JPH05100454A - 電子写真用感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 導電性支持体上に、下記一般式で表わされる
スチルベン系化合物を含有する感光層を有する電子写真
用感光体。 【化１】 Ｘ；水素原子又は−Ｃ（Ｒ⁶ ）＝Ｃ（Ｒ⁷ ）Ｒ⁸ Ａｒ¹ 及びＡｒ₂ ；置換基を有してもよい、アルキル
基、アリール基又は複素環基 Ａｒ³ 及びＡｒ⁴ ；置換基を有してもよい、アリーレン
基又は二価の複素環基 Ｒ¹ 〜Ｒ⁸ ；水素原子、置換基を有してもよい、アリー
ル基又は複素環基 Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰；水素原子、ハロゲン原子、置換基を有し
てもよい、アルキル基、アルコキシ基又はアミン基 点線１〜４；点線の如く結合して環構造をとることもで
きる。 【効果】 感度が非常に高く、かつ、かぶりの原因とな
る残留電位が小さく、とくに光疲労が少ないために繰返
し使用による残留電位の蓄積や、表面電位および感度の
変動が小さく耐久性に優れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真用感光体に関す
るものである。さらに詳しくは有機系の光導電性物質を
含有する感光層を有する高感度の電子写真用感光体に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真感光体の感光層にはセレ
ン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機系の光導電性物
質が広く用いられていた。しかしながら、セレン、硫化
カドミウムは毒物として回収が必要であり、セレンは熱
により結晶化するため耐熱性に劣り、硫化カドミウム、
酸化亜鉛は耐湿性に劣り、また酸化亜鉛は耐刷性がない
などの欠点を有しており、新規な感光体の開発の努力が
続けられている。最近は、有機系の光導電性物質を電子
写真用感光体の感光層に用いる研究が進み、そのいくつ
かが実用化された。有機系の光導電性物質は無機系のも
のに比し、軽量である、成膜が容易である、感光体の製
造が容易である、種類によっては透明な感光体を製造で
きる等の利点を有する。

【０００３】最近は、電荷キャリヤーの発生と移動の機
能を別々の化合物に分担させる、いわゆる機能分離型の
感光体が高感度化に有効であることから、開発の主流と
なっており、このタイプによる有機系感光体の実用化も
行なわれている。電荷キャリヤー移動媒体としては、ポ
リビニルカルバゾールなどの高分子光導電性化合物を用
いる場合と低分子光導電性化合物をバインダーポリマー
中に分散溶解する場合とがある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】特に、有機系の低分子
光導電性化合物は、バインダーとして皮膜性、可とう
性、接着性などのすぐれたポリマーを選択することがで
きるので容易に機械的特性の優れた感光体を得ることが
できる（例えば、特開昭６０−１９６７６７号公報、特
開昭６０−２１８６５２号公報、特開昭６０−２３３１
５６号公報、特開昭６３−４８５５２号公報、特開平１
−２６７５５２号公報参照）。しかしながら、高感度な
感光体を作るのに適した化合物を見出すことが困難であ
った。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは高感度およ
び高耐久性の電子写真用感光体を提供する有機系の低分
子光導電性化合物について鋭意研究したところ特定のス
チルベン系化合物が好適であることを見出し本発明に至
った。即ち、本発明の要旨は、導電性支持体上に下記一
般式〔Ｉ〕

【０００６】

【化４】

【０００７】（式中、Ｘは水素原子、又は一般式〔II〕
−ＣＲ⁶ ＝Ｃ（Ｒ⁷ ）Ｒ⁸ で示される基を表わし、Ａｒ¹ およびＡｒ² はそれぞれ
置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよ
いアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を表わ
し、これらは互いに同一でも異なっていてもよく；Ａｒ
³ およびＡｒ⁴ はそれぞれ置換基を有してもよいアリー
レン基又は置換基を有してもよい二価の複素環基を表
し、これらは互いに同一でも異なっていてもよく；
Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ およびＲ⁸
はそれぞれ水素原子、置換基を有してもよいアルキル
基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有し
てもよい複素環基を表し、これらは互いに同一でも異な
っていてもよく（但し、Ｒ⁴ とＲ⁵ ，Ｒ⁷ とＲ⁸ のどち
らか一方が水素原子またはアルキル基の時は、もう一方
は、アリール基または複素環基である）；Ｒ⁹ およびＲ
¹⁰は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコ
キシ基又は置換アミノ基を表わし、これらは互いに同一
でも異なっていてもよく；点線１は、Ａｒ¹ と窒素原子
に結合している芳香族基との間で点線で示す如く結合し
て以下の一般式〔III 〕または〔IV〕で、点線２はＡｒ
² と窒素原子に結合している芳香族基との間で点線に示
す如く結合して以下の一般式〔Ｖ〕又は〔VI〕で、点線
３はＡｒ³ と窒素原子に結合している芳香族基との間で
点線に示す如く結合して以下の一般式〔VII 〕又は〔VI
II〕で、又、点線４はＡｒ⁴ と窒素原子に結合している
芳香族基との間で点線に示す如く結合して以下の一般式
〔IX〕又は〔Ｘ〕で

【０００８】

【化５】

【０００９】

【化６】

【００１０】それぞれ表わされる構造をとることもでき
ることを示す。）で表わされるスチルベン系化合物を含
有する感光層を有することを特徴とする電子写真用感光
体に存する。以下、本発明を詳細に説明する。

【００１１】本発明の電子写真用感光体は、感光層中に
前記一般式〔Ｉ〕で表わされるスチルベン系化合物を含
有する。前記一般式〔Ｉ〕において、Ｘは、水素原子又
は、一般式〔II〕−ＣＲ⁶ ＝Ｃ（Ｒ⁷ ）Ｒ⁸ で示される基を表わす。

【００１２】Ａｒ¹ およびＡｒ² は、それぞれ、メチル
基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基；ピ
ロリル基、チオフェニル基、フリル基、カルバゾリル基
等の複素環基を表し、これらは、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、特にフェニル基が好ましい。これらのア
ルキル基、アリール基、および複素環基は置換基を有し
ていてもよく、置換基としては、水酸基；塩素原子、臭
素原子、よう素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキ
シ基；アリル基；ベンジル基、ナフチルメチル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基；フェノキシ基、トリロキシ
基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチ
ルオキシ基等のアリールアルコキシ基；フェニル基、ナ
フチル基等のアリール基；スチリル基、ナフチルビニル
基等のアリールビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基；ジフェニルアミノ
基、ジナフチルアミノ基等のジアリールアミノ基；ジベ
ンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキ
ルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基
等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミノ基又、上記のア
ミノ基の置換基を組み合せたジ置換アミノ基等があげら
れる。

【００１３】Ａｒ³ およびＡｒ⁴ は、それぞれフェニレ
ン基、ナフチレン基、アントラセニレン基等のアリーレ
ン基；ピロリデン基、チエニリデン基、フリリデン基等
の二価の複素環基を表し、これらは、互いに同一でも異
なっていてもよく、特に、フェニレン基、ナフチレン基
が好ましい。これらのアリーレン基、および二価の複素
環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、水
酸基；塩素原子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン原
子；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基等のアルコキシ基；アリル基；ベンジル基、ナフ
チルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基；フェノ
キシ基、トリロキシ基等のアリールオキシ基；ベンジル
オキシ基、フェネチルオキシ基等のアリールアルコキシ
基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；スチリル
基、ナフチルビニル基等のアリールビニル基、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基；
ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジアリー
ルアミノ基；ジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ
基等のジアラルキルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジ
チエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミ
ノ基又、上記のアミノ基の置換基を組み合せたジ置換ア
ミノ基等があげられる。

【００１４】Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ
⁷ およびＲ⁸ は、それぞれ、水素原子；メチル基、エチ
ル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル基、ナフチ
ル基、アントラセニル基等のアリール基；ピロリル基、
チオフェニル基、フリル基、カルバゾリル基等の複素環
基を表し、これらは互いに同一でも異なっていてもよ
い。これらのアルキル基、アリール基、および複素環基
は置換基を有していてもよく、置換基としては、水酸
基；塩素原子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン原
子；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基等のアルコキシ基；アリル基；ベンジル基、ナフ
チルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基；フェノ
キシ基、トリロキシ基等のアリールオキシ基；ベンジル
オキシ基、フェネチルオキシ基等のアリールアルコキシ
基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；スチリル
基、ナフチルビニル基等のアリールビニル基、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基；
ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジアリー
ルアミノ基；ジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ
基等のジアラルキルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジ
チエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミ
ノ基又、上記のアミノ基の置換基を組み合せたジ置換ア
ミノ基等があげられる。

【００１５】但し、Ｒ⁴ とＲ⁵ 、Ｒ⁷ とＲ⁸ のどちらか
一方が水素原子または、アルキル基の時、もう一方は、
アリール基または複素環基である。Ｒ⁹ およびＲ¹⁰は、
それぞれ、水素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等
のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の
アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ
基等のアルコキシ基；ジメチルアミノ基等のジアルキル
アミノ基、ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ
基、ジベンジルアミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジ
ピリジルアミノ基等のジ複素環アミノ基、ジアリルアミ
ノ基、又、上記のアミノ基の置換基を組み合せたジ置換
アミノ基等の置換アミノ基を表し、これらは互いに同一
でも異なっていてもよく、特に、水素原子、メチル基、
メトキシ基が好ましい。これらのアルキル基、アルコキ
シ基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、
水酸基；塩素原子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン
原子；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基等のアルコキシ基；アリル基；ベンジル基、ナ
フチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基；フェ
ノキシ基、トリロキシ基等のアリールオキシ基；ベンジ
ルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアリールアルコキ
シ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；スチリ
ル基、ナフチルビニル基等のアリールビニル基、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ
基；ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジア
リールアミノ基；ジベンジルアミノ基、ジフェネチルア
ミノ基等のジアラルキルアミノ基；ジピリジルアミノ
基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基；ジアリ
ルアミノ基又、上記のアミノ基の置換基を組み合せたジ
置換アミノ基等があげられる。

【００１６】又、点線１は、Ａｒ¹ と窒素原子に結合し
ている芳香族基との間で点線で示す如く結合して前記の
一般式〔III 〕又は〔IV〕で、点線２はＡｒ² と窒素原
子に結合している芳香族基との間で点線に示す如く結合
して前記の一般式〔Ｖ〕又は〔VI〕で、点線３はＡｒ³
と窒素原子に結合している芳香族基との間で点線に示す
如く結合して前記の一般式〔VII 〕又は〔VIII〕で、
又、点線４はＡｒ⁴ と窒素原子に結合している芳香族基
との間で点線に示す如く結合して前記の一般式〔IX〕又
は〔Ｘ〕でそれぞれ表わされる構造をとることもでき
る。

【００１７】以下に一般式〔Ｉ〕で表わされるスチルベ
ン系化合物について、その代表例を挙げるが、本発明に
用いるスチルベン系化合物は、その要旨を越えない限
り、これら具体例に限定されるものではない。

【００１８】

【化７】

【００１９】

【化８】

【００２０】

【化９】

【００２１】

【化１０】

【００２２】

【化１１】

【００２３】

【化１２】

【００２４】

【化１３】

【００２５】

【化１４】

【００２６】

【化１５】

【００２７】前記一般式〔Ｉ〕で表わされるスチルベン
系化合物は、公知の方法を用いて製造できる。好ましい
製造方法として、以下に、Ｘ＝Ｈの時と、−ＣＲ⁶ ＝Ｃ
（Ｒ⁷ ）Ｒ⁸ の時の場合について、それぞれ述べる。

【００２８】Ｘ＝Ｈ の場合 例えば、公知のスチルベン化合物を原料として用いて、
公知なカルボニル導入反応を行ない、次いでWittig反応
を行なう事により、目的の化合物を得る方法である。こ
の方法を詳しく説明すると、まず、下記の様に

【００２９】

【化１６】

【００３０】 Ｒ³ ＝Ｈ の場合 一般式〔XI〕（一般式〔XI〕および〔XII 〕中、Ａ
ｒ¹ ，Ａｒ² ，Ａｒ³ ，Ａｒ⁴ ，Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ⁹ およ
びＲ¹⁰は、一般式〔Ｉ〕におけると同一の意義を有す
る。）で表わされるスチルベン化合物をオキシ塩化リン
の存在下に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチ
ルホルムアニリド等のホルミル化剤と反応させると一般
式〔XII 〕で示されるアルデヒド体が得られる。ホルミ
ル化剤を大過剰に用いて反応溶媒を兼ねることもできる
が、Ｏ−ジクロルベンゼン、ベンゼン等の反応に不活性
な溶媒を用いることもできる。

【００３１】 Ｒ³ ≠Ｈ の場合 一般式〔XI〕で表わされるスチルベン化合物を、塩化ア
ルミニウム、塩化鉄、塩化亜鉛等のルイス酸存在下、ニ
トロベンゼン、ジクロルメタン、四塩化炭素等の溶媒
中、一般式 Ｃｌ−ＣＯ−Ｒ³ で表わされる酸塩化物と反応させることにより、一般式
〔XII 〕で表わされるケトン体が得られる。

【００３２】次いで得られた、一般式〔XII 〕で表わさ
れるアルデヒド又はケトン類と、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン等の反応に
不活性な公知の有機溶媒中、一般式〔XIII〕（一般式
〔XIII〕中、Ｒ⁴ およびＲ⁵ は一般式〔Ｉ〕におけると
同一の意義を有し、またＸは、塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子を示す。以下の式において同じ。）で表わ
されるハロゲン化物とトリフェニルホスフィンとを作用
させて得られるウィッテッヒ試薬とを１０〜２００℃、
好ましくは２０〜１００℃の温度で、ブチルリチウム、
フェニルリチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の公知な塩基性
触媒の存在下反応させることにより一般式〔Ｉ〕で表わ
される化合物が得られる。

【００３３】この時、シス体、トランス体およびシス体
とトランス体の混合物のいずれかが得られる。（以下の
式において一般式〔Ｉ〕は、シス体、トランス体および
シス体とトランス体の混合物のいずれかを表す。）

【００３４】

【化１７】

【００３５】Ｘ＝−ＣＲ⁶ ＝Ｃ（Ｒ⁷ ）Ｒ⁸ の場合、大
きく分けて、２つの方法がある。 （１）例えば、公知のスチルベン化合物を原料として用
いて、公知なカルボニル導入反応を行ない次いでWittig
反応を行なう事により、目的の化合物を得る方法であ
る。この方法を詳しく説明すると、まず下記の様に

【００３６】

【化１８】

【００３７】 Ｒ³ ＝Ｒ⁶ ＝Ｈ の場合 一般式〔XI〕で表わされるスチルベン化合物をオキシ塩
化リンの存在下に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
−メチルホルムアニリド等のホルミル化剤と反応させる
と、一般式〔XIV 〕（式中、Ａｒ¹ ，Ａｒ² ，Ａｒ³ ，
Ａｒ⁴ ，Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁹ およびＲ¹⁰は一
般式〔Ｉ〕におけると同一の意義を有する。）で示され
るアルデヒド体が得られる。ホルミル化剤を大過剰に用
いて反応溶媒を兼ねることもできるが、Ｏ−ジクロルベ
ンゼン、ベンゼン等の反応に不活性な溶媒を用いること
もできる。

【００３８】 Ｒ³ ≠Ｈ，Ｒ⁶ ≠Ｈの場合 一般式〔XI〕で表わされるスチルベン化合物を塩化アル
ミニウム、塩化鉄、塩化亜鉛等のルイス酸存在下、ニト
ロベンゼン、ジクロルメタン、四塩化炭素等の溶媒中、
一般式 Ｃｌ−ＣＯ−Ｒ³ もしくは Ｃｌ−ＣＯ−Ｒ
⁶ で表わされる酸塩化物と反応させることにより、一般式
〔XIV 〕で表わされるケトン体が得られる。また、Ｒ³
およびＲ⁶ は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁶
≠Ｒ⁸ の場合は、加える酸塩化物を混合、もしくは、段
階的に加える事によって達成される。

【００３９】 Ｒ³ ，Ｒ⁶ の一方が水素原子で、他方
が水素原子でない場合 上記２つの場合の合成法を段階的に行なう事によって達
成される。次いで得られた、一般式〔XIV 〕で表わされ
るアルデヒド又はケトン類と、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン等の反応に不
活性な公知の有機溶媒中、一般式〔XIII〕及び〔XV〕
（〔XV〕中でＲ⁷ およびＲ⁸ は一般式〔Ｉ〕におけると
同一の意義を有し、またＸは、塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子を示す。以下の式において同じ。）で表わ
されるハロゲン化物とトリフェニルホスフィンとを作用
させて得られるウィテッヒ試薬とを１０〜２００℃、好
ましくは２０〜１００℃の温度で、ブチルリチウム、フ
ェニルリチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の公知な塩基性触
媒の存在下反応させることにより一般式〔Ｉ〕で表わさ
れる化合物が得られる。

【００４０】この時、シス体、トランス体およびシス体
とトランス体の混合物のいずれかが得られる。（以下の
式において、一般式〔Ｉ〕は、シス体、トランス体およ
びシス体とトランス体の混合物のいずれかを表す。）な
お、〔XIII〕及び〔XV〕は単独でも混合してもよく、
又、場合によっては、段階的に反応させてもよい。

【００４１】

【化１９】

【００４２】（２）例えば、公知のスチルベン化合物を
原料として用い、公知なカルボニル導入反応を行ない、
次いで２分子縮合反応を行なう事により、目的の化合物
を得る方法である。この方法を詳しく説明すると、ま
ず、下記の様に

【００４３】

【化２０】

【００４４】 Ｒ² ＝Ｈ の場合 一般式〔XVI 〕（一般式〔XVI 〕および〔XVII〕中、Ａ
ｒ² ，Ａｒ⁴ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ およびＲ¹⁰は、
一般式〔Ｉ〕におけると同一の意義を有する。）で表わ
されるスチルベン化合物をオキシ塩化リンの存在下に、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニ
リド等のホルミル化剤と反応させると一般式〔XVII〕で
示されるアルデヒド体が得られる。ホルミル化剤を大過
剰に用いて反応溶媒を兼ねることもできるが、Ｏ−ジク
ロルベンゼン、ベンゼン等の反応に不活性な溶媒を用い
ることもできる。

【００４５】 Ｒ² ≠Ｈ の場合 一般式〔XVI 〕で表わされるスチルベン化合物を塩化ア
ルミニウム、塩化鉄、塩化亜鉛等のルイス酸存在下、ニ
トロベンゼン、ジクロルメタン、四塩化炭素等の溶媒
中、一般式 Ｃｌ＝ＣＯ−Ｒ⁴ で表わされる酸塩化物と反応させることにより、一般式
〔XVII〕で表わされるケトン体が得られる。

【００４６】次いで、一般式〔XVII〕及び〔XVIII 〕
（一般式〔XVIII 〕中、Ａｒ¹ ，Ａｒ ³ ，Ｒ¹ ，Ｒ⁶ ，
Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、一般式〔Ｉ〕におけると同一
の意義を有する。）で表わされるアルデヒド又はケトン
類をテトラヒドロフラン、ジオキサン等の反応に不活性
な公知の有機溶媒中、三塩化チタンとカリウム、三塩化
チタンとリチウム、三塩化チタンと水素化リチウムアル
ミニウム、三塩化チタンとマグネシウム、四塩化チタン
と水素化リチウムアルミニウム、四塩化チタンと亜鉛、
六塩化タングステンと水素化リチウムアルミニウム、六
塩化タングステンとブチルリチウムなどより調整した試
薬と室温もしくは加熱下反応させたり、亜リン酸トリエ
チルと加熱下反応させたり、あるいはクロロジフェニル
ホスフィンと水素化ナトリウムより調整した試薬と加熱
下反応させることにより一般式（Ｉ〕で表わされる化合
物が得られる。この時、シス体、トランス体およびシス
体とトランス体の混合物のいずれかが得られる。（以下
の式において一般式〔Ｉ〕は、シス体、トランス体およ
びシス体とトランス体の混合物のいずれかを表す。）副
反応を抑制するために場合によっては、ピリジン、トリ
エチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、１，８−ビス
（ジメチルアミノ）ナフタレン等の３級アミンを加えて
もよい。

【００４７】

【化２１】

【００４８】これらの反応において、場合によっては、
各工程終了後、あるいは、全工程終了後、再結晶精製、
昇華精製、カラム精製等の公知な精製手段により、高純
度体を得る事も可能である。本発明の電子写真用感光体
は、上記一般式〔Ｉ〕で表わされるスチルベン系化合物
を１種または２種以上含有する感光層を有する。

【００４９】一般式〔Ｉ〕で表わされるスチルベン系化
合物は有機光導電体としてきわめてすぐれた性能を示
す。特に電荷移動媒体として用いた場合には高感度で耐
久性にすぐれた感光体を与える。電子写真用感光体の感
光層の形態としては種々のものが知られているが、本発
明の電子写真用感光体の感光層としてはそのいずれであ
ってもよい。例えばバインダー中にスチルベン系化合物
と必要に応じ増感剤となる色素や電子吸引性化合物を添
加した感光層、光を吸収すると極めて高い効率で電荷キ
ャリヤーを発生する光導電性粒子とスチルベン系化合物
をバインダー中に添加した感光層、スチルベン系化合物
とバインダーからなる電荷移動層と光を吸収すると極め
て高い効率で電荷キャリヤーを発生する光導電性粒子か
らなるあるいはこれとバインダーからなる電荷発生層と
を積層した感光層等が挙げられる。

【００５０】これらの感光層中には、一般式〔Ｉ〕で表
わされるスチルベン系化合物と共に、有機光導電体とし
てすぐれた性能を有する公知の他のヒドラゾン化合物、
スチルベンゼン系化合物を混合してもよい。本発明にお
いては上記一般式〔Ｉ〕で表わされるスチルベン系化合
物を電荷発生層と電荷移動層の二層からなる感光層の電
荷移動層中に用いる場合に、特に感度が高く残留電位が
小さく、かつ、繰返し使用した場合に、表面電位の変動
や感度の低下、残留電位の蓄積等が少なく耐久性にすぐ
れた感光体を得ることができる。

【００５１】本発明の電子写真用感光体は常法に従って
上記一般式〔Ｉ〕で表わされるスチルベン系化合物をバ
インダーと共に適当な溶剤中に溶解し、必要に応じ光を
吸収すると極めて高い効率で電荷キャリヤーを発生する
光導電性粒子、増感染料、電子吸引性化合物、あるい
は、可塑剤、顔料その他の添加剤を添加して得られる塗
布液を導電性支持体上に塗布、乾燥し、通常、数μ〜数
十μの膜厚の感光層を形成させることにより製造するこ
とができる。電荷発生層と電荷移動層の二層からなる感
光層の場合は、電荷発生層の上に上記塗布液を塗布する
か、上記塗布液を塗布して得られる電荷移動層の上に電
荷発生層を形成させることにより、製造することができ
る。

【００５２】塗布液調製用の溶剤としてはテトラヒドロ
フラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素；Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、
ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒；酢酸
エチル、蟻酸メチル、メチルセロソルブアセテート等の
エステル類；ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化
炭化水素などのスチルベン系化合物を溶解させる溶剤が
挙げられる。勿論これらの中からバインダーを溶解する
ものを選択する必要がある。また、バインダーとして
は、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、ブタジエン等のビニル
化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアセタール、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリ
フェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロースエス
テル、セルロースエーテル、フェノキシ樹脂、けい素樹
脂、エポキシ樹脂等スチレン系化合物と相溶性のある各
種ポリマーが挙げられる。バインダーの使用量は通常ス
チルベン系化合物に対し、０．５〜３０重量倍、好まし
くは０．７〜１０重量倍の範囲である。

【００５３】上記感光層に添加される光導電性粒子、染
料色素、電子吸引性化合物としてはいずれも周知のもの
が使用できる。光を吸収すると極めて高い効率で電荷キ
ャリヤーを発生する光導電性粒子としてはセレン、セレ
ン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、硫化カドミウム、
アモルファスシリコン等の無機光導電性粒子；金属含有
フタロシアニン、ペリノン系顔料、チオインジゴ、キナ
クリドン、ペリレン系顔料、アントラキノン系顔料、ア
ゾ系顔料、ビスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料、テトラ
キス系アゾ顔料、シアニン系顔料等の有機光導電性粒子
が挙げられる。（特に、金属含有フタロシアニンと組み
合わせるとレーザー光に対する感度が向上した感光体が
得られる。）染料としては、例えばメチルバイオレッ
ト、ブリリアントグリーン、クリスタルバイオレット等
のトリフェニルメタン染料、メチレンブルーなどのチア
ジン染料、キニザリン等のキノン染料及びシアニン染料
やビリリウム塩、チアビリリウム塩、ベンゾビリリウム
塩等が挙げられる。また、スチルベン系化合物と電荷移
動錯体を形成する電子吸引性化合物としては、例えばク
ロラニル、２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノン、
１−ニトロアントラキノン、１−クロロ−５−ニトロア
ントラキノン、２−クロロアントラキノン、フェナント
レンキノン等のキノン類；４−ニトロベンズアルデヒド
等のアルデヒド類；９−ベンゾイルアントラセン、イン
ダンジオン、３，５−ジニトロベンゾフェノン、２，
４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テ
トラニトロフルオレノン、３，３′，５，５′−テトラ
ニトロベンゾフェノン等のケトン類；無水フタル酸、４
−クロロナフタル酸無水物等の酸無水物；テトラシアノ
エチレン、テレフタラルマロノニトリル、９−アントリ
ルメチリデンマロノニトリル、４−ニトロベンザルマロ
ノニトリル、４−（ｐ−ニトロベンゾイルオキシ）ベン
ザルマロノニトリル等のシアノ化合物；３−ベンザルフ
タリド、３−（α−シアノ−ｐ−ニトロベンザル）フタ
リド、３−（α−シアノ−ｐ−ニトロベンザル）−４，
５，６，７−テトラクロロフタリド等のフタリド類等の
電子吸引性化合物が挙げられる。

【００５４】更に、本発明の電子写真用感光体の感光層
は成膜性、可撓性、機械的強度を向上させるために周知
の可塑剤を含有していてもよい。そのために上記塗布液
中に添加する可塑剤としては、フタル酸エステル、りん
酸エステル、エポキシ化合物、塩素化パラフィン、塩素
化脂肪酸エステル、メチルナフタレンなどの芳香族化合
物などが挙げられる。スチルベン系化合物を電荷移動層
中の電荷移動媒体として用いる場合の塗布液は、前記組
成のものでもよいが、光導電性粒子、染料色素、電子吸
引性化合物等は除くか、少量の添加でよい。この場合の
電荷発生層としては上記光導電性粒子と必要に応じバイ
ンダーポリマーや有機光導電性物質、染料色素、電子吸
引性化合物等の溶媒に溶解乃至分散させて得られる塗布
液を塗布乾燥した薄層、あるいは前記光導電性粒子を蒸
着等の手段により製膜とした層が挙げられる。

【００５５】このようにして形成される感光体にはま
た、必要に応じ、接着層、中間層、透明絶縁層等を有し
ていてもよいことはいうまでもない。感光層が形成され
る導電性支持体としては周知の電子写真感光体に採用さ
れているものがいずれも使用できる。具体的には例えば
アルミニウム、ステンレス、銅等の金属ドラム、シート
あるいはこれらの金属箔のラミネート物、蒸着物が挙げ
られる。更に、金属粉末、カーボンブラック、ヨウ化
銅、高分子電解質等の導電性物質を適当なバインダーと
ともに塗布して導電処理したプラスチックフィルム、プ
ラスチックドラム、紙、紙管等が挙げられる。また、金
属粉末、カーボンブラック、炭素繊維等の導電性物質を
含有し、導電性となったプラスチックのシートやドラム
が挙げられる。

【００５６】

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は感度が非常に
高く、かつ、かぶりの原因となる残留電位が小さく、と
くに光疲労が少ないために繰返し使用による残留電位の
蓄積や、表面電位および感度の変動が小さく耐久性に優
れるという特徴を有する。

【００５７】

【実施例】つぎに、本発明を実施例により更に具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の製
造例、実施例に限定されるものではない。なお、実施例
中「部」とあるのは「重量部」を示す。 製造例１ ビス（ｐ−ジフェニルアミノ）−１，２−ジフェニルエ
チレン

【００５８】

【化２２】

【００５９】１．２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
２４mlに溶解させ、その後オキシ塩化リン１．１mlを加
え、その後、８０℃で７時間反応させた。放冷後、反応
液を氷水２００ｇに放出し、水酸化ナトリウムにより加
水分解し、更に、常法により、抽出、濃縮、精製処理を
行なうことにより、かっ色油状物０．４ｇを得た。

【００６０】この化合物は、下記元素分析値、質量分析
測定及び赤外吸収スペクトル測定により、下記構造式で
表わされる化合物であることが判明した。

【００６１】

【化２３】

【００６２】製造例２ 製造例１で合成した化合物０．４ｇと、ｐ−メチルベン
ジルトリフェニルホスホニウムブロマイド０．６ｇを
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７mlに溶解させ、ナトリ
ウムメトキシドのメタノール２８％溶液０．３ｇを滴下
し、その後、６５℃で２時間反応させた。放冷後、反応
液を氷水１００ｇに放出し、更に常法により、抽出、濃
縮、精製処理を行なうことにより、黄色油状物０．３ｇ
を得た。

【００６３】この化合物は、下記元素分析値、質量分析
測定及び赤外吸収スペクトル測定（図１）により、下記
構成式で表わされる化合物であることが判明した。

【００６４】

【化２４】

【００６５】製造例３

【００６６】

【化２５】

【００６７】２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
２０mlに溶解させ、その後、オキシ塩化リン０．８mlを
加え、その後、７５℃で１時間反応させた。放冷後、反
応液を氷水２００ｇに放出し、水酸化ナトリウムにより
加水分解し、更に、常法により、抽出、濃縮、精製処理
を行なうことにより、燈色油状物１．１ｇを得た。この
化合物は、下記元素分析値及び質量分析測定及び赤外吸
収スペクトル測定により、下記構造式で表わされる化合
物であることが判明した。

【００６８】

【化２６】

【００６９】製造例４ 窒素気流下室温で四塩化チタン１．９ｇをテトラヒドロ
フラン４０mlに滴下し、次いで、同温度にて、水素化リ
チウムアルミニウム０．２ｇを加え、その後、２０分
間、加熱還流した。その後、反応系に、製造例３で合成
した化合物０．８ｇを、トリ−ｎ−ブチルアミン０．４
ｇのテトラヒドロフラン溶液（２ml）を、加熱還流下滴
下し、その後、加熱還流下、２０分間反応させた。放冷
後、反応液に、氷冷下、２０％炭酸カリウム水溶液をア
ルカリ性になるまで加えた。更に、反応液をセライト濾
過し、濾液を常法により分液、濃縮、精製処理を行なう
ことにより、淡黄結晶（融点１１９−１２１℃）を得
た。

【００７０】この化合物は、下記元素分析値、質量分析
測定及び赤外吸収スペクトル測定（図２）により、下記
構造式（化合物例Ｎｏ．１４）で表わされる化合物であ
ることが判明した。

【００７１】

【化２７】

【００７２】実施例１ チタニウムオキシフタロシアニン顔料１．０部とポリビ
ニルブチラール（電気化学工業（株）社製、商品名ポリ
ビニルブチラール＃６０００）０．５部を３０部の４−
メトキシ−４−メチルペンタノン−２（三菱化成（株）
社製）中で、分散微粒子化処理を行なった。

【００７３】この分散液を１００μｍの膜厚のポリエス
テルフィルムに蒸着されたアルミ蒸着層の上に乾燥後の
重量が０．２ｇ／m²になる様にワイヤーバーで塗布した
後、乾燥して電荷発生層を形成させた。この上に製造例
２で製造したスチルベン系化合物７０部と下記に示すポ
リカーボネート樹脂

【００７４】

【化２８】

【００７５】１００部をジオキサン９００部に溶解した
塗布液を塗布、乾燥し、膜厚１７μｍの電荷移動層を形
成させた。このようにして得た２層からなる感光層を有
する電子写真感光体について感度すなわち半減露光量を
測定したところ２．２（μＷ／cm² ）^-1であった。半減
露光量はまず、感光体を暗所で−４．８KVのコロナ放電
により帯電させ、次いで７７５nmの光で露光し、表面電
位が５００Ｖから２５０Ｖまで減衰するのに要する露光
量を測定することにより求めた。

【００７６】実施例２ 実施例１で用いたフタロシアニン系顔料の代りに、下記
構造式で表わされるナフタル酸系ビスアゾ顔料を用いて
実施例１と同様にして作成した感光体を白色光で露光し
半減露光量を測定したところ、１．３ lux・sec であっ
た。

【００７７】

【化２９】

【００７８】実施例３〜１０ 実施例１で用いたスチルベン系化合物の代わりに、製造
例２又は４と同様にして合成した下記第１表に示すスチ
ルベン系化合物を用い、また、電荷発生層には、実施例
１で用いたチタニウムオキシフタロシアニン顔料を使用
して得られる電子写真感光体の感度を第１表に示す。

【００７９】 第 １ 表 例 例示化合物Ｎｏ． 感度（μＷ／cm²)^-1 ３ ２ ２．２ ４ ６ １．３ ５ ７ ０．９ ６ １２ １．３ ７ １４ ２．８ ８ １８ １．０ ９ ２１ １．７ １０ ２５ １．５

【図面の簡単な説明】

【図１】製造例２で得られたスチルベン系化合物の赤外
吸収スペクトル

【図２】製造例４で得られたスチルベン系化合物の赤外
吸収スペクトル

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に、下記一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｘは水素原子、又は一般式〔II〕−ＣＲ⁶ ＝Ｃ
   （Ｒ⁷ ）Ｒ⁸ で示される基を表わし、Ａｒ¹ およびＡｒ² はそれぞれ
   置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよ
   いアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を表わ
   し、これらは互いに同一でも異なっていてもよく；Ａｒ
   ³ およびＡｒ⁴ はそれぞれ置換基を有してもよいアリー
   レン基又は置換基を有してもよい二価の複素環基を表
   し、これらは互いに同一でも異なっていてもよく；
   Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ およびＲ⁸
   はそれぞれ水素原子、置換基を有してもよいアルキル
   基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有し
   てもよい複素環基を表し、これらは互いに同一でも異な
   っていてもよく（但し、Ｒ⁴ とＲ⁵ ，Ｒ⁷ とＲ⁸ のどち
   らか一方が水素原子またはアルキル基の時は、もう一方
   は、アリール基または複素環基である）；Ｒ⁹ およびＲ
   ¹⁰は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基を有し
   てもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコ
   キシ基又は置換アミノ基を表わし、これらは互いに同一
   でも異なっていてもよく；点線１は、Ａｒ¹ と窒素原子
   に結合している芳香族基との間で点線で示す如く結合し
   て以下の一般式〔III 〕または〔IV〕で、点線２はＡｒ
   ² と窒素原子に結合している芳香族基との間で点線に示
   す如く結合して以下の一般式〔Ｖ〕又は〔VI〕で、点線
   ３はＡｒ³ と窒素原子に結合している芳香族基との間で
   点線に示す如く結合して以下の一般式〔VII 〕又は〔VI
   II〕で、又、点線４はＡｒ⁴ と窒素原子に結合している
   芳香族基との間で点線に示す如く結合して以下の一般式
   〔IX〕又は〔Ｘ〕で 【化２】 【化３】 それぞれ表わされる構造をとることもできることを示
   す。）で表わされるスチルベン系化合物を含有する感光
   層を有することを特徴とする電子写真用感光体。