JPH0510192B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0510192B2
JPH0510192B2 JP61041088A JP4108886A JPH0510192B2 JP H0510192 B2 JPH0510192 B2 JP H0510192B2 JP 61041088 A JP61041088 A JP 61041088A JP 4108886 A JP4108886 A JP 4108886A JP H0510192 B2 JPH0510192 B2 JP H0510192B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
electron
backscattered
inputs
secondary electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61041088A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62197284A (ja
Inventor
Seiichi Tsukamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP61041088A priority Critical patent/JPS62197284A/ja
Publication of JPS62197284A publication Critical patent/JPS62197284A/ja
Publication of JPH0510192B2 publication Critical patent/JPH0510192B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子ビーム溶接機に関し、特に反射電
子を利用して継目の機能を改善した電子ビーム溶
接機に関する。
〔従来の技術〕
電子ビーム溶接機は、電子ビームによつて被溶
接物を偏向走査し、被溶接物表面からの反射電子
の量が溶接の継目部分とその他の部分とで著しく
異なることを利用して、溶接の継目に電子ビーム
を自動的追従させながら溶接を行う装置である。
第2図は従来の電子ビーム溶接機の一例の構成
をブロツク図で示したものである。第2図におい
て、1はフイラメントで加熱電源5によつて加熱
され、加速電源4によつてアノード3(接地され
ている)に対して負に荷電される。2はグリツド
で、バイアス電源6およびトレーサービーム用バ
イアス電源7の重畳された電圧を荷電されてフイ
ラメント1から放射される電子ビーム8の量を制
御する。30および30′はY軸偏向コイル、3
1および31′はX軸偏向コイルであり、各偏向
コイルはX軸偏向コイル電流32およびY軸偏向
コイル電流33′によつて駆動される。35はビ
ーム偏向走査制御部で、X軸偏向コイル電流32
およびY軸偏向コイル電流33を生成すると同時
に、トレーサービーム切替信号34およびビーム
オリジナルポイント通過信号36を第3図に示す
ような関連を持つて送出する。38はトレーサー
ビーム切替信号34を受けてトレーサービーム用
バイアス電源7の電圧を所要分だけ上昇させるた
めの信号を発生するバイアス駆動回路であり、5
0は反射電子コレクターであつて、電子ビーム8
がY軸偏向コイル30およびX軸偏向コイル31
によつて偏向走査パターン9の如く偏向走査され
る偏向走査期間内に、トレース中の電子ビーム8
すなわちトレーサービーム8′が被溶接物100
および100′に衝突して反射して来る反射電子
10を集電するものであり、二次電子抑制バイア
ス電源51によつて接地に対して負に荷電されて
反射電子検出抵抗52に反射電子信号を導く。5
3は反射電子信号であつて、ピーク値検出器54
に入力され、ピーク量信号55を生成する。56
は可変ゲインアンプであつて、ピーク量信号55
を入力しそれが大きいときはゲインを下げ小さい
ときはゲインを上げるように働き、トレーサービ
ーム8′が被溶接物100と100′との溶接継目
101を通過するとき、その反射電子10の量が
減少することによつて発生するギヤツプパルス信
号37の振幅が常に一定になるようにするいわゆ
るAGCとして動作する。70は、位置ズレ量検
出器であつて、ビームオリジナルポイント通過信
号36とギヤツプパルス信号37との時間差と、
あらかじめ定められているビームの偏向走査速度
とを演算することによつて位置ズレ量を求めるも
のである。71はサーボアンプであつて、サーボ
モータ72およびボールスクリユー74を介して
試料台73を位置ズレ検出器70からの位置ズレ
信号量に対応する量だけ移動することによつて電
子ビーム8と溶接継目101の位置ズレを補正し
て正常な溶接ビード102を得る。
このように、従来の電子ビーム溶接機は、電子
ビームの出力が上昇して偏向走査の期間中に被溶
接物の表面が溶けて、反射電子中のノイズが増大
することを防止するため、偏向走査の期間中は電
子ビームの出力を下げるように構成している。と
ころが、このような手段は、装置の構成が複雑で
あつてしかも信頼性に欠けるばかりでなく、溶接
速度を早くしようとする場合、ビーム電流を溶接
電流からトレース電流へ、またトレース電流から
溶接電流へと切替るときの切替時間が無視できな
いので早い溶接速度では溶接の連続性が損われる
ため溶接速度が低い値に制限されるという欠点を
有している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明が解決しようとする問題点、換言すれば
本発明の目的は、上述のような従来の電子ビーム
溶接機の欠点を除去して、構成を複雑にしかも信
頼性を低下させる原因となつているバイアス駆動
回路とトレーサビーム用バイアス電源とを取除く
ことにより、信頼性が高くしかも高速に溶接する
ことのできる電子ビーム溶接機を提供することに
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の電子ビーム溶接機は、接地電位に対し
て負に荷電されて電子ビームの反射電子を捕捉す
る反射電子コレクターと、接地電位に対して正に
荷電されて二次電子を捕捉する二次電子コレクタ
ーと、前記反射電子コレクターからの信号と前記
二次電子コレクターからの信号の大きさの比率を
ビーム偏向走査制御部からの偏向走査中信号の入
力期間について演算する二次電子比率演算器と、
前記二次電子比率演算器の出力を入力して反射電
子信号の下限スライスレベルを決めるスライサ
と、前記スライサの出力信号のピークの量を検出
するピーク値検出器と、前記ピーク値検出器から
の信号を入力してその出力信号の振幅を一定にす
る可変ゲインアンプと、前記可変ゲインアンプの
出力信号とX軸偏向コイルおよびY軸偏向コイル
にそれぞれ偏向コイル電流を供給する前記ビーム
偏向走査制御部からのビームオリジナルポイント
通過信号とを入力して位置ずれ量を検出する位置
ずれ量検出器と、前記位置ずれ量検出器の出力信
号を入力して増幅しサーボモータを駆動する信号
を出力するサーボアンプと、前記サーボモータの
動作によつて搭載している被溶接物の位置を移動
させる試料台とを備えて構成される。
〔実施例〕
次に本発明の実施例について図面を参照して詳
細に説明する。
第1図は本発明の一実施例を示すブロツク図で
あり、偏向走査期間中にビーム出力を低減させる
ための複雑な回路を除去して、溶接電流のままで
継目の追従を行うことができるようにしたもので
あり、偏向走査の期間中に被溶接物の表面が溶け
て、反射電子信号に重畳されるノイズ信号が増加
するのは、被溶接物の表面が溶け始めると二次電
子の量が急増することによることに着目し、反射
電子信号の大きさに対する二次電子信号の大きさ
の比率の形でそれを検出し、あらかじめ定めた相
対関係で反射電子信号の下限スライスレベルを設
定してS/N比の改善を図るようにしたものであ
る。
図において、64は二次電子コレクターであつ
て、集電効率を上げるために引出電源62によつ
て正に電荷されている。61はこの引出電源62
に接続されている二次電子検出抵抗で、反射電子
検出抵抗52と共にそれぞれ二次電子信号および
反射電子原信号を二次電子比率演算器60に導
き、そこで演算した演算結果に対してあらかじめ
定めた相対関係を有する下限スライスレベル信号
303をスライサ63に供給する。スライサ63
は反射電子原信号301を下限スライスレベル信
号303に対応する分だけスライスしてS/N比
の改善された整形反射電子信号304を可変ゲイ
ンアンプ56に出力する。65は上記の動作を偏
向走査期間内のみで行うようにするために偏向走
査制御部35から二次電子比較演算器60に与え
られ偏向走査中信号である。上記以外の構成につ
いては第2図の従来例と同じである。第4図は、
上記の構成の実施例の動作を説明する波形図であ
る。第4図aは電子ビーム8の出力が小さくて被
溶接物100および100′の表面が充分に溶け
ない場合の反射電子原信号301の波形で、ノイ
ズ量302は非常に小さな値である。第4図bは
電子ビーム出力が増大して被溶接物100および
100′の表面が溶けている状態のときの波形で
ある。図に示すとおり、ノイズ量302は極めて
大きく誤動作の原因となる。そこで第4図cに示
すようにスライサ63において下限スライスレベ
ル信号303の量だけ下限レベルを切り取り、反
射電子原信号301の上部のみを可変ゲインアン
プ56に入力してAGC動作をさせて整形反射電
子信号304を得るようにしているのである。し
たがつて第4図aにおける反射電子原信号301
の振幅と、第4図cにおける整形反射電子信号3
04との振幅は同じとなり、S/N比が大幅に改
善される。
このように、上記の実施例は反射電子コレクタ
ーに二次電子コレクタを追加し、ま反射電子原信
号に発生するノイズをカツトするための波形処理
回路として二次電子比較器とスライサとを付加す
ることにより、複雑な構成でしかも信頼性を損ね
る原因となるビーム出力低減回路であるバイアス
駆動回路とトレーサビーム用バイアス電源を取除
いて、信頼性が高くしかも高速な継目の追従動作
を可能とした。
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したように、本発明の電子ビー
ム溶接機は、構成を複雑にししかも信頼性を損ね
る原因となるビーム出力低減回路を取除き、代り
に反射電子原信号のノイズをカツトして振幅が一
定でS/N比を改善した整形反射信号が得られる
二次電子コレクタと二次電子比較演算器とスライ
サとを付加することによつて、信頼性に優れしか
も高速に動作することができる電子ビーム溶接機
を得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の構成を示すブロツ
ク図、第2図は従来の電子ビーム溶接機の構成の
一例を示すブロツク図、第3図は第2図に示す装
置の動作を説明するタイミングチヤート、第4図
は第1図の実施例の動作を説明する波形図であ
る。 図において、9…ビーム偏向走査パターン、3
2…X軸偏向コイル電流、33…Y軸偏向コイル
電流、34…トレーサービーム切替信号、36…
ビームオリジナルポイント通過信号、37…ギヤ
ツプパルス信号、53…反射電子信号、55…ピ
ーク量信号、62…引出電源、65…偏向走査中
信号、301…反射電子原信号、302…ノイズ
量、303…下限スライスレベル信号、304…
整形反射電子信号。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 接地電位に対して負に荷電されて電子ビーム
    の反射電子を捕捉する反射電子コレクターと、接
    地電位に対して正に荷電されて二次電子を捕捉す
    る二次電子コレクターと、前記反射電子コレクタ
    ーからの信号と前記二次電子コレクターからの信
    号の大きさの比率をビーム偏向走査制御部からの
    偏向走査中信号の入力期間について演算する二次
    電子比率演算器と、前記二次電子比率演算器の出
    力を入力して反射電子信号の下限スライスレベル
    を決めるスライサと、前記スライサの出力信号の
    ピークの量を検出するピーク値検出器と、前記ピ
    ーク値検出器からの信号を入力してその出力信号
    の振幅を一定にする可変ゲインアンプと、前記可
    変ゲインアンプの出力信号とX軸偏向コイルおよ
    びY軸偏向コイルにそれぞれ偏向コイル電流を供
    給する前記ビーム偏向走査制御部からのビームオ
    リジナルポイント通過信号とを入力して位置ずれ
    量を検出する位置ずれ量検出器と、前記位置ずれ
    量検出器の出力信号を入力して増幅しサーボモー
    タを駆動する信号を出力するサーボアンプと、前
    記サーボモータの動作によつて搭載している被溶
    接物の位置を移動させる試料台とを備えることを
    特徴とする電子ビーム溶接機。
JP61041088A 1986-02-25 1986-02-25 電子ビ−ム溶接機 Granted JPS62197284A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61041088A JPS62197284A (ja) 1986-02-25 1986-02-25 電子ビ−ム溶接機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61041088A JPS62197284A (ja) 1986-02-25 1986-02-25 電子ビ−ム溶接機

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62197284A JPS62197284A (ja) 1987-08-31
JPH0510192B2 true JPH0510192B2 (ja) 1993-02-09

Family

ID=12598715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61041088A Granted JPS62197284A (ja) 1986-02-25 1986-02-25 電子ビ−ム溶接機

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62197284A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2810137B2 (ja) * 1989-08-21 1998-10-15 株式会社日立製作所 イオンビーム加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62197284A (ja) 1987-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4348576A (en) Position regulation of a charge carrier beam
CN114682878A (zh) 用于运行焊接机器人的具有焊缝跟踪的焊接方法
EP0795372A1 (en) Standoff control method and apparatus for plasma cutting machine
KR100200639B1 (ko) 자동 용접장치의 용접토오치 경로 보정방법
JPH0510192B2 (ja)
US3588463A (en) Method and apparatus for tracking a seam
US4721842A (en) Beam position correction device
JPH0545356B2 (ja)
JP3187147B2 (ja) レーザー加工装置
JP2737472B2 (ja) 溶接状態検出装置
JP3077263B2 (ja) 加工具の刃先位置検出装置
JPH06218569A (ja) レーザ加工装置
JPS5853187Y2 (ja) デンシビ−ムキキ
JPS61283471A (ja) 電子ビ−ム溶接における溶接線ならい方法及びその装置
JPH0211357B2 (ja)
JPH0360879A (ja) 電子ビーム加工機
JP3916448B2 (ja) レーザ加工機
JPS63108984A (ja) レ−ザ加工方法
JP2621289B2 (ja) 自動継目追従装置
JP2802301B2 (ja) アーク溶接装置
JP2836224B2 (ja) 電子ビームの焦点調整方法
JPS61293690A (ja) 電子ビ−ム溶接における加工距離の検出方法
GB1604222A (en) Controlling impinge ment of high-energy beam of charged particles on a workpiece
JP2024099275A (ja) レーザ加工機、及びレーザ加工方法
JPS6233071A (ja) ミグブレイズ溶接方法