着などにより形成する。上記
保護膜１９の膜厚は５〜４０μｍであるＯ）。次に、上
記保護膜１９をラップ加工またはイオンエツチング技術
により平坦化加工を行う（ｋ）。この面が２０である。
膜１９をスパッタまたは蒸着などにより形成する。上記
保護膜１９の膜厚は５〜４０μｍであるＯ）。次に、上
記保護膜１９をラップ加工またはイオンエツチング技術
により平坦化加工を行う（ｋ）。この面が２０である。
なお、本実施例ではコイルは一層としたが、渦巻状にコ
イルを巻き、そのコイル上に絶縁膜を形成し、上記絶縁
膜に孔（スルーホール）を形成し、コイルの中心からコ
イル引出用端子を形成するような多層構造でもよい。ま
た第・３図において、ハードディスク用ヘッドを示した
が、その他のヘッドでもよい。また同図において、１は
下部コアであると同時にスライダの役目も備えている。
イルを巻き、そのコイル上に絶縁膜を形成し、上記絶縁
膜に孔（スルーホール）を形成し、コイルの中心からコ
イル引出用端子を形成するような多層構造でもよい。ま
た第・３図において、ハードディスク用ヘッドを示した
が、その他のヘッドでもよい。また同図において、１は
下部コアであると同時にスライダの役目も備えている。
また下部コア上に酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素に
代えてガラス膜を設けたり、保護膜上に非磁性のフェラ
イトまたはガラスなどの基板を接着することも可能であ
る。
代えてガラス膜を設けたり、保護膜上に非磁性のフェラ
イトまたはガラスなどの基板を接着することも可能であ
る。
発明の効果
以上のように本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、次の効
果が得られる。
果が得られる。
（１） 上部コアとして金属磁性膜を設ける構成とし
たので、高密度記録用の高抗磁力媒体に書込みができ、
記録・再生効率の高い薄膜磁気ヘッドが得られる。
たので、高密度記録用の高抗磁力媒体に書込みができ、
記録・再生効率の高い薄膜磁気ヘッドが得られる。
（２） コイルを溝の中に埋め込む構成としたので、
コイルの厚さを厚くすることができ、コイルの発熱を抑
えた薄膜磁気ヘッドが得られる。
コイルの厚さを厚くすることができ、コイルの発熱を抑
えた薄膜磁気ヘッドが得られる。
（３）絶縁層、金属磁性膜は薄膜形成技術、フォトリソ
グラフィ技術、イオンエツチング技術、ケミカルエツチ
ング技術で形成できるので、トラック幅の精度の高い薄
膜磁気ヘッドが得られる。
グラフィ技術、イオンエツチング技術、ケミカルエツチ
ング技術で形成できるので、トラック幅の精度の高い薄
膜磁気ヘッドが得られる。
第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドの部
分斜視図、第２図は同ヘッドの断面図、第３図は同ヘッ
ドの全体斜視図、第４図（ａ）〜（りは同ヘッドの製造
工程断面図、第５図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第６
図は同ヘッドの断面図、第７図は他の従来の磁気ヘッド
の斜視図、第８図は同ヘッドの断面図、第９図は同ヘッ
ドの要部の拡大斜視図である。 １・・・・・・下部コア、２・・・・・・溝、４・・・
・・・コイル、１３゜１４．１６・・・・・・絶縁層、
１８・・・・・・上部コア、１９・・・・・・保護層、
ｇ・・・・・・磁気ギャップ長。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか１名第 ■ 第 箇 図 図 （ｅ） 第 図 第 図 第 図 θ ス
分斜視図、第２図は同ヘッドの断面図、第３図は同ヘッ
ドの全体斜視図、第４図（ａ）〜（りは同ヘッドの製造
工程断面図、第５図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第６
図は同ヘッドの断面図、第７図は他の従来の磁気ヘッド
の斜視図、第８図は同ヘッドの断面図、第９図は同ヘッ
ドの要部の拡大斜視図である。 １・・・・・・下部コア、２・・・・・・溝、４・・・
・・・コイル、１３゜１４．１６・・・・・・絶縁層、
１８・・・・・・上部コア、１９・・・・・・保護層、
ｇ・・・・・・磁気ギャップ長。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか１名第 ■ 第 箇 図 図 （ｅ） 第 図 第 図 第 図 θ ス
Claims (1)
- フェライトからなる下部コアの上面に溝を設け、その溝
の底面に絶縁層を設け、その絶縁層の上にコイルを設け
、そのコイルの上に絶縁層を設け、その絶縁層を下部コ
アの上面と一致するまで平坦化加工し、その平坦化加工
した面上に磁気ギャップ長に等しい厚さの絶縁層を設け
、その絶縁層のうちバックギャップ上の絶縁層を除去し
、前記絶縁層上および前記バックギャップ上に金属磁性
膜からなる上部コアを設け、その上部コア上に保護層を
設けた薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2216866A JPH0498607A (ja) | 1990-08-16 | 1990-08-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2216866A JPH0498607A (ja) | 1990-08-16 | 1990-08-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0498607A true JPH0498607A (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=16695138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2216866A Pending JPH0498607A (ja) | 1990-08-16 | 1990-08-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0498607A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392840B1 (en) | 1997-12-08 | 2002-05-21 | International Business Machines Corporation | Planarized side by side design of an inductive writer and single metallic magnetoresistive reader |
-
1990
- 1990-08-16 JP JP2216866A patent/JPH0498607A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392840B1 (en) | 1997-12-08 | 2002-05-21 | International Business Machines Corporation | Planarized side by side design of an inductive writer and single metallic magnetoresistive reader |
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