JPH05107167A - 臭気ガスの測定システム及び装置 - Google Patents
臭気ガスの測定システム及び装置Info
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- JPH05107167A JPH05107167A JP33110191A JP33110191A JPH05107167A JP H05107167 A JPH05107167 A JP H05107167A JP 33110191 A JP33110191 A JP 33110191A JP 33110191 A JP33110191 A JP 33110191A JP H05107167 A JPH05107167 A JP H05107167A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 水分を自動的に補正し臭気を正しく測定する
こと。 【構成】 前処理部（１）と測定部（２）で構成され、
前処理部（１）はさらに冷却槽（３）、加温槽（４）で
構成され、測定部（２）は測定用センサーで構成され
る。また、参照センサー（６）を設け、臭気を連続測定
する。 【効果】 水分による測定誤差を消去し、正しい臭気が
測定可能となる。
こと。 【構成】 前処理部（１）と測定部（２）で構成され、
前処理部（１）はさらに冷却槽（３）、加温槽（４）で
構成され、測定部（２）は測定用センサーで構成され
る。また、参照センサー（６）を設け、臭気を連続測定
する。 【効果】 水分による測定誤差を消去し、正しい臭気が
測定可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は公害ガス、臭気ガスなど
の測定、モニタリングに関する。
の測定、モニタリングに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、臭気を測定する方法として、人間
の嗅覚による官能試験法、半導体センサーや人工脂質２
分子膜センサーを用いてニオイを相対値として測定する
方法、ガス検知管によりガス濃度を測定し臭気の強度に
対応させる方法等が用いられている。
の嗅覚による官能試験法、半導体センサーや人工脂質２
分子膜センサーを用いてニオイを相対値として測定する
方法、ガス検知管によりガス濃度を測定し臭気の強度に
対応させる方法等が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現在ガスセンサーある
いはニオイセンサーとして一般に半導体センサーあるい
は脂質二分子膜センサーなどが利用されている。水晶発
振子に二分子構造の有機膜を添着したいわゆる脂質二分
子膜センサーにおいては、ナノグラム単位のニオイを重
量として測定可能であり、かつ人間の嗅細胞が二分子構
造であることから人間の嗅覚で測定する官能試験の臭気
濃度に対応する値が測定できる利点がある。しかし、測
定ガス中の数＋ｐｐｍ（ｐｐｍは百万分の一の単位）の
ニオイの量を測定する場合にもその測定ガス中には温度
にもよるが数千から数万ｐｐｍの水分が含まれ水分補正
なしでニオイを測定することは困難であり、現実にはニ
オイを測定しているというより水分重量を測定している
といっても過言でない。同様に半導体センサーでも公知
の事実として、水分の測定値に及ぼす影響は極めて大き
い。ゼロ値を設定する標準空気の絶対湿度が測定ガスの
絶対湿度と異なればその分誤差となってあらわれる。す
なわち、温湿度の異なる測定時間、測定日の違いにより
同じ濃度のニオイに対し、再現性がほとんど得られない
欠点がある。しかし、測定ガス中の水分の影響を考慮し
た連続測定方法は実現されておらずゼロ値の設定に用い
るべき標準空気すら使用されていない現実である。本発
明は、測定ガス中に含まれる水分の量を自動的に補正す
ることにより臭気ガスの分析特に、連続測定、モニタリ
ングを目的とするものである。
いはニオイセンサーとして一般に半導体センサーあるい
は脂質二分子膜センサーなどが利用されている。水晶発
振子に二分子構造の有機膜を添着したいわゆる脂質二分
子膜センサーにおいては、ナノグラム単位のニオイを重
量として測定可能であり、かつ人間の嗅細胞が二分子構
造であることから人間の嗅覚で測定する官能試験の臭気
濃度に対応する値が測定できる利点がある。しかし、測
定ガス中の数＋ｐｐｍ（ｐｐｍは百万分の一の単位）の
ニオイの量を測定する場合にもその測定ガス中には温度
にもよるが数千から数万ｐｐｍの水分が含まれ水分補正
なしでニオイを測定することは困難であり、現実にはニ
オイを測定しているというより水分重量を測定している
といっても過言でない。同様に半導体センサーでも公知
の事実として、水分の測定値に及ぼす影響は極めて大き
い。ゼロ値を設定する標準空気の絶対湿度が測定ガスの
絶対湿度と異なればその分誤差となってあらわれる。す
なわち、温湿度の異なる測定時間、測定日の違いにより
同じ濃度のニオイに対し、再現性がほとんど得られない
欠点がある。しかし、測定ガス中の水分の影響を考慮し
た連続測定方法は実現されておらずゼロ値の設定に用い
るべき標準空気すら使用されていない現実である。本発
明は、測定ガス中に含まれる水分の量を自動的に補正す
ることにより臭気ガスの分析特に、連続測定、モニタリ
ングを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
には、測定ガス中の水分量すなわち測定ガスの絶対湿度
と等しい絶対湿度の空気を製造し、それを標準空気とし
てゼロ値の設定に用いれば測定値より水分の影響は自動
的に補正できる。
には、測定ガス中の水分量すなわち測定ガスの絶対湿度
と等しい絶対湿度の空気を製造し、それを標準空気とし
てゼロ値の設定に用いれば測定値より水分の影響は自動
的に補正できる。
【０００５】目的を達成する為には、任意の温度・湿度
の測定ガス並びにゼロ設定に用いる空気の温度を冷却槽
によって同時に飽和湿度となる温度に冷却したのち、加
温することによって本発明の目的は達成できる。冬、早
春、晩秋の比較的温度・湿度の低い時期には、冷却槽の
温度を０〜５°Ｃ程度に設定し、夏や温度・湿度の比較
的高い時期には冷却槽の温度を１０°Ｃ程度に設定する
ことにより、冷却槽を通過する測定ガス・空気の湿度を
飽和湿度すなわち同一温度での飽和湿度にすることが可
能である。すなわち、絶対湿度の等しい測定ガス・標準
空気に変換することが可能である。飽和湿度のガス・空
気は配管等に接触すると水分がさらに除去され、絶対湿
度は容易に変わってしまうので、加温槽によって再び加
温することによって、絶対湿度の変わらない安定したガ
ス・標準空気の製造が可能となる。加温槽における加温
温度は人間の嗅覚がもっとも鋭敏に働く２６°Ｃ前後に
設定することが望ましい。さらに、温度・湿度が時間的
に変動する測定ガスの連続測定は、測定ガスの絶対湿度
と等しい標準空気を常に参照用センサーに流すことによ
って達成できる。冷却槽としては、間接冷却でも直接冷
却でも目的は達成でき、必ずしもウオータバスに限定さ
れない。
の測定ガス並びにゼロ設定に用いる空気の温度を冷却槽
によって同時に飽和湿度となる温度に冷却したのち、加
温することによって本発明の目的は達成できる。冬、早
春、晩秋の比較的温度・湿度の低い時期には、冷却槽の
温度を０〜５°Ｃ程度に設定し、夏や温度・湿度の比較
的高い時期には冷却槽の温度を１０°Ｃ程度に設定する
ことにより、冷却槽を通過する測定ガス・空気の湿度を
飽和湿度すなわち同一温度での飽和湿度にすることが可
能である。すなわち、絶対湿度の等しい測定ガス・標準
空気に変換することが可能である。飽和湿度のガス・空
気は配管等に接触すると水分がさらに除去され、絶対湿
度は容易に変わってしまうので、加温槽によって再び加
温することによって、絶対湿度の変わらない安定したガ
ス・標準空気の製造が可能となる。加温槽における加温
温度は人間の嗅覚がもっとも鋭敏に働く２６°Ｃ前後に
設定することが望ましい。さらに、温度・湿度が時間的
に変動する測定ガスの連続測定は、測定ガスの絶対湿度
と等しい標準空気を常に参照用センサーに流すことによ
って達成できる。冷却槽としては、間接冷却でも直接冷
却でも目的は達成でき、必ずしもウオータバスに限定さ
れない。
【０００６】
【実施例】本発明の実施例を図によって説明すると、１
図はガス濃度検出センサーが水晶発振子に二分子構造の
有機膜を添着したセンサーでかつガス濃度が官能試験で
測定される臭気濃度に対応する値を測定する公害ガスの
臭気測定システムを示す。
図はガス濃度検出センサーが水晶発振子に二分子構造の
有機膜を添着したセンサーでかつガス濃度が官能試験で
測定される臭気濃度に対応する値を測定する公害ガスの
臭気測定システムを示す。
【０００７】２図は測定用センサーの参照センサーを設
けることにより連続測定する場合の公害ガスの臭気測定
システムを示す。
けることにより連続測定する場合の公害ガスの臭気測定
システムを示す。
【０００８】３図は測定用センサーとして半導体センサ
ーを用い、参照センサーを設け、連続的に公害ガスの臭
気を測定するシステムである。
ーを用い、参照センサーを設け、連続的に公害ガスの臭
気を測定するシステムである。
【０００９】１図において、ゼロ設定工程では、測定部
（１）の測定ガスポンプ（７）が作動すると、電磁弁
（１０）が閉じ、電磁弁（８）が開く。空気は測定ガス
ポンプ（７）の吸引作用により空気取入口（１２）より
系内に流入し、冷却槽（３ ）によって冷却され、飽和
湿度となったのち、加温槽（４）によって再び加温さ
れ、標準空気となって測定用センサー（５）を通り、ガ
ス排出口（１３）より系外に排出される。この工程でセ
ンサーのゼロ値を設定する。
（１）の測定ガスポンプ（７）が作動すると、電磁弁
（１０）が閉じ、電磁弁（８）が開く。空気は測定ガス
ポンプ（７）の吸引作用により空気取入口（１２）より
系内に流入し、冷却槽（３ ）によって冷却され、飽和
湿度となったのち、加温槽（４）によって再び加温さ
れ、標準空気となって測定用センサー（５）を通り、ガ
ス排出口（１３）より系外に排出される。この工程でセ
ンサーのゼロ値を設定する。
【００１０】測定工程においては、電磁弁（１０）が開
き、電磁弁（８）は閉じる。測定ガスは測定ガス取入口
（１１）より系内に流入し、冷却槽（３）及び加温槽
（４）により、標準空気の絶対湿度と等しい測定ガスに
変換され、測定センサーで測定されたのちガス排出口
（１３）より系外に排出される。
き、電磁弁（８）は閉じる。測定ガスは測定ガス取入口
（１１）より系内に流入し、冷却槽（３）及び加温槽
（４）により、標準空気の絶対湿度と等しい測定ガスに
変換され、測定センサーで測定されたのちガス排出口
（１３）より系外に排出される。
【００１１】２図において、ゼロ工程では、測定ガスポ
ンプ（７）が作動すると電磁弁（８）、（９）が開き、
電磁弁（１０）は閉じる。ゼロ値設定用空気は、空気取
入口（１２）より系内に流入し、冷却槽（３）によって
飽和湿度の空気に変換されたのち再び加温槽（４）で加
温され、標準空気となって測定用センサー（５）及び参
照センサー（６）を通り、ガス排出口（１３）より系外
に排出される。この工程でゼロ値が設定される。
ンプ（７）が作動すると電磁弁（８）、（９）が開き、
電磁弁（１０）は閉じる。ゼロ値設定用空気は、空気取
入口（１２）より系内に流入し、冷却槽（３）によって
飽和湿度の空気に変換されたのち再び加温槽（４）で加
温され、標準空気となって測定用センサー（５）及び参
照センサー（６）を通り、ガス排出口（１３）より系外
に排出される。この工程でゼロ値が設定される。
【００１２】測定工程に入ると、電磁弁（８）が閉じ、
電磁弁（９）及び（１０）は開いた状態となる。測定ガ
スは測定ガス取入口（１１）より系内に流入し、冷却槽
（３）で飽和湿度の測定ガスに変換されたのち、再び加
温槽（４）で加温され測定用センサー（５）を通りガス
排出口（１３）より系外に排出される。測定ガスの絶対
湿度と等しい標準空気は連続的に参照センサー（６）を
通り、ガス排出口（１３）より系外に排出される。測定
用センサーと参照センサーの測定値の差は水分の影響を
自動的に補正した値となる。測定ガスに直接接触する電
磁弁（１０）はピンチバルブが望ましいことは当然であ
る。
電磁弁（９）及び（１０）は開いた状態となる。測定ガ
スは測定ガス取入口（１１）より系内に流入し、冷却槽
（３）で飽和湿度の測定ガスに変換されたのち、再び加
温槽（４）で加温され測定用センサー（５）を通りガス
排出口（１３）より系外に排出される。測定ガスの絶対
湿度と等しい標準空気は連続的に参照センサー（６）を
通り、ガス排出口（１３）より系外に排出される。測定
用センサーと参照センサーの測定値の差は水分の影響を
自動的に補正した値となる。測定ガスに直接接触する電
磁弁（１０）はピンチバルブが望ましいことは当然であ
る。
【００１３】図３において、半導体センサーを用いる場
合、センサーの洗浄工程が新たに加わる。ゼロ設定工程
では、測定ガスポンプ（７）が作動すると、電磁弁
（８）、（９）及び（１５）が開き、電磁弁（１０）及
び（１６）は閉じた状態となる。ゼロ値を設定する空気
は空気取入口（１２）より系内に流入し、冷却槽（３）
で飽和湿度の空気に変換されたのち、再び加温槽（４）
で加温され標準空気となって測定用センサー（５）並び
に参照センサー（６）を経由してガス排出口（１３）よ
り系外に排出される。この工程でゼロ値の設定を行な
う。
合、センサーの洗浄工程が新たに加わる。ゼロ設定工程
では、測定ガスポンプ（７）が作動すると、電磁弁
（８）、（９）及び（１５）が開き、電磁弁（１０）及
び（１６）は閉じた状態となる。ゼロ値を設定する空気
は空気取入口（１２）より系内に流入し、冷却槽（３）
で飽和湿度の空気に変換されたのち、再び加温槽（４）
で加温され標準空気となって測定用センサー（５）並び
に参照センサー（６）を経由してガス排出口（１３）よ
り系外に排出される。この工程でゼロ値の設定を行な
う。
【００１４】測定工程では、電磁弁（８）及び（１６）
は閉じた状態となり、電磁弁（９）、（１０）、（１
５）は開いた状態である。測定ガスは測定ガス取入口
（１１）より系内に流入し、標準空気の絶対湿度と等し
い測定ガスに変換され測定用センサー（５）で測定され
たのち、ガス排出口（１３）より系外に排出される。ま
た、測定ガスと絶対湿度の等しい標準空気は連続的に参
照センサー（６）を流れ、水分補正が自動的に行なわれ
る。
は閉じた状態となり、電磁弁（９）、（１０）、（１
５）は開いた状態である。測定ガスは測定ガス取入口
（１１）より系内に流入し、標準空気の絶対湿度と等し
い測定ガスに変換され測定用センサー（５）で測定され
たのち、ガス排出口（１３）より系外に排出される。ま
た、測定ガスと絶対湿度の等しい標準空気は連続的に参
照センサー（６）を流れ、水分補正が自動的に行なわれ
る。
【００１５】洗浄工程では、従来、環境の湿度を有する
空気をそのまま用いているが、シリカゲル充填槽（１
４）を設置して乾燥空気で各くセンサーを洗浄したほう
がより効果的であることは言うまでもない。すなわち、
電磁弁（１０）及び（１５）が閉じ、電磁弁（８）、
（９）及び（１６）が開いた状態となる。空気は空気と
取入口（１２）より系内に流入し、シリカゲル充填槽
（１４）によって乾燥空気に変換され、測定用センサー
（５）並びに参照センサー（６）を十分洗浄したのち、
ガス排出口（１３）より系外に排出される。
空気をそのまま用いているが、シリカゲル充填槽（１
４）を設置して乾燥空気で各くセンサーを洗浄したほう
がより効果的であることは言うまでもない。すなわち、
電磁弁（１０）及び（１５）が閉じ、電磁弁（８）、
（９）及び（１６）が開いた状態となる。空気は空気と
取入口（１２）より系内に流入し、シリカゲル充填槽
（１４）によって乾燥空気に変換され、測定用センサー
（５）並びに参照センサー（６）を十分洗浄したのち、
ガス排出口（１３）より系外に排出される。
【００１６】
【作用】前処理部１を設けることにより常に測定ガスの
絶対湿度と等しい標準空気が製造でき、測定ガス中の水
分を自動補正できる。前処理部における冷却槽は飽和湿
度の空気・測定ガスをつくる作用し、加温槽は絶対湿度
を安定させる作用をする。
絶対湿度と等しい標準空気が製造でき、測定ガス中の水
分を自動補正できる。前処理部における冷却槽は飽和湿
度の空気・測定ガスをつくる作用し、加温槽は絶対湿度
を安定させる作用をする。
【００１７】
【効果】測定ガスの水分に影響されない公害ガスの臭気
測定が可能となる。
測定が可能となる。
【００１８】
【図１】水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセ
ンサーを用いる場合の公害ガスの臭気測定システムであ
る。
ンサーを用いる場合の公害ガスの臭気測定システムであ
る。
【図２】水晶発振子に二分子構造の有機膜を展着したセ
ンサーを用い、公害ガスの臭気を連続測定するシステム
である。
ンサーを用い、公害ガスの臭気を連続測定するシステム
である。
【図３】半導体センサーを用いた公害ガスの臭気を連続
的に測定するシステムである。
的に測定するシステムである。
１ 前処理部 ２ 測定部 ３ 冷却槽 ４ 加温槽 ５ 測定用センサー ６ 参照センサー ７ 測定ガスポンプ ８、９、１０、１５、１６ 電磁弁 １１ 測定ガス取入口 １２ 空気取入口 １３ ガス排出口 １４ シリカゲル充填槽 １７ 配管
Claims (3)
- 【請求項１】 測定ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度を
もった空気を製造するための前処理部（１）と測定ガス
のガス濃度を検出する測定部（２）で構成されることを
特徴とした臭気ガスの測定システム及び装置。 - 【請求項２】 前処理部（１）が飽和湿度のガス・空気
を製造する冷却槽（３）、空気・ガスを加温する加温槽
（４）で構成され、測定部（２）が測定用センサー
（５）で構成されることを特徴とした請求項１記載の臭
気ガスの測定システム及び装置。 - 【請求項３】 測定部（２）に測定用センサー（５）の
参照センサー（６）を設けることにより連続測定を行な
うことを特徴とした請求項１記載の臭気ガスの測定シス
テム及び装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33110191A JPH05107167A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 臭気ガスの測定システム及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33110191A JPH05107167A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 臭気ガスの測定システム及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05107167A true JPH05107167A (ja) | 1993-04-27 |
Family
ID=18239874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33110191A Pending JPH05107167A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 臭気ガスの測定システム及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05107167A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003065926A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-05 | Mitsubishi Electric Corp | 検知装置および検知方法 |
| JP2011505554A (ja) * | 2007-11-29 | 2011-02-24 | エッセアチエンメイ・ コーペラティヴァ・メカニチ・イモラ・ソシエタ・コーペラティヴァ | 気体混合物の組成を検出するための方法及び装置 |
| WO2020054455A1 (ja) * | 2018-09-11 | 2020-03-19 | 味の素株式会社 | 食品サンプルアロマの分析方法、分析装置及び分析ガス調製装置 |
| WO2020065983A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日本電気株式会社 | 情報処理装置、制御方法、及びプログラム |
| WO2020065981A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日本電気株式会社 | データ処理装置、測定システム、データ処理方法、測定方法、およびプログラム |
| JP2022537230A (ja) * | 2018-08-09 | 2022-08-25 | ケイリクス，インコーポレイテッド | 制御された湿度を伴うガスサンプリング |
| JP2024177029A (ja) * | 2023-06-09 | 2024-12-19 | 現代自動車株式会社 | ニオイ測定装置および方法 |
-
1991
- 1991-10-14 JP JP33110191A patent/JPH05107167A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003065926A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-05 | Mitsubishi Electric Corp | 検知装置および検知方法 |
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| WO2020054455A1 (ja) * | 2018-09-11 | 2020-03-19 | 味の素株式会社 | 食品サンプルアロマの分析方法、分析装置及び分析ガス調製装置 |
| JPWO2020054455A1 (ja) * | 2018-09-11 | 2021-08-30 | 味の素株式会社 | 食品サンプルアロマの分析方法、分析装置及び分析ガス調製装置 |
| WO2020065983A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日本電気株式会社 | 情報処理装置、制御方法、及びプログラム |
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| JP2024177029A (ja) * | 2023-06-09 | 2024-12-19 | 現代自動車株式会社 | ニオイ測定装置および方法 |
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