JPH0510727A - 薄膜検査装置とその検査方法 - Google Patents
薄膜検査装置とその検査方法Info
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- JPH0510727A JPH0510727A JP16475291A JP16475291A JPH0510727A JP H0510727 A JPH0510727 A JP H0510727A JP 16475291 A JP16475291 A JP 16475291A JP 16475291 A JP16475291 A JP 16475291A JP H0510727 A JPH0510727 A JP H0510727A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明基板に被着した薄膜の検査装置とその方
法に関し、膜厚の均一性検査の効率化を目的とする。 【構成】 光源４，モノクロメータ５，モノクロメータ
５に対向する光強度検出器６，薄膜３を被着した基板２
を支持するステージ10, 照射光17の波長を制御する照射
光コントローラ９，照射光17が薄膜３を走査するように
ステージ10を駆動させるステージコントローラ11, 光強
度検出器６が検出する検出光の波長を制御する検出光コ
ントローラ12, ステージ10と照射光コントローラ９と検
出光コントローラ(12)を制御し光強度検出器６からの出
力信号をデータ処理する制御処理装置13, 制御処理装置
13からの出力信号を可視データにする出力装置14および
15とを具えて構成する装置、並びに、その装置を使用し
て薄膜３の透過光から薄膜の厚さ均一性を検査する方
法。
法に関し、膜厚の均一性検査の効率化を目的とする。 【構成】 光源４，モノクロメータ５，モノクロメータ
５に対向する光強度検出器６，薄膜３を被着した基板２
を支持するステージ10, 照射光17の波長を制御する照射
光コントローラ９，照射光17が薄膜３を走査するように
ステージ10を駆動させるステージコントローラ11, 光強
度検出器６が検出する検出光の波長を制御する検出光コ
ントローラ12, ステージ10と照射光コントローラ９と検
出光コントローラ(12)を制御し光強度検出器６からの出
力信号をデータ処理する制御処理装置13, 制御処理装置
13からの出力信号を可視データにする出力装置14および
15とを具えて構成する装置、並びに、その装置を使用し
て薄膜３の透過光から薄膜の厚さ均一性を検査する方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は透明基板に被着した薄膜
の検査装置と検査方法、特に、膜厚の均一性検査に関す
る。
の検査装置と検査方法、特に、膜厚の均一性検査に関す
る。
【０００２】近年、コンピュータの高速化，大容量化が
著しく進歩しており、それに伴って半導体装置製造技術
の一層の精密化が要求される。そのため、薄膜の検査を
効率的かつ高精度に行う必要がある。
著しく進歩しており、それに伴って半導体装置製造技術
の一層の精密化が要求される。そのため、薄膜の検査を
効率的かつ高精度に行う必要がある。
【０００３】
【従来の技術】従来、半導体装置に用いる薄膜の厚さを
検査する方法として、光干渉法，Ｘ線法，触針法，断面
の光学的観察法，レーザ光を使用したスペクトル法等が
知られている。これらの従来方法は小範囲の膜厚測定に
適しているが、半導体ウエーハ全体および液晶表示パネ
ルのような大型基板に被着した薄膜の均一性検査に適用
したとき、ウエーハや基板自体のひずみ，基板搭載テー
ブルの高さのずれ等の影響を測定値から分離することが
困難である。
検査する方法として、光干渉法，Ｘ線法，触針法，断面
の光学的観察法，レーザ光を使用したスペクトル法等が
知られている。これらの従来方法は小範囲の膜厚測定に
適しているが、半導体ウエーハ全体および液晶表示パネ
ルのような大型基板に被着した薄膜の均一性検査に適用
したとき、ウエーハや基板自体のひずみ，基板搭載テー
ブルの高さのずれ等の影響を測定値から分離することが
困難である。
【０００４】特に、液晶表示パネルにおけるように、薄
膜の一辺の長さが25cm以上にもなると、従来方法で薄膜
の均一性を検査するにはあまりにも時間が掛かり過ぎ
る。
膜の一辺の長さが25cm以上にもなると、従来方法で薄膜
の均一性を検査するにはあまりにも時間が掛かり過ぎ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように従
来の膜厚検査方法は、小範囲の膜厚に対し１％または２
Å程度の高精度に測定可能である。しかし、広範囲に渡
って膜厚の均一性を効率的に測定をしようとすると、基
板自体のひずみ等に影響され不適当であり、かつ、時間
が掛かり過ぎるという問題点があった。
来の膜厚検査方法は、小範囲の膜厚に対し１％または２
Å程度の高精度に測定可能である。しかし、広範囲に渡
って膜厚の均一性を効率的に測定をしようとすると、基
板自体のひずみ等に影響され不適当であり、かつ、時間
が掛かり過ぎるという問題点があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記問題点の解決を目的
とする本発明は図１によれば、透明基板２に被着した薄
膜３の厚さの均一性を光透過率の変化によって測定する
方法であって、光源４，特定波長の光を透過させるモノ
クロメータ５，モノクロメータ５を介して光源４に対向
する光強度検出器６，基板２をモノクロメータ５と光強
度検出器６との対向間に支持するステージ10, モノクロ
メータ５を透過して薄膜３に照射する光17の波長を制御
する照射光コントローラ９，薄膜３に照射する光17が薄
膜３の全面を走査するようにステージ10を２軸方向に移
動させるステージコントローラ11, 薄膜３を透過した透
過光から光強度検出器６が検出する検出光の波長を制御
する検出光コントローラ12, ステージ10と照射光コント
ローラ９と検出光コントローラ12を制御し光強度検出器
６からの出力信号をデータ処理する制御処理装置13, 制
御処理装置13からの出力信号を可視データにする出力装
置14および15を具えたことを特徴とする薄膜検査装置で
あり、前記薄膜検査装置を使用する薄膜厚さの均一性検
査において、検出光コントローラ12による検出光の波長
を、照射光コントローラ９による照射光17の波長と同一
にすることを特徴とする、および、前記薄膜検査装置を
使用する薄膜厚さの均一性検査において、透明基板２に
被着した薄膜３の所要個所を表呈せしめる不透明マスク
を薄膜３に重ね、ステージ10を移動せしめ、薄膜３の所
要個所における均一性を検査することを特徴とする、さ
らに、前記薄膜検査装置を使用する薄膜厚さの均一性検
査において、ステージ10を移動せしめて薄膜３の全面を
フォローする照射光17の走査が、所定方向にシフトする
ジグザグコースの繰り返しとすることを特徴とする薄膜
検査方法である。
とする本発明は図１によれば、透明基板２に被着した薄
膜３の厚さの均一性を光透過率の変化によって測定する
方法であって、光源４，特定波長の光を透過させるモノ
クロメータ５，モノクロメータ５を介して光源４に対向
する光強度検出器６，基板２をモノクロメータ５と光強
度検出器６との対向間に支持するステージ10, モノクロ
メータ５を透過して薄膜３に照射する光17の波長を制御
する照射光コントローラ９，薄膜３に照射する光17が薄
膜３の全面を走査するようにステージ10を２軸方向に移
動させるステージコントローラ11, 薄膜３を透過した透
過光から光強度検出器６が検出する検出光の波長を制御
する検出光コントローラ12, ステージ10と照射光コント
ローラ９と検出光コントローラ12を制御し光強度検出器
６からの出力信号をデータ処理する制御処理装置13, 制
御処理装置13からの出力信号を可視データにする出力装
置14および15を具えたことを特徴とする薄膜検査装置で
あり、前記薄膜検査装置を使用する薄膜厚さの均一性検
査において、検出光コントローラ12による検出光の波長
を、照射光コントローラ９による照射光17の波長と同一
にすることを特徴とする、および、前記薄膜検査装置を
使用する薄膜厚さの均一性検査において、透明基板２に
被着した薄膜３の所要個所を表呈せしめる不透明マスク
を薄膜３に重ね、ステージ10を移動せしめ、薄膜３の所
要個所における均一性を検査することを特徴とする、さ
らに、前記薄膜検査装置を使用する薄膜厚さの均一性検
査において、ステージ10を移動せしめて薄膜３の全面を
フォローする照射光17の走査が、所定方向にシフトする
ジグザグコースの繰り返しとすることを特徴とする薄膜
検査方法である。
【０００７】
【作用】上記手段は、薄膜の厚さの絶対値を測定するの
と異なり、薄膜が厚くなると光透過率が低くなることを
利用した厚さの均一性検査である。そのため本発明装置
は、薄膜の物性により照射する光の波長および検出する
光の波長を選択する必要から、照射光のための波長コン
トローラと検出光のための波長コントローラとを具え、
透明基板に薄膜を被着した被検試料は、照射光が薄膜全
面を走査可能とするため、２軸方向に移動するステージ
に搭載する。
と異なり、薄膜が厚くなると光透過率が低くなることを
利用した厚さの均一性検査である。そのため本発明装置
は、薄膜の物性により照射する光の波長および検出する
光の波長を選択する必要から、照射光のための波長コン
トローラと検出光のための波長コントローラとを具え、
透明基板に薄膜を被着した被検試料は、照射光が薄膜全
面を走査可能とするため、２軸方向に移動するステージ
に搭載する。
【０００８】さらに、照射光の波長と検出光の波長を同
一に制御すること、被検試料の所要部を表呈せしめるマ
スクを使用することによって検査精度が向上し、ジグザ
グコースの繰り返しで照射光が薄膜に照射するようにす
ることによって、広範囲検査を効率化する。
一に制御すること、被検試料の所要部を表呈せしめるマ
スクを使用することによって検査精度が向上し、ジグザ
グコースの繰り返しで照射光が薄膜に照射するようにす
ることによって、広範囲検査を効率化する。
【０００９】
【実施例】図１は本発明に係わる薄膜検査装置のシステ
ム図である。図１において、１は透明基板（ガラス基
板）２に薄膜３を被着した被検試料、４は薄膜３に向け
て光を出射する光源、５は単波長の光を透過するモノク
ロメータ、６は薄膜３を透過した光の強度を測定する光
強度検出器（フォトマルチプライヤ）、７は光強度検出
器６の出力信号（電圧）を増幅するアンプ、８はアンプ
７に接続したＸ−Ｙレコーダ、９はモノクロメータ５を
透過し薄膜３に照射する光の波長を制御する照射光コン
トローラ、10は検査試料１を搭載したステージ、11は薄
膜３に照射する照射光17が薄膜３の全面を走査するよう
にステージ10を２軸方向に移動させるステージコントロ
ーラ、12は薄膜３を透過した透過光から光強度検出器６
が検出する光の波長を制御する検出光コントローラ、13
は照射光コントローラ９とステージコントローラ11と検
出光コントローラ12を制御する制御処理装置 (パーソナ
ルコンピュータ) であり、アンプ７を通って制御装置13
に入力した薄膜３の厚さ分布信号は、プリンタ14にて印
刷し表示パネル15に表示されるようになる。
ム図である。図１において、１は透明基板（ガラス基
板）２に薄膜３を被着した被検試料、４は薄膜３に向け
て光を出射する光源、５は単波長の光を透過するモノク
ロメータ、６は薄膜３を透過した光の強度を測定する光
強度検出器（フォトマルチプライヤ）、７は光強度検出
器６の出力信号（電圧）を増幅するアンプ、８はアンプ
７に接続したＸ−Ｙレコーダ、９はモノクロメータ５を
透過し薄膜３に照射する光の波長を制御する照射光コン
トローラ、10は検査試料１を搭載したステージ、11は薄
膜３に照射する照射光17が薄膜３の全面を走査するよう
にステージ10を２軸方向に移動させるステージコントロ
ーラ、12は薄膜３を透過した透過光から光強度検出器６
が検出する光の波長を制御する検出光コントローラ、13
は照射光コントローラ９とステージコントローラ11と検
出光コントローラ12を制御する制御処理装置 (パーソナ
ルコンピュータ) であり、アンプ７を通って制御装置13
に入力した薄膜３の厚さ分布信号は、プリンタ14にて印
刷し表示パネル15に表示されるようになる。
【００１０】光源４の出射光16から単一波長の光を透過
させるモノクロメータ５は、照射光コントローラ９によ
って、例えば 380nm〜780nm の中から選択された単一波
長の照射光17を透過させる。照射光17の波長は、薄膜３
の分光スペクトルより、厚さ変動の検出に適した値に設
定する。
させるモノクロメータ５は、照射光コントローラ９によ
って、例えば 380nm〜780nm の中から選択された単一波
長の照射光17を透過させる。照射光17の波長は、薄膜３
の分光スペクトルより、厚さ変動の検出に適した値に設
定する。
【００１１】照射光17を照射したとき薄膜３を透過した
透過光18が入射する光強度検出器６は、外部からの入射
光等に影響されないようにするため、検出光コントロー
ラ12によって予め設定した波長の光を電気量に変換し、
電気信号として出力する。該電気信号は、アンプ７にて
増幅しＸ−Ｙレコーダ８に記録されると共に、制御装置
13に入力して表示パネル15に表示すると同時にプリンタ
14にて記録する。
透過光18が入射する光強度検出器６は、外部からの入射
光等に影響されないようにするため、検出光コントロー
ラ12によって予め設定した波長の光を電気量に変換し、
電気信号として出力する。該電気信号は、アンプ７にて
増幅しＸ−Ｙレコーダ８に記録されると共に、制御装置
13に入力して表示パネル15に表示すると同時にプリンタ
14にて記録する。
【００１２】ステージ10は検査試料１の上下方向および
幅方向（図紙の厚さ方向）の２軸方向に移動し、例えば
上下方向に一定量ずつシフトしながら幅方向に往復動し
て、薄膜３の全面に照射光17を照射する。従って、照射
光17が直径１mmの光束であるとき上下方向のシフト量は
１mm以下となり、薄膜３の幅方向長さが 150mmのとき幅
方向に照射光17が移動する走査回数は 150回以上にな
る。
幅方向（図紙の厚さ方向）の２軸方向に移動し、例えば
上下方向に一定量ずつシフトしながら幅方向に往復動し
て、薄膜３の全面に照射光17を照射する。従って、照射
光17が直径１mmの光束であるとき上下方向のシフト量は
１mm以下となり、薄膜３の幅方向長さが 150mmのとき幅
方向に照射光17が移動する走査回数は 150回以上にな
る。
【００１３】そこで、ステージ10の移動によっで検査試
料１をその幅方向に移動させると同時に、ステージ10を
上下方向に適当な振幅例えば10mmの振幅で往復動させる
と、照射光17の走査線は正弦波形（ジグザクコース）を
描くようになり、照射光17の走査回数は直線走査時の1/
10となり試験効率が向上する。
料１をその幅方向に移動させると同時に、ステージ10を
上下方向に適当な振幅例えば10mmの振幅で往復動させる
と、照射光17の走査線は正弦波形（ジグザクコース）を
描くようになり、照射光17の走査回数は直線走査時の1/
10となり試験効率が向上する。
【００１４】図２は図１の本発明装置によって薄膜の均
一性を実測した透過光出力分布の一例、図３は図２にお
けるＸ-1点とＸ-2点とを結ぶ直線上の出力分布をＸ−Ｙ
レコーダで記録したときの概略図、図４は膜厚と光透過
率との関係を示す図である。ただし、図２の薄膜はガラ
ス基板にカラーフィルタ用赤色画素薄膜を被着したも
の、図４の薄膜はガラス基板に透明導電膜を被着したも
のである。
一性を実測した透過光出力分布の一例、図３は図２にお
けるＸ-1点とＸ-2点とを結ぶ直線上の出力分布をＸ−Ｙ
レコーダで記録したときの概略図、図４は膜厚と光透過
率との関係を示す図である。ただし、図２の薄膜はガラ
ス基板にカラーフィルタ用赤色画素薄膜を被着したも
の、図４の薄膜はガラス基板に透明導電膜を被着したも
のである。
【００１５】図２および図３において、格子線で示す薄
膜の厚さ分布19は、中心部に近い部分と左上隅部分とに
厚い部分 (低透過率部分) が検出される。一般に、この
ような膜厚の均一性検査において薄膜の透過率をＴ，薄
膜を透過した検出光の強度をＩ，薄膜に照射する照射光
の強度をＩ0,膜厚をｄ，薄膜の照射光吸収係数をｋとし
たとき、 Ｔ＝Ｉ／Ｉ0 ＝ｅ-kd で現される式に従う。
膜の厚さ分布19は、中心部に近い部分と左上隅部分とに
厚い部分 (低透過率部分) が検出される。一般に、この
ような膜厚の均一性検査において薄膜の透過率をＴ，薄
膜を透過した検出光の強度をＩ，薄膜に照射する照射光
の強度をＩ0,膜厚をｄ，薄膜の照射光吸収係数をｋとし
たとき、 Ｔ＝Ｉ／Ｉ0 ＝ｅ-kd で現される式に従う。
【００１６】図４は透明導電膜（ＩＴＯ膜）の膜厚と透
過率との関係を示すシュミレーションである。横軸を透
明導電膜の厚さ (μm), 縦軸を光透過率とした図４にお
いて、図中の実線Ｔ-1は厚さが１μm のとき透過率が90
％である透明導電膜の透過率特性、図中の破線Ｔ-2は厚
さが１μm のとき透過率が50％である透明導電膜の透過
率特性であり、何れの透過率特性も膜厚の増加と共に減
少する。
過率との関係を示すシュミレーションである。横軸を透
明導電膜の厚さ (μm), 縦軸を光透過率とした図４にお
いて、図中の実線Ｔ-1は厚さが１μm のとき透過率が90
％である透明導電膜の透過率特性、図中の破線Ｔ-2は厚
さが１μm のとき透過率が50％である透明導電膜の透過
率特性であり、何れの透過率特性も膜厚の増加と共に減
少する。
【００１７】図５は液晶表示パネルに使用するカラーフ
ィルタ用赤色画素薄膜の分光スペクトルである。図５に
おいて、縦軸は照射光の透過率（％),横軸は波長(nm)で
あり、図中の実線は厚さが1.９μm である赤色画素薄膜
の分光特性、図中の破線は厚さが2.４μm である赤色画
素薄膜の分光特性である。
ィルタ用赤色画素薄膜の分光スペクトルである。図５に
おいて、縦軸は照射光の透過率（％),横軸は波長(nm)で
あり、図中の実線は厚さが1.９μm である赤色画素薄膜
の分光特性、図中の破線は厚さが2.４μm である赤色画
素薄膜の分光特性である。
【００１８】薄厚の均一性を透過光によって検査するに
は、その薄膜が有する透過光特性に基づいて、均一性を
検出可能な照射光波長を選択する必要がある。そこで、
赤色画素薄膜の厚さ均一性検査に使用する照射（検出）
光には、厚さ変化に対する透過率の変化が安定であり、
かつ、波長の変動に対して安定な波長領域として、図５
より450nm 〜550nm とすることが望ましい。
は、その薄膜が有する透過光特性に基づいて、均一性を
検出可能な照射光波長を選択する必要がある。そこで、
赤色画素薄膜の厚さ均一性検査に使用する照射（検出）
光には、厚さ変化に対する透過率の変化が安定であり、
かつ、波長の変動に対して安定な波長領域として、図５
より450nm 〜550nm とすることが望ましい。
【００１９】図６はカラーフィルタにおける色別画素膜
の厚さ均一性試験に適用した本発明の実施例の説明図で
あり、(イ) はカラーフィルタの模式平面図、(ロ) はカラ
ーフィルタの断面図、(ハ) 色別画素膜の検査用マスクの
平面図、(ニ),(ホ),(ヘ) は色別画素膜検査方法を説明する
ための平面図である。
の厚さ均一性試験に適用した本発明の実施例の説明図で
あり、(イ) はカラーフィルタの模式平面図、(ロ) はカラ
ーフィルタの断面図、(ハ) 色別画素膜の検査用マスクの
平面図、(ニ),(ホ),(ヘ) は色別画素膜検査方法を説明する
ための平面図である。
【００２０】図６(イ) および(ロ) において、カラーフィ
ルタ21は、透明 (ガラス) 基板22の表面に多数の画素用
透孔があいたブラックマスク23を形成し、該透孔を埋め
るようにそれぞれ多数の赤色画素Ｒ，緑色画素Ｇ，青色
画素Ｂを形成する。かかるカラーフィルタ21において、
画素Ｒ，Ｇ，Ｂの厚さ均一性を試験するのに使用する使
用する照射光の波長は、画素Ｒ，Ｇ，Ｂによって異な
る。
ルタ21は、透明 (ガラス) 基板22の表面に多数の画素用
透孔があいたブラックマスク23を形成し、該透孔を埋め
るようにそれぞれ多数の赤色画素Ｒ，緑色画素Ｇ，青色
画素Ｂを形成する。かかるカラーフィルタ21において、
画素Ｒ，Ｇ，Ｂの厚さ均一性を試験するのに使用する使
用する照射光の波長は、画素Ｒ，Ｇ，Ｂによって異な
る。
【００２１】図６(ハ) において、画素Ｒ，Ｇ，Ｂの厚さ
均一性を試験するため準備するマスク24は、ガラス基板
に遮光膜25を被着し、遮光膜25に多数の透孔26を形成し
たものである。かかるマスク24は、画素Ｒの厚さ均一性
を試験するとき画素Ｇ，Ｂを覆うようになり、画素Ｇの
厚さ均一性を試験するとき画素Ｒ，Ｂを覆うようにな
り、画素Ｂの厚さ均一性を試験するとき画素Ｒ，Ｇを覆
うようになる。
均一性を試験するため準備するマスク24は、ガラス基板
に遮光膜25を被着し、遮光膜25に多数の透孔26を形成し
たものである。かかるマスク24は、画素Ｒの厚さ均一性
を試験するとき画素Ｇ，Ｂを覆うようになり、画素Ｇの
厚さ均一性を試験するとき画素Ｒ，Ｂを覆うようにな
り、画素Ｂの厚さ均一性を試験するとき画素Ｒ，Ｇを覆
うようになる。
【００２２】図６(ニ) において、赤色画素Ｒの厚さ均一
性を試験するマスク24は、透孔26内に赤色画素Ｒが表呈
する如くカラーフィルタ21に重ね、その状態で図１に示
す如き薄膜検査装置に搭載し、多数の赤色画素Ｒに検査
用の照射光を順次照射してその均一性を検査する。その
結果、照射光がマスク24に照射されたとき透過光（検出
出力）は零となり、赤色画素Ｒに照射光が照射されたと
きの出力変動から、赤色画素Ｒの厚さ均一性を知ること
ができる。
性を試験するマスク24は、透孔26内に赤色画素Ｒが表呈
する如くカラーフィルタ21に重ね、その状態で図１に示
す如き薄膜検査装置に搭載し、多数の赤色画素Ｒに検査
用の照射光を順次照射してその均一性を検査する。その
結果、照射光がマスク24に照射されたとき透過光（検出
出力）は零となり、赤色画素Ｒに照射光が照射されたと
きの出力変動から、赤色画素Ｒの厚さ均一性を知ること
ができる。
【００２３】図６(ホ) において、青色画素Ｂの厚さ均一
性を試験するマスク24は、透孔26内に青色画素Ｂが表呈
する如くカラーフィルタ21に重ね、その状態で図１に示
す如き薄膜検査装置に搭載し、多数の青色画素Ｂに検査
用の照射光を順次照射してその均一性を検査する。その
結果、照射光がマスク24に照射されたとき透過光（検出
出力）は零となり、青色画素Ｂに照射光が照射されたと
きの出力変動から、青色画素Ｂの厚さ均一性を知ること
ができる。
性を試験するマスク24は、透孔26内に青色画素Ｂが表呈
する如くカラーフィルタ21に重ね、その状態で図１に示
す如き薄膜検査装置に搭載し、多数の青色画素Ｂに検査
用の照射光を順次照射してその均一性を検査する。その
結果、照射光がマスク24に照射されたとき透過光（検出
出力）は零となり、青色画素Ｂに照射光が照射されたと
きの出力変動から、青色画素Ｂの厚さ均一性を知ること
ができる。
【００２４】図６(ヘ) において、緑色画素Ｇの厚さ均一
性を試験するマスク24は、透孔26内に緑色画素Ｇが表呈
する如くカラーフィルタ21に重ね、その状態で図１に示
す如き薄膜検査装置に搭載し、多数の緑色画素Ｇに検査
用の照射光を順次照射してその均一性を検査する。その
結果、照射光がマスク24に照射されたとき透過光（検出
出力）は零となり、緑色画素Ｇに照射光が照射されたと
きの出力変動から、緑色画素Ｇの厚さ均一性を知ること
ができる。
性を試験するマスク24は、透孔26内に緑色画素Ｇが表呈
する如くカラーフィルタ21に重ね、その状態で図１に示
す如き薄膜検査装置に搭載し、多数の緑色画素Ｇに検査
用の照射光を順次照射してその均一性を検査する。その
結果、照射光がマスク24に照射されたとき透過光（検出
出力）は零となり、緑色画素Ｇに照射光が照射されたと
きの出力変動から、緑色画素Ｇの厚さ均一性を知ること
ができる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明の検査装置お
よび検査方法は、薄膜を透過した透過光強度によって膜
厚の均一性を検査するものであり、従来の膜厚検査器を
使用した膜厚の均一性検査に比べ、高効率かつ広範囲測
定を可能にした効果がある。さらに、照射光の波長と検
出光の波長を同一に制御すること、被検試料の所要部を
表呈せしめるマスクを使用することによって、データ処
理が簡易化すると共に検査精度が向上し、ジグザグコー
スの繰り返しで照射光が薄膜に照射する方法の採用で、
検査効率は一層向上されるようになる。
よび検査方法は、薄膜を透過した透過光強度によって膜
厚の均一性を検査するものであり、従来の膜厚検査器を
使用した膜厚の均一性検査に比べ、高効率かつ広範囲測
定を可能にした効果がある。さらに、照射光の波長と検
出光の波長を同一に制御すること、被検試料の所要部を
表呈せしめるマスクを使用することによって、データ処
理が簡易化すると共に検査精度が向上し、ジグザグコー
スの繰り返しで照射光が薄膜に照射する方法の採用で、
検査効率は一層向上されるようになる。
【図１】 本発明に係わる薄膜検査装置のシステム図で
ある。
ある。
【図２】 図１の本発明装置によって薄膜の均一性を実
測した透過光出力分布の一例である。
測した透過光出力分布の一例である。
【図３】 図２におけるＸ-1点とＸ点-2とを結ぶ線上の
透過光出力分布をＸ−Ｙレコーダで記録したときの概略
図である。
透過光出力分布をＸ−Ｙレコーダで記録したときの概略
図である。
【図４】 膜厚と光透過率との関係を示す図である。
【図５】 液晶表示パネルに使用するカラーフィルタ用
赤色画素薄膜の分光スペクトルである。
赤色画素薄膜の分光スペクトルである。
【図６】 カラーフィルタにおける色別画素膜の厚さ均
一性試験に適用した本発明の実施例の説明図である。
一性試験に適用した本発明の実施例の説明図である。
１は検査試料
２は透明基板（ガラス基板）
３は透明基板に被着した薄膜
４は光源
５はモノクロメータ
６は光強度検出器（フォトマルチプライヤ）
９は照射光の波長を制御するコントローラ
10は被検試料を搭載するステージ
11はステージを駆動させるステージコントローラ
12は光強度検出器の検出光の波長を制御する検出光コン
トローラ 13は制御処理装置 (パソコン) 14はプリンタ 15は表示パネル 17は薄膜に照射する光 (照射光) 18は薄膜を透過した光 (透過光) 24は薄膜の不要部等を覆う不透明マスク
トローラ 13は制御処理装置 (パソコン) 14はプリンタ 15は表示パネル 17は薄膜に照射する光 (照射光) 18は薄膜を透過した光 (透過光) 24は薄膜の不要部等を覆う不透明マスク
Claims (4)
- 【請求項１】 透明基板(2) に被着した薄膜(3) の厚さ
の均一性を光透過率の変化によって測定する方法であっ
て、光源(4),特定波長の光を透過させるモノクロメータ
(5),該モノクロメータ(5) を介して該光源(4) に対向す
る光強度検出器(6),該基板(2) を該モノクロメータ(5)
と該光強度検出器(6) との対向間に支持するステージ(1
0), 該モノクロメータ(5) を透過して該薄膜(3) に照射
する光(17)の波長を制御する照射光コントローラ(9),該
薄膜(3) に照射する光(17)が該薄膜(3) の全面を走査す
るように該ステージ(10)を２軸方向に移動させるステー
ジコントローラ(11), 該薄膜(3) を透過した透過光から
該光強度検出器(6) が検出する検出光の波長を制御する
検出光コントローラ(12), 該ステージ(10)と該照射光コ
ントローラ(9) と該検出光コントローラ(12)を制御し該
光強度検出器(6)からの出力信号をデータ処理する制御
処理装置(13), 該制御処理装置(13)からの出力信号を可
視データにする出力装置(14,15)とを具えたことを特徴
とする薄膜検査装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の薄膜検査装置を使用する
薄膜厚さの均一性検査において、前記検出光コントロー
ラ(12)による前記検出光の波長を、前記照射光コントロ
ーラ(9) による前記照射光(17)の波長と同一にすること
を特徴とする薄膜検査方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の薄膜検査装置を使用する
薄膜厚さの均一性検査において、前記透明基板(2) に被
着した薄膜(3) の所要個所を表呈せしめる不透明マスク
(24)を該薄膜(3) に重ね、前記ステージ(10)を移動せし
め、該薄膜(3) の所要個所における均一性を検査するこ
とを特徴とする薄膜検査方法。 - 【請求項４】 請求項１記載の薄膜検査装置を使用する
薄膜厚さの均一性検査において、前記ステージ(10)を移
動せしめて前記薄膜(3) の全面をフォローする前記照射
光(17)の走査が、所定方向にシフトするジグザクコース
の繰り返しとすることを特徴とする薄膜検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16475291A JPH0510727A (ja) | 1991-07-05 | 1991-07-05 | 薄膜検査装置とその検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16475291A JPH0510727A (ja) | 1991-07-05 | 1991-07-05 | 薄膜検査装置とその検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0510727A true JPH0510727A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=15799249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16475291A Withdrawn JPH0510727A (ja) | 1991-07-05 | 1991-07-05 | 薄膜検査装置とその検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0510727A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014518403A (ja) * | 2011-06-16 | 2014-07-28 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | 眼用レンズ（ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃｌｅｎｓｅｓ）の検査に最適な波長の決定方法 |
-
1991
- 1991-07-05 JP JP16475291A patent/JPH0510727A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014518403A (ja) * | 2011-06-16 | 2014-07-28 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | 眼用レンズ（ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃｌｅｎｓｅｓ）の検査に最適な波長の決定方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |