JPH05107514A - 光シヤツタアレイ - Google Patents
光シヤツタアレイInfo
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- JPH05107514A JPH05107514A JP3270873A JP27087391A JPH05107514A JP H05107514 A JPH05107514 A JP H05107514A JP 3270873 A JP3270873 A JP 3270873A JP 27087391 A JP27087391 A JP 27087391A JP H05107514 A JPH05107514 A JP H05107514A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/03—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
- G02F1/055—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect the active material being a ceramic
- G02F1/0555—Operation of the cell; Circuit arrangements
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 均一な透過光量分布が得られる光シャッタア
レイを得る。 【構成】 実用上均一として扱うことができる所定の透
過光量範囲を超える光シャッタ部２３に対して、その透
過面２３ａの一部にレーザ光を照射してトリミングを実
行する。トリミングを施された部分６０は光が透過でき
ないので、光シャッタ部２３の透過光量が減少する。従
って、所定の透過光量範囲を超える量が大きくなるにつ
れてトリミング部分を広くすれば各光シャッタ部２３の
透過光量が均一になる。また、所定の透過光量範囲を越
える光シャッタ部に対応する個別電極及び／又は共通電
極の面積を減少させても同様の作用、効果が得られる。
レイを得る。 【構成】 実用上均一として扱うことができる所定の透
過光量範囲を超える光シャッタ部２３に対して、その透
過面２３ａの一部にレーザ光を照射してトリミングを実
行する。トリミングを施された部分６０は光が透過でき
ないので、光シャッタ部２３の透過光量が減少する。従
って、所定の透過光量範囲を超える量が大きくなるにつ
れてトリミング部分を広くすれば各光シャッタ部２３の
透過光量が均一になる。また、所定の透過光量範囲を越
える光シャッタ部に対応する個別電極及び／又は共通電
極の面積を減少させても同様の作用、効果が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリンタやファクシミ
リ等の画像形成装置の画像書き込みヘッド等に使用され
る光シャッタアレイ、特に、電気光学効果を有する材料
で構成された光シャッタ部が複数個配置された光シャッ
タアレイに関する。
リ等の画像形成装置の画像書き込みヘッド等に使用され
る光シャッタアレイ、特に、電気光学効果を有する材料
で構成された光シャッタ部が複数個配置された光シャッ
タアレイに関する。
【０００２】
【従来の技術と課題】従来より、ＰＬＺＴ等の電気光学
効果を有する材料で構成された光シャッタ部を数百個配
列させてなる光シャッタアレイを画像書き込みヘッドに
組み込んで使用することが検討されてきた。光シャッタ
アレイは、シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共
通する共通電極を配置し、かつ、他方の側に各光シャッ
タ部毎の個別電極を配置している。
効果を有する材料で構成された光シャッタ部を数百個配
列させてなる光シャッタアレイを画像書き込みヘッドに
組み込んで使用することが検討されてきた。光シャッタ
アレイは、シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共
通する共通電極を配置し、かつ、他方の側に各光シャッ
タ部毎の個別電極を配置している。
【０００３】ところで、光シャッタアレイの光シャッタ
部は切削加工等の手段によって形成されるが、光シャッ
タ部の光透過面積は加工装置の送り精度に起因したばら
つきを有している。同様に、共通電極及び個別電極は蒸
着やスパッタ等の手段によって形成されるが、電極の厚
みは蒸着（あるいはスパッタ）距離や障害物等に起因し
たばらつきを有している。これらのばらつきが原因とな
って各光シャッタ部の透過光量が不均一となり、光シャ
ッタアレイを画像書き込みヘッドに組み込んで画像形成
をすると、かぶりや線の細りが発生したり、階調を再現
すると縦筋が発生する等の問題があった。
部は切削加工等の手段によって形成されるが、光シャッ
タ部の光透過面積は加工装置の送り精度に起因したばら
つきを有している。同様に、共通電極及び個別電極は蒸
着やスパッタ等の手段によって形成されるが、電極の厚
みは蒸着（あるいはスパッタ）距離や障害物等に起因し
たばらつきを有している。これらのばらつきが原因とな
って各光シャッタ部の透過光量が不均一となり、光シャ
ッタアレイを画像書き込みヘッドに組み込んで画像形成
をすると、かぶりや線の細りが発生したり、階調を再現
すると縦筋が発生する等の問題があった。
【０００４】この対策として特開昭６３−１８９２６８
号公報記載のものが提案されている。しかしながら、こ
の光シャッタアレイによれば前記問題が解決されるもの
の、複雑な電気制御回路を必要とするため、装置が大型
で、高価なものになる。そこで、本発明の課題は、複雑
な電気制御回路を用いなくても均一な透過光量分布が得
られる光シャッタアレイを提供することにある。
号公報記載のものが提案されている。しかしながら、こ
の光シャッタアレイによれば前記問題が解決されるもの
の、複雑な電気制御回路を必要とするため、装置が大型
で、高価なものになる。そこで、本発明の課題は、複雑
な電気制御回路を用いなくても均一な透過光量分布が得
られる光シャッタアレイを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段と作用】以上の課題を解決
するため、本発明に係る光シャッタアレイは、電気光学
効果を有する材料で構成された複数の光シャッタ部を少
なくとも一列に設けた光シャッタアレイであって、前記
光シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共通する共
通電極を配置し、かつ、他方の側に個別電極を配置する
と共に、透過光量が所定範囲を越える光シャッタ部の光
透過面積を減少させたことを特徴とする。
するため、本発明に係る光シャッタアレイは、電気光学
効果を有する材料で構成された複数の光シャッタ部を少
なくとも一列に設けた光シャッタアレイであって、前記
光シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共通する共
通電極を配置し、かつ、他方の側に個別電極を配置する
と共に、透過光量が所定範囲を越える光シャッタ部の光
透過面積を減少させたことを特徴とする。
【０００６】例えば、各光シャッタ部の透過光量を測定
し、最小透過光量の光シャッタ部を基準にして、実用上
均一として扱うことができる所定の透過光量の範囲を設
定する。この範囲を越える光シャッタ部の透過部に対し
てレーザトリミングを施すことにより、光が容易に透過
することができる部分の面積、すなわち、光透過面積が
減少し、光シャッタ部の光透過量が減少する。なぜな
ら、レーザトリミングが施された部分は光化学反応や熱
変成により改質したり、あるいは、除去されて光が透過
しなくなるからである。従って、所定の透過光量範囲を
越える量が大きくなるにつれてトリミングを施す面積を
広くすれば、各光シャッタ部の透過光量が均一になる。
し、最小透過光量の光シャッタ部を基準にして、実用上
均一として扱うことができる所定の透過光量の範囲を設
定する。この範囲を越える光シャッタ部の透過部に対し
てレーザトリミングを施すことにより、光が容易に透過
することができる部分の面積、すなわち、光透過面積が
減少し、光シャッタ部の光透過量が減少する。なぜな
ら、レーザトリミングが施された部分は光化学反応や熱
変成により改質したり、あるいは、除去されて光が透過
しなくなるからである。従って、所定の透過光量範囲を
越える量が大きくなるにつれてトリミングを施す面積を
広くすれば、各光シャッタ部の透過光量が均一になる。
【０００７】さらに、本発明に係る光シャッタアレイ
は、前記光シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共
通する共通電極を配置し、かつ、他方の側に個別電極を
配置すると共に、透過光量が所定範囲を越える光シャッ
タ部に対応する前記個別電極及び／又は共通電極の面積
を減少させたことを特徴とする。例えば、各光シャッタ
部の透過光量の測定結果から、所定の透過光量範囲を越
える光シャッタ部の共通電極及び／又は個別電極をレー
ザトリミングして電極の一部を除去して電極面積を減少
させる。これにより、シャッタ部に印加される電界強度
が減少し、光シャッタ部の偏光作用が弱くなり、光透過
量が減少する。
は、前記光シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共
通する共通電極を配置し、かつ、他方の側に個別電極を
配置すると共に、透過光量が所定範囲を越える光シャッ
タ部に対応する前記個別電極及び／又は共通電極の面積
を減少させたことを特徴とする。例えば、各光シャッタ
部の透過光量の測定結果から、所定の透過光量範囲を越
える光シャッタ部の共通電極及び／又は個別電極をレー
ザトリミングして電極の一部を除去して電極面積を減少
させる。これにより、シャッタ部に印加される電界強度
が減少し、光シャッタ部の偏光作用が弱くなり、光透過
量が減少する。
【０００８】
【実施例】以下、本発明に係る光シャッタアレイの実施
例を添付図面を参照して説明する。各実施例において、
同一部品及び同一部分には同じ符号を付した。 ［第１実施例、図１〜図６参照］図１は光シャッタアレ
イを組み込んだ画像書き込みヘッドを備えた光プリンタ
の概略構成図である。感光体ドラム１が図中矢印ａ方向
に回転可能に支持されており、その周囲には帯電チャー
ジャ２、画像情報に基づいて駆動される画像書き込み装
置ＰＨ、現像装置３、転写チャージャ４ａ、分離チャー
ジャ４ｂ、イレーサランプ５及びクリーニング装置６が
順次配設されている。感光体ドラム１は表面に感光体層
を設けたもので、この感光体層は前記イレーサランプ５
及び帯電チャージャ２を通過することにより均一に帯電
され、画像書き込み装置ＰＨから画像露光を受け、その
表面に静電潜像が形成される。
例を添付図面を参照して説明する。各実施例において、
同一部品及び同一部分には同じ符号を付した。 ［第１実施例、図１〜図６参照］図１は光シャッタアレ
イを組み込んだ画像書き込みヘッドを備えた光プリンタ
の概略構成図である。感光体ドラム１が図中矢印ａ方向
に回転可能に支持されており、その周囲には帯電チャー
ジャ２、画像情報に基づいて駆動される画像書き込み装
置ＰＨ、現像装置３、転写チャージャ４ａ、分離チャー
ジャ４ｂ、イレーサランプ５及びクリーニング装置６が
順次配設されている。感光体ドラム１は表面に感光体層
を設けたもので、この感光体層は前記イレーサランプ５
及び帯電チャージャ２を通過することにより均一に帯電
され、画像書き込み装置ＰＨから画像露光を受け、その
表面に静電潜像が形成される。
【０００９】記録紙Ｐは感光体ドラム１の表面に形成さ
れる像と同期をとって転写チャージャ４ａにてトナー像
の転写を受け、分離チャージャ４ｂによって感光体ドラ
ム１の表面から分離されて定着装置（図示せず）に送り
込まれる。転写後の感光体ドラム１は、イレーサランプ
５及びクリーニング装置６によってその表面に残留する
トナー及び電荷が除去され、次の複写工程に備える。
れる像と同期をとって転写チャージャ４ａにてトナー像
の転写を受け、分離チャージャ４ｂによって感光体ドラ
ム１の表面から分離されて定着装置（図示せず）に送り
込まれる。転写後の感光体ドラム１は、イレーサランプ
５及びクリーニング装置６によってその表面に残留する
トナー及び電荷が除去され、次の複写工程に備える。
【００１０】画像書き込み装置ＰＨは、概略、光源７、
反射鏡８、画像書き込みヘッドＳ及び結像用レンズアレ
イ１２から構成されている。光源７には、ハロゲンラン
プ、蛍光灯あるいはメタルハライドランプ等が使用され
る。光源７から放射された光は、反射鏡８によって前方
に集光され、画像書き込みヘッドＳに導かれる。画像書
き込みヘッドＳは光シャッタアレイ９及び偏光子１０，
１１（ポラライザ１０、アナライザ１１）からなる。
反射鏡８、画像書き込みヘッドＳ及び結像用レンズアレ
イ１２から構成されている。光源７には、ハロゲンラン
プ、蛍光灯あるいはメタルハライドランプ等が使用され
る。光源７から放射された光は、反射鏡８によって前方
に集光され、画像書き込みヘッドＳに導かれる。画像書
き込みヘッドＳは光シャッタアレイ９及び偏光子１０，
１１（ポラライザ１０、アナライザ１１）からなる。
【００１１】光シャッタアレイ９は、図２に示すよう
に、複数個直線状に並べられ、材料としてはＰＬＺＴ等
が用いられる。光シャッタアレイ９には中央部に複数個
の直方体状光シャッタ部２３が２列平行に設けられてい
る。光シャッタ部２３の上面が透過面２３ａになってい
る。この光シャッタ部２３に跨って溝２６に共通電極２
７が設けられている。光シャッタ部２３の外側に設けた
溝２８には、光シャッタ部２３毎に個別電極２９が設け
られている。個別電極２９は外側に廷在しており、この
延在部分は外部回路と接続するために利用される。そし
て、光シャッタ部２３及び個別電極２９を所望のサイズ
に形成すると共に各々を分離するための溝３１及び前記
溝２６，２８がダイヤモンドカッターを用いた切削加工
等によって形成されている。また、共通電極２７及び個
別電極２９はアルミのスパッタ又は蒸着等の手段によっ
て設けられている。
に、複数個直線状に並べられ、材料としてはＰＬＺＴ等
が用いられる。光シャッタアレイ９には中央部に複数個
の直方体状光シャッタ部２３が２列平行に設けられてい
る。光シャッタ部２３の上面が透過面２３ａになってい
る。この光シャッタ部２３に跨って溝２６に共通電極２
７が設けられている。光シャッタ部２３の外側に設けた
溝２８には、光シャッタ部２３毎に個別電極２９が設け
られている。個別電極２９は外側に廷在しており、この
延在部分は外部回路と接続するために利用される。そし
て、光シャッタ部２３及び個別電極２９を所望のサイズ
に形成すると共に各々を分離するための溝３１及び前記
溝２６，２８がダイヤモンドカッターを用いた切削加工
等によって形成されている。また、共通電極２７及び個
別電極２９はアルミのスパッタ又は蒸着等の手段によっ
て設けられている。
【００１２】偏光子１０，１１は相互に直交する偏光方
向を有しており、画像情報に基づいて所定の電圧を印加
された光シャッタ部２３を透過した光のみが偏光子１１
を透過する。透過光はレンズアレイ１２でさらに集光さ
れて感光体ドラム１表面に結像される。レンズアレイ１
２には例えば屈折率分布形レンズアレイが用いられる。
向を有しており、画像情報に基づいて所定の電圧を印加
された光シャッタ部２３を透過した光のみが偏光子１１
を透過する。透過光はレンズアレイ１２でさらに集光さ
れて感光体ドラム１表面に結像される。レンズアレイ１
２には例えば屈折率分布形レンズアレイが用いられる。
【００１３】次に、第１実施例の光シャッタアレイ９の
透過光量分布を均一化する手順について説明する。本実
施例は光シャッタ部２３の透過面２３ａの光透過面積を
減少させることによって、光透過量が均一化した光シャ
ッタアレイ９を得るものである。光シャッタアレイ９は
図３に示す補正装置にセットされる。この補正装置は全
ての光シャッタ部２３を均等に照射する光源（図示せ
ず）、光シャッタ部２３毎の透過光量を測定する光セン
サ４１、補正加工するためのレーザ４３とレーザ光を集
光するレンズ４４、相互に直交する偏光方向を有する偏
光子４６，４７、光センサ４１とレーザ４３とレンズ４
４を移動させる移動装置（図示せず）、補正装置を制御
するＣＰＵ５０及び各光シャッタ部２３に電圧を印加す
る駆動ＩＣ５２で構成されている。
透過光量分布を均一化する手順について説明する。本実
施例は光シャッタ部２３の透過面２３ａの光透過面積を
減少させることによって、光透過量が均一化した光シャ
ッタアレイ９を得るものである。光シャッタアレイ９は
図３に示す補正装置にセットされる。この補正装置は全
ての光シャッタ部２３を均等に照射する光源（図示せ
ず）、光シャッタ部２３毎の透過光量を測定する光セン
サ４１、補正加工するためのレーザ４３とレーザ光を集
光するレンズ４４、相互に直交する偏光方向を有する偏
光子４６，４７、光センサ４１とレーザ４３とレンズ４
４を移動させる移動装置（図示せず）、補正装置を制御
するＣＰＵ５０及び各光シャッタ部２３に電圧を印加す
る駆動ＩＣ５２で構成されている。
【００１４】光シャッタアレイ９のセットが終了する
と、ＣＰＵ５０を起動させる。ＣＰＵ５０は光シャッタ
部２３の透過光量を測定するために、移動信号を移動装
置に送り、光センサ４１とレーザ４３とレンズ４４の移
動を制御する。光センサ４１等の位置が決まると、ＣＰ
Ｕ５０は駆動信号を駆動ＩＣ５２に送る。駆動ＩＣ５２
は所定の電圧を所定の光シャッタ部２３の共通電極２７
と個別電極２９に印加し、共通電極２７と個別電極２９
に挟まれた光シャッタ部２３に電界を生じさせる。所定
の電圧としては、例えば光シャッタ部２３の透過光量が
最大となる半波長電圧等が採用される。所定の電圧を印
加された光シャッタ部２３を透過した光のみが偏光子４
７を透過して光センサ４１の入射面に達し、光センサ４
１にてその光量が測定される。測定データは、ＣＰＵ５
０に送られ記憶される。なお、この測定の方法として、
全ての光シャッタ部２３に駆動電圧を印加した状態にし
て、光シャッタ部２３毎に透過光量を測定する方法であ
ってもよい。このとき、図３に示すように遮光マスク５
５を光センサ４１の前に配設すれば、不要光は光センサ
４１に入射しないので正確に測定できる。
と、ＣＰＵ５０を起動させる。ＣＰＵ５０は光シャッタ
部２３の透過光量を測定するために、移動信号を移動装
置に送り、光センサ４１とレーザ４３とレンズ４４の移
動を制御する。光センサ４１等の位置が決まると、ＣＰ
Ｕ５０は駆動信号を駆動ＩＣ５２に送る。駆動ＩＣ５２
は所定の電圧を所定の光シャッタ部２３の共通電極２７
と個別電極２９に印加し、共通電極２７と個別電極２９
に挟まれた光シャッタ部２３に電界を生じさせる。所定
の電圧としては、例えば光シャッタ部２３の透過光量が
最大となる半波長電圧等が採用される。所定の電圧を印
加された光シャッタ部２３を透過した光のみが偏光子４
７を透過して光センサ４１の入射面に達し、光センサ４
１にてその光量が測定される。測定データは、ＣＰＵ５
０に送られ記憶される。なお、この測定の方法として、
全ての光シャッタ部２３に駆動電圧を印加した状態にし
て、光シャッタ部２３毎に透過光量を測定する方法であ
ってもよい。このとき、図３に示すように遮光マスク５
５を光センサ４１の前に配設すれば、不要光は光センサ
４１に入射しないので正確に測定できる。
【００１５】こうして全ての光シャッタ部２３の測定デ
ータがＣＰＵ５０に記憶されると、ＣＰＵ５０は測定デ
ータの最低透過光量を抽出する。さらに、ＣＰＵ５０は
抽出した最低透過光量と各光シャッタ部２３毎に測定し
た透過光量とを比較し、透過光量を実用上均一として扱
うことができる所定の透過光量範囲を越える場合には、
レーザ４３によって補正加工を行うべく、移動信号を移
動装置に送る。レーザ４３とレンズ４４が、当該光シャ
ッタ部２３を補正するための位置に移動すると、ＣＰＵ
５０は前記最低透過光量との比較から演算した補正値に
基づいてレーザ４３に補正加工信号を送る。レーザ４３
は光シャッタ部２３の透過面２３ａの一部を照射してト
リミングを実行する。具体的には、レーザ４３としてエ
キシマレーザを採用すると、光シャッタ部２３の一部が
光化学反応して光透過量が少なくなる。また、炭酸ガス
レーザを採用すると、光シャッタ部２３の一部が熱変成
して光透過量が少なくなる。すなわち、トリミングが施
された部分は光が透過できない。従って、透過面２３ａ
の光透過面積が減少する。従って、所定の透過光量範囲
を越える光シャッタ部２３に対して、その越えた量に比
例して光透過面積を狭くすれば、各光シャッタ部２３の
透過光量を均一にすることができる。
ータがＣＰＵ５０に記憶されると、ＣＰＵ５０は測定デ
ータの最低透過光量を抽出する。さらに、ＣＰＵ５０は
抽出した最低透過光量と各光シャッタ部２３毎に測定し
た透過光量とを比較し、透過光量を実用上均一として扱
うことができる所定の透過光量範囲を越える場合には、
レーザ４３によって補正加工を行うべく、移動信号を移
動装置に送る。レーザ４３とレンズ４４が、当該光シャ
ッタ部２３を補正するための位置に移動すると、ＣＰＵ
５０は前記最低透過光量との比較から演算した補正値に
基づいてレーザ４３に補正加工信号を送る。レーザ４３
は光シャッタ部２３の透過面２３ａの一部を照射してト
リミングを実行する。具体的には、レーザ４３としてエ
キシマレーザを採用すると、光シャッタ部２３の一部が
光化学反応して光透過量が少なくなる。また、炭酸ガス
レーザを採用すると、光シャッタ部２３の一部が熱変成
して光透過量が少なくなる。すなわち、トリミングが施
された部分は光が透過できない。従って、透過面２３ａ
の光透過面積が減少する。従って、所定の透過光量範囲
を越える光シャッタ部２３に対して、その越えた量に比
例して光透過面積を狭くすれば、各光シャッタ部２３の
透過光量を均一にすることができる。
【００１６】図４〜図６は３種類のトリミングを示す。
図４は直線状にトリミングを実行し、トリミング線６０
の長さあるいは幅にて透過光量を調整する例である。図
５はドット状にトリミングを実行し、トリミングドット
６２の数量にて透過光量を調整する例である。図６は円
形状にトリミングを実行し、トリミング円６４の直径に
て透過光量を調整する例である。
図４は直線状にトリミングを実行し、トリミング線６０
の長さあるいは幅にて透過光量を調整する例である。図
５はドット状にトリミングを実行し、トリミングドット
６２の数量にて透過光量を調整する例である。図６は円
形状にトリミングを実行し、トリミング円６４の直径に
て透過光量を調整する例である。
【００１７】［第２実施例、図７〜図１１参照］第２実
施例の光シャッタアレイは、前記第１実施例で示した図
２と同様の構造をしており、詳細な説明は省略する。第
２実施例の光シャッタアレイはその透過光量分布を均一
化するために、光シャッタ部２３の個別電極２９の面積
を減少させることによって光透過量が均一化した光シャ
ッタアレイを得るものである。また、共通電極２７の面
積を減少させることによっても同様の作用、効果を奏す
る。さらに、共通電極２７及び個別電極２９の面積を減
少させることによっても同様の作用、効果を奏する。
施例の光シャッタアレイは、前記第１実施例で示した図
２と同様の構造をしており、詳細な説明は省略する。第
２実施例の光シャッタアレイはその透過光量分布を均一
化するために、光シャッタ部２３の個別電極２９の面積
を減少させることによって光透過量が均一化した光シャ
ッタアレイを得るものである。また、共通電極２７の面
積を減少させることによっても同様の作用、効果を奏す
る。さらに、共通電極２７及び個別電極２９の面積を減
少させることによっても同様の作用、効果を奏する。
【００１８】第２実施例の光シャッタアレイの透過光量
分布を均一化する手順について説明する。第１実施例と
同様に、図３に示す補正装置に光シャッタアレイをセッ
トした後、各光シャッタ部２３の透過光量を測定する。
ＣＰＵ５０は得られた測定データの最低透過光量を抽出
し、この最低透過光量と各光シャッタ部２３毎に測定し
た透過光量とを比較する。所定の透過光量範囲を越える
場合には、レーザ４３が光シャッタ部２３の個別電極２
９の一部を照射してトリミングを実行する。図７〜図１
１は５種類のトリミングを示す。
分布を均一化する手順について説明する。第１実施例と
同様に、図３に示す補正装置に光シャッタアレイをセッ
トした後、各光シャッタ部２３の透過光量を測定する。
ＣＰＵ５０は得られた測定データの最低透過光量を抽出
し、この最低透過光量と各光シャッタ部２３毎に測定し
た透過光量とを比較する。所定の透過光量範囲を越える
場合には、レーザ４３が光シャッタ部２３の個別電極２
９の一部を照射してトリミングを実行する。図７〜図１
１は５種類のトリミングを示す。
【００１９】図７〜図９は個別電極２９の主電極部２９
ａをトリミングして主電極部２９ａの一部を除去し、そ
の面積を減少させた例を示す。これにより光シャッタ部
２３に印加される電界強度が減少し、光の透過量が少な
くなる。図７は直線状にトリミングを実行し、トリミン
グ線６６の長さあるいは幅にて透過光量を調整する例で
ある。図８はドット状にトリミングを実行し、トリミン
グドット６８の数量にて透過光量を調整する例である。
図９は円形状にトリミングを実行し、トリミング円７０
の直径にて透過光量を調整する例である。
ａをトリミングして主電極部２９ａの一部を除去し、そ
の面積を減少させた例を示す。これにより光シャッタ部
２３に印加される電界強度が減少し、光の透過量が少な
くなる。図７は直線状にトリミングを実行し、トリミン
グ線６６の長さあるいは幅にて透過光量を調整する例で
ある。図８はドット状にトリミングを実行し、トリミン
グドット６８の数量にて透過光量を調整する例である。
図９は円形状にトリミングを実行し、トリミング円７０
の直径にて透過光量を調整する例である。
【００２０】図１０及び図１１は個別電極２９の引出し
部２９ｂをトリミングして引出し部２９ｂの一部を除去
し、その抵抗値をアップさせた例を示す。これにより、
光シャッタ部に印加される電界強度が減少し、光の透過
量が少なくなる。図１０はトリミング線７２の長さや線
間隔にて透過光量を調整する例である。図１１はトリミ
ングパターン７４の突起の長さや間隔にて透過光量を調
整する例である。
部２９ｂをトリミングして引出し部２９ｂの一部を除去
し、その抵抗値をアップさせた例を示す。これにより、
光シャッタ部に印加される電界強度が減少し、光の透過
量が少なくなる。図１０はトリミング線７２の長さや線
間隔にて透過光量を調整する例である。図１１はトリミ
ングパターン７４の突起の長さや間隔にて透過光量を調
整する例である。
【００２１】［第３実施例、図１２〜図１６参照］第３
実施例の光シャッタアレイは、光シャッタ部が千鳥状に
配列された構造のものである。図１２及び図１３に示す
ように、光シャッタアレイ１００は、その中央部に平行
に２列の光シャッタ部１０２を備えている。光シャッタ
部１０２はその並び方向両側の上角部が切削され溝１０
３を形成しており、各透過面（斜線を施した部分）１０
２ａは平行四辺形に形成されている。共通電極１１３は
光シャッタ部１０２に跨って溝１１４に設けられてい
る。光シャッタ部１０２の外側には各光シャッタ部１０
２毎に個別電極１１５が溝１１６に設けられている。個
別電極１１５は外側に延在しており、この延在部分は外
部回路と接続するための引出し部１１５ａとされる。そ
して、この引出し部１１５ａは前記溝１０３によって相
互に分離されている。さらに、光シャッタ部１０２及び
個別電極１１５を所望のサイズに形成すると共に各々を
分離するために、分割溝１１８が切削加工によって形成
されている。
実施例の光シャッタアレイは、光シャッタ部が千鳥状に
配列された構造のものである。図１２及び図１３に示す
ように、光シャッタアレイ１００は、その中央部に平行
に２列の光シャッタ部１０２を備えている。光シャッタ
部１０２はその並び方向両側の上角部が切削され溝１０
３を形成しており、各透過面（斜線を施した部分）１０
２ａは平行四辺形に形成されている。共通電極１１３は
光シャッタ部１０２に跨って溝１１４に設けられてい
る。光シャッタ部１０２の外側には各光シャッタ部１０
２毎に個別電極１１５が溝１１６に設けられている。個
別電極１１５は外側に延在しており、この延在部分は外
部回路と接続するための引出し部１１５ａとされる。そ
して、この引出し部１１５ａは前記溝１０３によって相
互に分離されている。さらに、光シャッタ部１０２及び
個別電極１１５を所望のサイズに形成すると共に各々を
分離するために、分割溝１１８が切削加工によって形成
されている。
【００２２】図１４（ａ）は光シャッタ部１０２の配置
状態を示す。光シャッタアレイ１００の材料としては、
Ｐｂが９モル％、Ｚｒが６５モル％、Ｔｉが３５モル％
の組成のＰＺＴを用い、板厚が０．５ｍｍ、角度θが６
４゜、光シャッタ部１０２の幅Ｇ1が５０μｍ、長さＰ1
が９０μｍとし、光シャッタ部１０２の間隔の幅Ｇ2が
１１９μｍ、長さＰ2が７９μｍに設定している。幾何
学的にＡ列とＢ列の光シャッタ部１０２をＹ方向から見
たとき、Ａ列とＢ列が所定量オーバーラップするように
構成されている。光は透過面１０２ａに対して垂直方向
に伝播しており、光シャッタアレイ１００を間にして両
側に配設される偏光子（図示せず）はそれぞれその偏光
方向が光シャッタ部に生ずる電界方向に４５゜傾いた状
態で相互に直交するように設けられている。
状態を示す。光シャッタアレイ１００の材料としては、
Ｐｂが９モル％、Ｚｒが６５モル％、Ｔｉが３５モル％
の組成のＰＺＴを用い、板厚が０．５ｍｍ、角度θが６
４゜、光シャッタ部１０２の幅Ｇ1が５０μｍ、長さＰ1
が９０μｍとし、光シャッタ部１０２の間隔の幅Ｇ2が
１１９μｍ、長さＰ2が７９μｍに設定している。幾何
学的にＡ列とＢ列の光シャッタ部１０２をＹ方向から見
たとき、Ａ列とＢ列が所定量オーバーラップするように
構成されている。光は透過面１０２ａに対して垂直方向
に伝播しており、光シャッタアレイ１００を間にして両
側に配設される偏光子（図示せず）はそれぞれその偏光
方向が光シャッタ部に生ずる電界方向に４５゜傾いた状
態で相互に直交するように設けられている。
【００２３】図１４（ｂ），（ｃ），（ｄ）は光シャッ
タアレイ１００の透過光量分布を示すグラフで、それぞ
れＡ列の光シャッタ部１０２の透過光量分布、Ｂ列の光
シャッタ部１０２の透過光量分布、Ａ列とＢ列を合わせ
た光シャッタ部１０２の合成透過光量分布を示す。各光
シャッタ部１０２が不均一な透過光量分布を有している
ので（図１４（ｂ），（ｃ））、図１４（ｄ）に示すよ
うに、合成透過光量分布は、光シャッタ部１０２の配列
ピッチの２倍のピッチで、溝１０３，１１８に相当する
箇所で急峻な凸部ｒを有しており、不均一な分布になっ
ている。これは、溝１０３，１１８を形成する際に、残
留応力が光シャッタ部１０２内部に生じたためであると
推察される。
タアレイ１００の透過光量分布を示すグラフで、それぞ
れＡ列の光シャッタ部１０２の透過光量分布、Ｂ列の光
シャッタ部１０２の透過光量分布、Ａ列とＢ列を合わせ
た光シャッタ部１０２の合成透過光量分布を示す。各光
シャッタ部１０２が不均一な透過光量分布を有している
ので（図１４（ｂ），（ｃ））、図１４（ｄ）に示すよ
うに、合成透過光量分布は、光シャッタ部１０２の配列
ピッチの２倍のピッチで、溝１０３，１１８に相当する
箇所で急峻な凸部ｒを有しており、不均一な分布になっ
ている。これは、溝１０３，１１８を形成する際に、残
留応力が光シャッタ部１０２内部に生じたためであると
推察される。
【００２４】次に、この光シャッタアレイ１００の透過
光量分布の不均一性を補正するために、光シャッタ部１
０２の透過面１０２ａの一部をレーザトリミングする手
順について説明する。レーザとして、エキシマレーザを
用い、レーザ光のスポット径を直径１０μｍに絞った
後、図１５（ａ）に示すように、このレーザ光を光シャ
ッタ部１０２の共通電極１１３側が鈍角である斜辺に沿
って幅４μｍのトリミング領域（図中斜線を施した領
域）１３０だけ光シャッタ部１０２の透過面１０２ａを
照射した。このとき、レーザの出力を上げてトリミング
領域１３０を除去してもよいし、出力を下げてトリミン
グ領域１３０を改質してもよい。
光量分布の不均一性を補正するために、光シャッタ部１
０２の透過面１０２ａの一部をレーザトリミングする手
順について説明する。レーザとして、エキシマレーザを
用い、レーザ光のスポット径を直径１０μｍに絞った
後、図１５（ａ）に示すように、このレーザ光を光シャ
ッタ部１０２の共通電極１１３側が鈍角である斜辺に沿
って幅４μｍのトリミング領域（図中斜線を施した領
域）１３０だけ光シャッタ部１０２の透過面１０２ａを
照射した。このとき、レーザの出力を上げてトリミング
領域１３０を除去してもよいし、出力を下げてトリミン
グ領域１３０を改質してもよい。
【００２５】図１５（ｂ），（ｃ），（ｄ）の実線は補
正後の光シャッタアレイ１００の透過光量分布を示すグ
ラフで、それぞれＡ列の光シャッタ部１０２の透過光量
分布、Ｂ列の光シャッタ部１０２の透過光量分布、Ａ列
とＢ列を合わせた光シャッタ部１０２の合成透過光量分
布を示す。なお、点線は補正前の光シャッタ１００の透
過光量分布を示す。各シャッタ部１０２はレーザトリミ
ング後、トリミング領域１３０においては光を透過しな
くなるので、図１５（ｂ），（ｃ）に示すようにその透
過光量分布が補正される。従って、図１５（ｄ）に示す
ように、合成透過光量分布は略均一な分布となる。ここ
で、トリミング領域１３０の面積は、光シャッタ部１０
２の形状（特に、角度θ、幅Ｇ1、長さＰ1）、光シャッ
タ部１０２の密度、光シャッタ部１０２の加工条件及び
光シャッタアレイ１００が組み込まれる装置に対応して
設定することが好ましい。
正後の光シャッタアレイ１００の透過光量分布を示すグ
ラフで、それぞれＡ列の光シャッタ部１０２の透過光量
分布、Ｂ列の光シャッタ部１０２の透過光量分布、Ａ列
とＢ列を合わせた光シャッタ部１０２の合成透過光量分
布を示す。なお、点線は補正前の光シャッタ１００の透
過光量分布を示す。各シャッタ部１０２はレーザトリミ
ング後、トリミング領域１３０においては光を透過しな
くなるので、図１５（ｂ），（ｃ）に示すようにその透
過光量分布が補正される。従って、図１５（ｄ）に示す
ように、合成透過光量分布は略均一な分布となる。ここ
で、トリミング領域１３０の面積は、光シャッタ部１０
２の形状（特に、角度θ、幅Ｇ1、長さＰ1）、光シャッ
タ部１０２の密度、光シャッタ部１０２の加工条件及び
光シャッタアレイ１００が組み込まれる装置に対応して
設定することが好ましい。
【００２６】図１６（ａ）〜（ｄ）は別の透過光量分布
を有する光シャッタ部１０２の場合を示すものである。
レーザトリミング前においては、Ａ列、Ｂ列には、透過
光量が大きい光シャッタ部１０２と透過光量が小さい光
シャッタ部１０２が交互に配置されている（図１６
（ｂ），（ｃ），（ｄ）の点線が示すグラフを参照）。
この場合は、図１６（ａ）に示すように、全ての光シャ
ッタ部１０２に対して共通電極１１３側が鈍角である斜
辺に沿った領域をトリミングすると共に、透過光量が大
きい光シャッタ部１０２に対してはさらに共通電極１１
３側の辺に沿った領域もトリミングされる。
を有する光シャッタ部１０２の場合を示すものである。
レーザトリミング前においては、Ａ列、Ｂ列には、透過
光量が大きい光シャッタ部１０２と透過光量が小さい光
シャッタ部１０２が交互に配置されている（図１６
（ｂ），（ｃ），（ｄ）の点線が示すグラフを参照）。
この場合は、図１６（ａ）に示すように、全ての光シャ
ッタ部１０２に対して共通電極１１３側が鈍角である斜
辺に沿った領域をトリミングすると共に、透過光量が大
きい光シャッタ部１０２に対してはさらに共通電極１１
３側の辺に沿った領域もトリミングされる。
【００２７】ここに、共通電極１１３側の辺に沿った領
域をトリミングしたときは、トリミングの面積及び深さ
が透過光量を左右する。すなわち、光シャッタ部１０２
の内部は共通電極１１３と個別電極１１５の間に電圧が
印加されて電界が生ずるので、共通電極１１３側の辺に
沿った領域を深くトリミングするにつれて電極１１３の
面積が狭くなり、光シャッタ部１０２内部の電界強度が
低下し、結果として透過光量が減少するからである。こ
れは、個別電極１１５側の辺に沿った領域をトリミング
したり、透過面１０２ａの中央領域をトリミングした場
合であっても同様である。
域をトリミングしたときは、トリミングの面積及び深さ
が透過光量を左右する。すなわち、光シャッタ部１０２
の内部は共通電極１１３と個別電極１１５の間に電圧が
印加されて電界が生ずるので、共通電極１１３側の辺に
沿った領域を深くトリミングするにつれて電極１１３の
面積が狭くなり、光シャッタ部１０２内部の電界強度が
低下し、結果として透過光量が減少するからである。こ
れは、個別電極１１５側の辺に沿った領域をトリミング
したり、透過面１０２ａの中央領域をトリミングした場
合であっても同様である。
【００２８】光シャッタ部１０２はトリミング領域１３
０においては光を透過しなくなるので、図１６（ｂ），
（ｃ）の実線が示すグラフのように、その透過光量が補
正される。従って、図１５（ｄ）の実線が示すグラフの
ように、合成透過光量分布は略均一な分布となる。な
お、光シャッタ部１０２内に局所的に透過光量の大きい
領域が存在する場合には、その領域だけをレーザトリミ
ングしてもよい。
０においては光を透過しなくなるので、図１６（ｂ），
（ｃ）の実線が示すグラフのように、その透過光量が補
正される。従って、図１５（ｄ）の実線が示すグラフの
ように、合成透過光量分布は略均一な分布となる。な
お、光シャッタ部１０２内に局所的に透過光量の大きい
領域が存在する場合には、その領域だけをレーザトリミ
ングしてもよい。
【００２９】［他の実施例］なお、本発明に係る光シャ
ッタアレイは前記実施例に限定するものではなく、その
要旨の範囲内で種々に変形することができる。前記実施
例では、光シャッタアレイ単独の状態で補正を実行した
が、光シャッタアレイを画像書き込み装置に組み込んだ
状態で補正を実行してもよい。この場合、光源の配光分
布やレンズのばらつきも含めて補正できる。
ッタアレイは前記実施例に限定するものではなく、その
要旨の範囲内で種々に変形することができる。前記実施
例では、光シャッタアレイ単独の状態で補正を実行した
が、光シャッタアレイを画像書き込み装置に組み込んだ
状態で補正を実行してもよい。この場合、光源の配光分
布やレンズのばらつきも含めて補正できる。
【００３０】また前記第１及び第２実施例では各光シャ
ッタ部の透過光量測定と補正を同一工程で行なったが、
補正を後工程で行なってもよい。この場合、各光シャッ
タ部の透過光量測定データは後工程において利用される
まで保管される。さらに、前記実施例では、光シャッタ
部の透過面や電極をレーザトリミングすることにより、
透過光量の補正を行なったが、切削刃による機械加工等
によるものであってもよい。また、第１，第３実施例の
場合には、レーザトリミングの代わりに、遮光マスクを
光シャッタ部に被せ、これにより所定領域を遮光しても
よい。このとき、光シャッタ部の分割溝等の漏れ光が発
生する領域を遮光すればさらに有効である。
ッタ部の透過光量測定と補正を同一工程で行なったが、
補正を後工程で行なってもよい。この場合、各光シャッ
タ部の透過光量測定データは後工程において利用される
まで保管される。さらに、前記実施例では、光シャッタ
部の透過面や電極をレーザトリミングすることにより、
透過光量の補正を行なったが、切削刃による機械加工等
によるものであってもよい。また、第１，第３実施例の
場合には、レーザトリミングの代わりに、遮光マスクを
光シャッタ部に被せ、これにより所定領域を遮光しても
よい。このとき、光シャッタ部の分割溝等の漏れ光が発
生する領域を遮光すればさらに有効である。
【００３１】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、透過光量が所定範囲を超える光シャッタ部の光
透過面積や個別電極及び／又は共通電極面積を減少させ
たので、各光シャッタ部の透過光量が均一な光シャッタ
アレイが得られる。この結果、複雑な電気制御回路を用
いなくてもフルカラーのプリンタ等に使用可能な光シャ
ッタアレイができる。また、光シャッタアレイをプリン
タやファクシミリ等の画像形成装置に組み込んだ状態で
光シャッタ部毎の透過光量の不均一性を補正すれば、光
シャッタアレイの良品率をアップさせることができる。
よれば、透過光量が所定範囲を超える光シャッタ部の光
透過面積や個別電極及び／又は共通電極面積を減少させ
たので、各光シャッタ部の透過光量が均一な光シャッタ
アレイが得られる。この結果、複雑な電気制御回路を用
いなくてもフルカラーのプリンタ等に使用可能な光シャ
ッタアレイができる。また、光シャッタアレイをプリン
タやファクシミリ等の画像形成装置に組み込んだ状態で
光シャッタ部毎の透過光量の不均一性を補正すれば、光
シャッタアレイの良品率をアップさせることができる。
図１ないし図６は本発明に係る光シャッタアレイの第１
実施例を示すものである。
実施例を示すものである。
【図１】第１実施例の光シャッタアレイを組み込んだ光
プリンタの概略構成図。
プリンタの概略構成図。
【図２】光シャッタアレイの外観を示す斜視図。
【図３】光シャッタアレイの補正装置を示す概略構成
図。
図。
【図４】光シャッタアレイの補正例を示す光シャッタ部
の拡大斜視図。
の拡大斜視図。
【図５】光シャッタアレイの別の補正例を示す光シャッ
タ部の拡大斜視図。
タ部の拡大斜視図。
【図６】光シャッタアレイのさらに別の補正例を示す光
シャッタ部の拡大斜視図。図７ないし図１１は本発明に
係る光シャッタアレイの第２実施例を示すものである。
シャッタ部の拡大斜視図。図７ないし図１１は本発明に
係る光シャッタアレイの第２実施例を示すものである。
【図７】光シャッタアレイの補正例を示す光シャッタ部
の拡大斜視図。
の拡大斜視図。
【図８】光シャッタアレイの別の補正例を示す光シャッ
タ部の拡大斜視図。
タ部の拡大斜視図。
【図９】光シャッタアレイのさらに別の補正例を示す光
シャッタ部の拡大斜視図。
シャッタ部の拡大斜視図。
【図１０】光シャッタアレイのさらに別の補正例を示す
光シャッタ部の拡大斜視図。
光シャッタ部の拡大斜視図。
【図１１】光シャッタアレイのさらに別の補正例を示す
光シャッタ部の拡大斜視図。図１２ないし図１６は本発
明に係る光シャッタアレイの第３実施例を示すものであ
る。
光シャッタ部の拡大斜視図。図１２ないし図１６は本発
明に係る光シャッタアレイの第３実施例を示すものであ
る。
【図１２】光シャッタアレイの外観を示す一部平面図。
【図１３】図１２のＸ−Ｘ’垂直断面図。
【図１４】光シャッタアレイの補正前の状態を示すもの
で、（ａ）は光シャッタ部の配置位置を示す平面図、
（ｂ），（ｃ），（ｄ）は光シャッタ部の透過光量分布
を示すグラフ。
で、（ａ）は光シャッタ部の配置位置を示す平面図、
（ｂ），（ｃ），（ｄ）は光シャッタ部の透過光量分布
を示すグラフ。
【図１５】光シャッタアレイの補正後の状態を示すもの
で、（ａ）は光シャッタ部の配置位置を示す平面図、
（ｂ），（ｃ），（ｄ）は光シャッタ部の透過光量分布
を示すグラフ。
で、（ａ）は光シャッタ部の配置位置を示す平面図、
（ｂ），（ｃ），（ｄ）は光シャッタ部の透過光量分布
を示すグラフ。
【図１６】光シャッタアレイの別の補正例を示すもの
で、（ａ）は光シャッタ部の配置位置を示す平面図、
（ｂ），（ｃ），（ｄ）は光シャッタ部の透過光量分布
を示すグラフ。
で、（ａ）は光シャッタ部の配置位置を示す平面図、
（ｂ），（ｃ），（ｄ）は光シャッタ部の透過光量分布
を示すグラフ。
【符号の説明】 ９…光シャッタアレイ ２３…光シャッタ部 ２３ａ…透過面 ２７…共通電極 ２９…個別電極 ６０…トリミング線 ６２…トリミングドット ６４…トリミング円 ６６…トリミング線 ６８…トリミングドット ７０…トリミング円 ７２…トリミング線 ７４…トリミングパターン １００…光シャッタアレイ １０２…光シャッタ部 １０２ａ…透過面 １１３…共通電極 １１５…個別電極 １３０…トリミング領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北野 博久 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタカメラ株式会社 内 (72)発明者 森下 正純 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタカメラ株式会社 内
Claims (4)
- 【請求項１】 電気光学効果を有する材料で構成された
複数の光シャッタ部を少なくとも一列に設けた光シャッ
タアレイにおいて、 前記光シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共通す
る共通電極を配置し、かつ、他方の側に個別電極を配置
すると共に、透過光量が所定範囲を越える光シャッタ部
の光透過面積を減少させたことを特徴とする光シャッタ
アレイ。 - 【請求項２】 透過光量が所定範囲を越える光シャッタ
部の透過部の一部分を改質して光シャッタ部の光透過面
積を減少させたことを特徴とする請求項１記載の光シャ
ッタアレイ。 - 【請求項３】 透過光量が所定範囲を越える光シャッタ
部の透過部の一部分を欠除して光シャッタ部の光透過面
積を減少させたことを特徴とする請求項１記載の光シャ
ッタアレイ。 - 【請求項４】 電気光学効果を有する材料で構成された
複数の光シャッタ部を少なくとも一列に設けた光シャッ
タアレイにおいて、 前記光シャッタ部の一方の側に各光シャッタ部に共通す
る共通電極を配置し、かつ、他方の側に個別電極を配置
すると共に、透過光量が所定範囲を越える光シャッタ部
に対応する前記個別電極及び／又は共通電極の面積を減
少させたことを特徴とする光シャッタアレイ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3270873A JPH05107514A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 光シヤツタアレイ |
| US07/962,712 US5450230A (en) | 1991-10-18 | 1992-10-19 | Light shutter array with a substantially even distribution transmitted light |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3270873A JPH05107514A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 光シヤツタアレイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05107514A true JPH05107514A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17492158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3270873A Pending JPH05107514A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 光シヤツタアレイ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5450230A (ja) |
| JP (1) | JPH05107514A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200102935A (ko) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0652400B1 (en) * | 1993-11-05 | 2000-09-20 | Vari-Lite, Inc. | Light pattern generator (gobo) and laser ablation method and apparatus for making it |
| US5982529A (en) * | 1997-09-16 | 1999-11-09 | Polaroid Corporation | Apparatus for reducing linear artifacts in an optically-printed image |
| EP0994373A1 (en) * | 1998-09-18 | 2000-04-19 | Ngk Insulators, Ltd. | Display device comprising actuators |
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| DE10158946A1 (de) * | 2001-12-03 | 2003-06-26 | Nexpress Solutions Llc | Verfahren zur Kontrolle und/oder Regelung der Erzeugung eines gedruckten Farbbildes und Bilderzeugungsvorrichtung zu dessen Durchführung |
| EP1537938A3 (en) | 2003-12-02 | 2009-02-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method for manufacturing semiconductor device |
| EP1547719A3 (en) * | 2003-12-26 | 2009-01-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method for manufacturing crystalline semiconductor film |
| EP1553643A3 (en) * | 2003-12-26 | 2009-01-21 | Sel Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation method and method for manufacturing crystalline semiconductor film |
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| US9170421B2 (en) | 2013-02-05 | 2015-10-27 | Pixtronix, Inc. | Display apparatus incorporating multi-level shutters |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3873187A (en) * | 1973-10-29 | 1975-03-25 | Trw Inc | Light modulator array and method of making it |
| JPS55138881A (en) * | 1979-04-15 | 1980-10-30 | Matsushita Electric Works Ltd | Method of fabricating photoelectric element |
| US4801932A (en) * | 1985-06-04 | 1989-01-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Display apparatus |
| DE3734849C2 (de) * | 1986-10-17 | 1999-05-06 | Minolta Camera Kk | Elektrooptische Abblendeinrichtung |
| US4887104A (en) * | 1986-11-19 | 1989-12-12 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Electrooptical light shutter device and printer apparatus using same |
| JPS63189268A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-04 | Konica Corp | 画像記録装置 |
| US4930876A (en) * | 1987-10-30 | 1990-06-05 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid crystal display device |
| GB8913450D0 (en) * | 1989-06-12 | 1989-08-02 | Philips Electronic Associated | Electrical device manufacture,particularly infrared detector arrays |
| US5198794A (en) * | 1990-03-26 | 1993-03-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Trimmed resistor |
| US5233157A (en) * | 1990-09-11 | 1993-08-03 | Hughes Aircraft Company | Laser pattern ablation of fine line circuitry masters |
| US5142406A (en) * | 1990-10-30 | 1992-08-25 | The Regents Of The University Of California | Electrochromic optical switching device |
| US5166492A (en) * | 1991-03-27 | 1992-11-24 | Motorola, Inc. | Laser power correlation system |
-
1991
- 1991-10-18 JP JP3270873A patent/JPH05107514A/ja active Pending
-
1992
- 1992-10-19 US US07/962,712 patent/US5450230A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200102935A (ko) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5450230A (en) | 1995-09-12 |
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