JPH05108014A - Ｅｌ表示パネルのカラー表示用発光膜の成膜方法 - Google Patents
Ｅｌ表示パネルのカラー表示用発光膜の成膜方法Info
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- JPH05108014A JPH05108014A JP3266577A JP26657791A JPH05108014A JP H05108014 A JPH05108014 A JP H05108014A JP 3266577 A JP3266577 A JP 3266577A JP 26657791 A JP26657791 A JP 26657791A JP H05108014 A JPH05108014 A JP H05108014A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】表示面にカラー表示画素がマトリックス配置さ
れるＥＬ表示パネルの製造工程を合理化しかつカラー表
示用発光膜を作り込む際の欠陥画素の発生を減少させ
る。 【構成】同じ表示カラーの画素用の電極膜部分に対応す
る窓パターンをもつマスク板をパネル面にほぼ接して配
設した状態で同じ表示カラーの発光膜部分を窓パターン
の位置に選択的にかつ一斉に成膜し、表示カラーの異な
る発光膜部分を表示カラーごとに位置をずらせて順次に
成膜することにより、発光膜に対するパターンニング工
程を省略し、かつ発光膜のウエットエッチング時の吸湿
により欠陥画素が発生するのを防止する。
れるＥＬ表示パネルの製造工程を合理化しかつカラー表
示用発光膜を作り込む際の欠陥画素の発生を減少させ
る。 【構成】同じ表示カラーの画素用の電極膜部分に対応す
る窓パターンをもつマスク板をパネル面にほぼ接して配
設した状態で同じ表示カラーの発光膜部分を窓パターン
の位置に選択的にかつ一斉に成膜し、表示カラーの異な
る発光膜部分を表示カラーごとに位置をずらせて順次に
成膜することにより、発光膜に対するパターンニング工
程を省略し、かつ発光膜のウエットエッチング時の吸湿
により欠陥画素が発生するのを防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薄膜積層構造のＥＬ（エ
レクトロルミネッセンス）形の表示パネルにカラー表示
用発光膜を組み込むための成膜方法に関する。
レクトロルミネッセンス）形の表示パネルにカラー表示
用発光膜を組み込むための成膜方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＥＬ表示パネルは自己発光性でかついわ
ゆるフラットパネル構造である利点を生かしてパーソナ
ルコンピュータやＯＡ機器用の軽量薄形の表示装置とし
て広く利用されるに至っているが、現在はまだ単色表示
用が実用化されている段階で、表示性能を高めるために
カラー表示化が進められている。ビデオ画像等をカラー
表示するにはＲＧＢの各色の表示画素としてこれらの色
をそれぞれＥＬ発光する材料からなる発光膜を小さなパ
ターンでパネル面内にマトリックス配置する必要があ
り、以下その従来方法の要点を図２を参照して説明す
る。
ゆるフラットパネル構造である利点を生かしてパーソナ
ルコンピュータやＯＡ機器用の軽量薄形の表示装置とし
て広く利用されるに至っているが、現在はまだ単色表示
用が実用化されている段階で、表示性能を高めるために
カラー表示化が進められている。ビデオ画像等をカラー
表示するにはＲＧＢの各色の表示画素としてこれらの色
をそれぞれＥＬ発光する材料からなる発光膜を小さなパ
ターンでパネル面内にマトリックス配置する必要があ
り、以下その従来方法の要点を図２を参照して説明す
る。
【０００３】図２(a) は発光膜を配設する前の状態を示
す。ＥＬ表示パネルの透明なガラスからなる基板１の表
面に ITO等の透明な導電性膜を被着してフォトエッチン
グを施すことにより、透明電極膜２を図の左右方向に細
長いストライプ状パターンで図の前後方向に多数個並べ
て配設し、その全面上にSiO2,Si3N4,Ta2O5,Al2O3等の絶
縁膜３を被着して図示の状態とする。
す。ＥＬ表示パネルの透明なガラスからなる基板１の表
面に ITO等の透明な導電性膜を被着してフォトエッチン
グを施すことにより、透明電極膜２を図の左右方向に細
長いストライプ状パターンで図の前後方向に多数個並べ
て配設し、その全面上にSiO2,Si3N4,Ta2O5,Al2O3等の絶
縁膜３を被着して図示の状態とする。
【０００４】図２(b) と(c) は緑表示用の発光膜4gの配
設工程である。この発光膜4gの材料にはZnＳからなる母
材に発光中心元素としてTbを微量添加したものが用いら
れ、図２(b) ではこれを電子ビーム蒸着法により絶縁膜
３の上に成膜した後にフォトレジスト膜30をスピンコー
トしてフォトプロセスにより各画素に対応する小さなパ
ターンに形成する。図２(c) はフォトレジスト膜30をマ
スクとする発光膜4gのパターンニング工程で、従来から
これには化学エッチング法が採用されており、塩酸や硝
酸の水溶液への浸漬, 水洗, レジストの剥離等の作業を
経て発光膜4gを図示の状態とする。
設工程である。この発光膜4gの材料にはZnＳからなる母
材に発光中心元素としてTbを微量添加したものが用いら
れ、図２(b) ではこれを電子ビーム蒸着法により絶縁膜
３の上に成膜した後にフォトレジスト膜30をスピンコー
トしてフォトプロセスにより各画素に対応する小さなパ
ターンに形成する。図２(c) はフォトレジスト膜30をマ
スクとする発光膜4gのパターンニング工程で、従来から
これには化学エッチング法が採用されており、塩酸や硝
酸の水溶液への浸漬, 水洗, レジストの剥離等の作業を
経て発光膜4gを図示の状態とする。
【０００５】図２(d) と(e) に示す赤表示の発光膜4r用
の材料にはCaＳの母材中にEuを発光中心元素として含む
ものが用いられる。図２(d) でこれを全面に成膜してそ
の上にフォトレジスト膜30を所定パターンに形成した
後、図２(e) で化学エッチングにより発光膜4rを各画素
用にパターンニングする。青表示用の発光膜の材料には
SrＳの母材にCeを添加したものを用い、上述と同様な要
領で図２(f) に示された青表示画素用の発光膜4bを作り
込む。
の材料にはCaＳの母材中にEuを発光中心元素として含む
ものが用いられる。図２(d) でこれを全面に成膜してそ
の上にフォトレジスト膜30を所定パターンに形成した
後、図２(e) で化学エッチングにより発光膜4rを各画素
用にパターンニングする。青表示用の発光膜の材料には
SrＳの母材にCeを添加したものを用い、上述と同様な要
領で図２(f) に示された青表示画素用の発光膜4bを作り
込む。
【０００６】以後は、図２(f) に示すようにこれらの発
光膜4g,4r,4bを覆うよう絶縁膜５を絶縁膜３と同じ要領
で被着し、その上側にアルミを被着してフォトエッチン
グを施すことにより裏面電極膜６を図の前後方向に細長
いストライプ状のパターンで配設して完成状態とする。
このＥＬ表示パネルは電極膜２と６の間に表示電圧を与
えて、両者の各交点の画素用の発光膜4g,4r,4bをそれぞ
れ緑, 赤, 青の３色にＥＬ発光させることによりカラー
表示を行なうことができる。
光膜4g,4r,4bを覆うよう絶縁膜５を絶縁膜３と同じ要領
で被着し、その上側にアルミを被着してフォトエッチン
グを施すことにより裏面電極膜６を図の前後方向に細長
いストライプ状のパターンで配設して完成状態とする。
このＥＬ表示パネルは電極膜２と６の間に表示電圧を与
えて、両者の各交点の画素用の発光膜4g,4r,4bをそれぞ
れ緑, 赤, 青の３色にＥＬ発光させることによりカラー
表示を行なうことができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述のようにカラー表
示用のＥＬ表示パネルでは、単色表示の場合に発光膜が
単一の連続膜でよいのに対し、ＲＧＢ用の３種の発光膜
が必要でかつそれぞれを各画素用の個別パターンにパタ
ーンニングする必要があるので製造工程数が多くなって
非常に手間が掛かるほか、カラー表示用発光膜のパター
ンニング工程中に欠陥画素が発生しやすいために製造歩
留まりが低下する問題があって実用化上の隘路になって
いる。
示用のＥＬ表示パネルでは、単色表示の場合に発光膜が
単一の連続膜でよいのに対し、ＲＧＢ用の３種の発光膜
が必要でかつそれぞれを各画素用の個別パターンにパタ
ーンニングする必要があるので製造工程数が多くなって
非常に手間が掛かるほか、カラー表示用発光膜のパター
ンニング工程中に欠陥画素が発生しやすいために製造歩
留まりが低下する問題があって実用化上の隘路になって
いる。
【０００８】欠陥画素が発生しやすい主な原因は発光膜
の母材，とくに赤表示画素用のCaＳや青表示画素用のSr
Ｓが吸湿性で、しかも従来からそのパターンニングにフ
ォトレジスト膜の現像，化学エッチング，水洗等の水を
使用するウエットプロセスを利用している点にある。例
えば、ある呈色用の発光膜をパターンニングする際や後
工程で他の呈色用の発光膜をパターンニングする際のウ
エットプロセス中に、各画素用の小パターンの発光膜が
吸湿して下地から剥離してしまう等の欠陥画素が発生し
やすいからである。
の母材，とくに赤表示画素用のCaＳや青表示画素用のSr
Ｓが吸湿性で、しかも従来からそのパターンニングにフ
ォトレジスト膜の現像，化学エッチング，水洗等の水を
使用するウエットプロセスを利用している点にある。例
えば、ある呈色用の発光膜をパターンニングする際や後
工程で他の呈色用の発光膜をパターンニングする際のウ
エットプロセス中に、各画素用の小パターンの発光膜が
吸湿して下地から剥離してしまう等の欠陥画素が発生し
やすいからである。
【０００９】本発明の目的は、かかる問題を解決して、
カラー表示用ＥＬ表示パネルの製造工程を合理化しかつ
欠陥画素の発生を減少させるに役立ち得るＥＬ表示パネ
ルのカラー表示用発光膜の成膜方法を提供することにあ
る。
カラー表示用ＥＬ表示パネルの製造工程を合理化しかつ
欠陥画素の発生を減少させるに役立ち得るＥＬ表示パネ
ルのカラー表示用発光膜の成膜方法を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば上述の目
的は、ＥＬ表示パネルの表示面内にマトリックス状に配
置されるＲＧＢのカラー表示画素用の発光膜を作り込む
に際して、同一の表示カラーの画素用の発光膜部分に対
応して開口された窓パターンを備えるマスク板をパネル
面にほぼ接して配設した状態でこの表示カラーの発光膜
部分をその各窓パターンの位置に選択的にかつ表示面内
に一斉に成膜するようにし、表示カラーの異なる発光膜
部分を表示カラーごとに順次に位置をずらせながら成膜
することによって達成される
的は、ＥＬ表示パネルの表示面内にマトリックス状に配
置されるＲＧＢのカラー表示画素用の発光膜を作り込む
に際して、同一の表示カラーの画素用の発光膜部分に対
応して開口された窓パターンを備えるマスク板をパネル
面にほぼ接して配設した状態でこの表示カラーの発光膜
部分をその各窓パターンの位置に選択的にかつ表示面内
に一斉に成膜するようにし、表示カラーの異なる発光膜
部分を表示カラーごとに順次に位置をずらせながら成膜
することによって達成される
【００１１】上述の発光膜部分の成膜には真空蒸着法と
くに電子ビーム加熱の真空蒸着法を利用するのが発光輝
度を上げるため望ましいが、絶縁膜との積層構造体の工
程を統一して製造コストを下げるには表示カラー用の発
光膜部分の成膜にスパッタ法を利用するのが有利であ
る。マスク板は薄い金属の板に各画素用の窓パターンを
フォトエッチング等により多数開口したものでよく、Ｒ
ＧＢの各カラー表示画素のパネル面内の配列が互いに少
しずつずれているだけなので、これらの３色用の発光膜
の成膜に対して共通に用いることができる。
くに電子ビーム加熱の真空蒸着法を利用するのが発光輝
度を上げるため望ましいが、絶縁膜との積層構造体の工
程を統一して製造コストを下げるには表示カラー用の発
光膜部分の成膜にスパッタ法を利用するのが有利であ
る。マスク板は薄い金属の板に各画素用の窓パターンを
フォトエッチング等により多数開口したものでよく、Ｒ
ＧＢの各カラー表示画素のパネル面内の配列が互いに少
しずつずれているだけなので、これらの３色用の発光膜
の成膜に対して共通に用いることができる。
【００１２】また、本発明方法では表示カラーが異なる
発光膜部分を周縁部が互いに重なり合うように成膜する
のが、その上側の絶縁膜の絶縁破壊や劣化を防止し各画
素の発光面積を大きくとる上で有利である。このために
は、マスク板の窓パターンのサイズを例えば透明電極膜
や裏面電極膜の前述のストライプ状のパターンの幅と同
程度とするのがよい。
発光膜部分を周縁部が互いに重なり合うように成膜する
のが、その上側の絶縁膜の絶縁破壊や劣化を防止し各画
素の発光面積を大きくとる上で有利である。このために
は、マスク板の窓パターンのサイズを例えば透明電極膜
や裏面電極膜の前述のストライプ状のパターンの幅と同
程度とするのがよい。
【００１３】
【作用】上記構成にいうよう本発明は、同じ表示カラー
の画素に対応する窓パターンを備えるマスク板を利用し
て、これをパネル面にほぼ接して配設した状態で各表示
カラーの画素に対応する小パターンの発光膜部分を成膜
することにより、成膜後にパターンニングを施す必要を
なくして表示パネルの製造工程を簡略化し、かつ従来の
ように吸湿性の発光膜にウエットプロセスを施す必要を
なくして欠陥画素の発生を減少させるものである。
の画素に対応する窓パターンを備えるマスク板を利用し
て、これをパネル面にほぼ接して配設した状態で各表示
カラーの画素に対応する小パターンの発光膜部分を成膜
することにより、成膜後にパターンニングを施す必要を
なくして表示パネルの製造工程を簡略化し、かつ従来の
ように吸湿性の発光膜にウエットプロセスを施す必要を
なくして欠陥画素の発生を減少させるものである。
【００１４】
【実施例】以下、図１を参照して本発明によるカラー表
示用発光膜の成膜方法の実施例を説明する。同図(a) に
発光膜部分の成膜前の状態を，同図(b) 〜(d) に緑，
赤，青のカラー表示用の発光膜部分の成膜時の状態を，
同図(e) にＥＬ表示パネルの完成時の状態をそれぞれ一
部拡大断面で示す。なお、前の図２に対応する部分に同
じ符号が付されているので重複部分の説明は適宜省略す
ることとする。
示用発光膜の成膜方法の実施例を説明する。同図(a) に
発光膜部分の成膜前の状態を，同図(b) 〜(d) に緑，
赤，青のカラー表示用の発光膜部分の成膜時の状態を，
同図(e) にＥＬ表示パネルの完成時の状態をそれぞれ一
部拡大断面で示す。なお、前の図２に対応する部分に同
じ符号が付されているので重複部分の説明は適宜省略す
ることとする。
【００１５】図１(a) は前の図２(a) と同じ発光膜の成
膜前の状態を示す。透明電極膜２は例えば2000Åの膜厚
の導電性膜から形成され、絶縁膜３用には例えば Si3N4
膜がスパッタ法によって3000Å程度の膜厚で被着され
る。次の図１(b) 〜(d) の成膜工程にはすべてマスク板
10を用いる。このマスク板10には 0.1〜0.5 mmの厚みの
例えばステンレスからなる薄い金属板を用いるのがよ
く、これにカラー表示用の各画素に対応する 0.3〜0.5m
m角の窓パターン11を例えばフォトエッチング法により
図示のように開口させる。この窓パターン11のサイズは
図１(e) に示す裏面電極膜６のストライプ幅とほぼ同程
度にするのがよい。なお、このマスク板10の基板１への
マスク合わせは数十μｍの精度で行なわれる。
膜前の状態を示す。透明電極膜２は例えば2000Åの膜厚
の導電性膜から形成され、絶縁膜３用には例えば Si3N4
膜がスパッタ法によって3000Å程度の膜厚で被着され
る。次の図１(b) 〜(d) の成膜工程にはすべてマスク板
10を用いる。このマスク板10には 0.1〜0.5 mmの厚みの
例えばステンレスからなる薄い金属板を用いるのがよ
く、これにカラー表示用の各画素に対応する 0.3〜0.5m
m角の窓パターン11を例えばフォトエッチング法により
図示のように開口させる。この窓パターン11のサイズは
図１(e) に示す裏面電極膜６のストライプ幅とほぼ同程
度にするのがよい。なお、このマスク板10の基板１への
マスク合わせは数十μｍの精度で行なわれる。
【００１６】図１(b) の緑表示用の発光膜部分4gの成膜
工程では、マスク板10をパネル面にほぼ接するように位
置決めした状態でTbを微量添加したZnＳを母材とする発
光膜部分4gを例えば蒸発源を電子ビーム加熱する真空蒸
着法によって5000〜8000Åの膜厚でマスク板10の窓パタ
ーン11内の絶縁膜３の上に選択的に蒸着ないしは堆積さ
せる。この際、マスク板10が完全にはパネル面に密着せ
ず実際には僅かに浮き上がるので、発光膜部分4gの周縁
に図示のように若干のだれないしは傾斜が発生するが差
し支えは生じない。本発明方法では、この図１(b) の工
程終了後すぐに次の図１(c) の工程に移ることができ
る。
工程では、マスク板10をパネル面にほぼ接するように位
置決めした状態でTbを微量添加したZnＳを母材とする発
光膜部分4gを例えば蒸発源を電子ビーム加熱する真空蒸
着法によって5000〜8000Åの膜厚でマスク板10の窓パタ
ーン11内の絶縁膜３の上に選択的に蒸着ないしは堆積さ
せる。この際、マスク板10が完全にはパネル面に密着せ
ず実際には僅かに浮き上がるので、発光膜部分4gの周縁
に図示のように若干のだれないしは傾斜が発生するが差
し支えは生じない。本発明方法では、この図１(b) の工
程終了後すぐに次の図１(c) の工程に移ることができ
る。
【００１７】図１(c) は赤表示用の発光膜部分4rの成膜
工程であり、それ専用または前工程と共用のマスク板10
を同様にパネル面にほぼ接するように位置決めした状態
で、Euを添加したCaＳを母材とする発光膜部分4rを前と
同様な要領で同程度の膜厚にマスク板10の窓パターン11
の位置に選択的に成膜する。この発光膜部分4rの周縁の
だれ部分は前工程で成膜された発光膜部分4gの周縁部と
図のように若干重なり合う。図１(d) に示す青表示用の
発光膜部分4bの成膜工程も同様であって、Ceを添加した
SrＳを母材とする青表示用の発光膜部分4bを図１(b) の
工程と同要領で同程度の膜厚に図１(c) の工程からさら
にずらせて位置決めされたマスク板10の窓パターン11の
位置に選択的に成膜する。
工程であり、それ専用または前工程と共用のマスク板10
を同様にパネル面にほぼ接するように位置決めした状態
で、Euを添加したCaＳを母材とする発光膜部分4rを前と
同様な要領で同程度の膜厚にマスク板10の窓パターン11
の位置に選択的に成膜する。この発光膜部分4rの周縁の
だれ部分は前工程で成膜された発光膜部分4gの周縁部と
図のように若干重なり合う。図１(d) に示す青表示用の
発光膜部分4bの成膜工程も同様であって、Ceを添加した
SrＳを母材とする青表示用の発光膜部分4bを図１(b) の
工程と同要領で同程度の膜厚に図１(c) の工程からさら
にずらせて位置決めされたマスク板10の窓パターン11の
位置に選択的に成膜する。
【００１８】なお、この図１の実施例では図２の従来例
と同様に便宜上緑, 赤, 青表示用の発光膜部分4g,4r,4b
の順序で成膜するようにしたが、従来はウエットプロセ
スを利用していたために吸湿性の高い発光膜を後工程に
回す必要があったに対して、本発明ではその必要はなく
上述の発光膜部分4g,4r,4bの成膜順序は任意でよい。ま
た、以上では成膜を真空蒸着法によるとしたが、もちろ
ん成膜にスパッタ法やプラズマＣＶＤ法も利用できる。
とくにスパッタ法は絶縁膜３や５が同じ方法で被着され
るのでこれらとの積層構造体を構成する上で工程上の整
合がよい利点がある。またこのスパッタ法による場合
は、成膜時に基板１が搭載される電極板や透明電極膜２
にバイアス用の高周波電界を掛け、マスク板10にはこれ
と逆方向の直流バイアス電圧を掛けた状態で成膜するこ
とによりマスク板10への発光膜材料の堆積量を減少させ
ることができる。
と同様に便宜上緑, 赤, 青表示用の発光膜部分4g,4r,4b
の順序で成膜するようにしたが、従来はウエットプロセ
スを利用していたために吸湿性の高い発光膜を後工程に
回す必要があったに対して、本発明ではその必要はなく
上述の発光膜部分4g,4r,4bの成膜順序は任意でよい。ま
た、以上では成膜を真空蒸着法によるとしたが、もちろ
ん成膜にスパッタ法やプラズマＣＶＤ法も利用できる。
とくにスパッタ法は絶縁膜３や５が同じ方法で被着され
るのでこれらとの積層構造体を構成する上で工程上の整
合がよい利点がある。またこのスパッタ法による場合
は、成膜時に基板１が搭載される電極板や透明電極膜２
にバイアス用の高周波電界を掛け、マスク板10にはこれ
と逆方向の直流バイアス電圧を掛けた状態で成膜するこ
とによりマスク板10への発光膜材料の堆積量を減少させ
ることができる。
【００１９】図１(e) のＥＬ表示パネルの完成状態とす
るには、まず発光膜部分4g,4r,4bの上に絶縁膜３と同じ
材料と要領でかつ同じ膜厚で絶縁膜５を成膜する。この
際、図２(f) と比較すればわかるように本発明方法では
発光膜部分4g,4r,4bの上面が従来よりずっと平坦で段差
がないので絶縁膜５を良好な膜質で成膜でき、しかも発
光膜部分に角がないので絶縁膜５への電界集中がずっと
少なくなり、ＥＬ表示パネルの長期使用中に絶縁破壊や
絶縁劣化が発生するおそれが減少する。次に、アルミの
5000Å程度の膜厚の裏面電極膜６を従来と同様に配設し
て図の完成状態とする。なお、この本発明によるＥＬ表
示パネルでは従来の図２(f) の場合より各画素のＥＬ発
光面積を広くとることができる。
るには、まず発光膜部分4g,4r,4bの上に絶縁膜３と同じ
材料と要領でかつ同じ膜厚で絶縁膜５を成膜する。この
際、図２(f) と比較すればわかるように本発明方法では
発光膜部分4g,4r,4bの上面が従来よりずっと平坦で段差
がないので絶縁膜５を良好な膜質で成膜でき、しかも発
光膜部分に角がないので絶縁膜５への電界集中がずっと
少なくなり、ＥＬ表示パネルの長期使用中に絶縁破壊や
絶縁劣化が発生するおそれが減少する。次に、アルミの
5000Å程度の膜厚の裏面電極膜６を従来と同様に配設し
て図の完成状態とする。なお、この本発明によるＥＬ表
示パネルでは従来の図２(f) の場合より各画素のＥＬ発
光面積を広くとることができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したとおり本発明方法では、同
じ表示カラーの画素用の発光膜部分に対応して開口され
た窓パターンをもつマスク板をパネル面にほぼ接して配
設した状態で同じ表示カラーの発光膜部分を各窓パター
ンの位置に選択的にかつ一斉に成膜し、表示カラーの異
なる発光膜部分を表示カラーごとに位置をずらせて順次
成膜することにより、次の効果を得ることができる。
じ表示カラーの画素用の発光膜部分に対応して開口され
た窓パターンをもつマスク板をパネル面にほぼ接して配
設した状態で同じ表示カラーの発光膜部分を各窓パター
ンの位置に選択的にかつ一斉に成膜し、表示カラーの異
なる発光膜部分を表示カラーごとに位置をずらせて順次
成膜することにより、次の効果を得ることができる。
【００２１】(a) 窓パターンを備えるマスク板を利用し
て発光膜部分を各表示カラーの画素に対応する小パター
ンで成膜するので、従来のように発光膜の成膜後にパタ
ーンニングを施す必要がなくなり、ＥＬ表示パネルの製
造工程数を減少させて量産時の製造コストを大幅に低減
することができる。 (b) 従来のように発光膜部分のパターンニングのためウ
エットプロセスを施す必要がないので、発光膜の吸湿に
起因する欠陥画素の発生を減少させてＥＬ表示パネルの
量産時の歩留まりを向上することができる。 (c) 従来のようにエッチングを施すために発光膜部分を
相互離間させる必要がないので発光膜の表面がほぼ平坦
になり、その上の絶縁膜を段差がほどんどない下地面に
良好な膜質で成膜でき、かつ絶縁膜への電界集中を軽減
して絶縁破壊や絶縁劣化による欠陥画素の発生や表示輝
度の劣化を防止して、ＥＬ表示パネルの長期信頼性を向
上することができる。 (d) 異なる表示カラーの発光膜部分の周縁部を若干重な
り合うよう成膜できるので、各表示カラーの画素用の発
光膜部分の実効面積を増加させてＥＬ発光量を高め、表
示パネルのカラー表示を明るくすることができる。
て発光膜部分を各表示カラーの画素に対応する小パター
ンで成膜するので、従来のように発光膜の成膜後にパタ
ーンニングを施す必要がなくなり、ＥＬ表示パネルの製
造工程数を減少させて量産時の製造コストを大幅に低減
することができる。 (b) 従来のように発光膜部分のパターンニングのためウ
エットプロセスを施す必要がないので、発光膜の吸湿に
起因する欠陥画素の発生を減少させてＥＬ表示パネルの
量産時の歩留まりを向上することができる。 (c) 従来のようにエッチングを施すために発光膜部分を
相互離間させる必要がないので発光膜の表面がほぼ平坦
になり、その上の絶縁膜を段差がほどんどない下地面に
良好な膜質で成膜でき、かつ絶縁膜への電界集中を軽減
して絶縁破壊や絶縁劣化による欠陥画素の発生や表示輝
度の劣化を防止して、ＥＬ表示パネルの長期信頼性を向
上することができる。 (d) 異なる表示カラーの発光膜部分の周縁部を若干重な
り合うよう成膜できるので、各表示カラーの画素用の発
光膜部分の実効面積を増加させてＥＬ発光量を高め、表
示パネルのカラー表示を明るくすることができる。
【００２２】このように本発明方法は、カラー表示用Ｅ
Ｌ表示パネルの製造工程の簡略化と製造歩留まりの向上
によって製造コストを低減し、かつ表示性能と長期信頼
性を高める効果をもち、とくにその量産に適用してこれ
らの効果を有利に発揮でき、カラー用ＥＬ表示パネルの
量産上の従来からの難点を解決して実用化上の隘路を開
拓する貢献を果たし得るものである。
Ｌ表示パネルの製造工程の簡略化と製造歩留まりの向上
によって製造コストを低減し、かつ表示性能と長期信頼
性を高める効果をもち、とくにその量産に適用してこれ
らの効果を有利に発揮でき、カラー用ＥＬ表示パネルの
量産上の従来からの難点を解決して実用化上の隘路を開
拓する貢献を果たし得るものである。
【図１】本発明によるカラー表示用発光膜の成膜方法の
実施例をＥＬ表示パネルの一部拡大断面で示し、同図
(a) は発光膜部分の成膜前の状態を，同図(b) は緑表示
用の発光膜部分の成膜時の状態を，同図(c) は赤表示用
の発光膜部分の成膜時の状態を，同図(d) は青表示用の
発光膜部分の成膜時の状態を，同図(e) はＥＬ表示パネ
ルの完成時の状態をそれぞれ示す断面図
実施例をＥＬ表示パネルの一部拡大断面で示し、同図
(a) は発光膜部分の成膜前の状態を，同図(b) は緑表示
用の発光膜部分の成膜時の状態を，同図(c) は赤表示用
の発光膜部分の成膜時の状態を，同図(d) は青表示用の
発光膜部分の成膜時の状態を，同図(e) はＥＬ表示パネ
ルの完成時の状態をそれぞれ示す断面図
【図２】従来のカラー表示用のＥＬ表示パネルの製造方
法をその一部拡大断面で示し、同図(a) は発光膜の成膜
前の状態を，同図(b) は緑表示用発光膜の成膜時の状態
を，同図(c) はそのパターンニング時の状態を，同図
(d) は赤表示用の発光膜の成膜時の状態を，同図(e) は
そのパターンニング時の状態を，同図(f) は青表示用の
発光膜の成膜およびパターンニング工程を含めＥＬ表示
パネルの完成状態をそれぞれ示す断面図
法をその一部拡大断面で示し、同図(a) は発光膜の成膜
前の状態を，同図(b) は緑表示用発光膜の成膜時の状態
を，同図(c) はそのパターンニング時の状態を，同図
(d) は赤表示用の発光膜の成膜時の状態を，同図(e) は
そのパターンニング時の状態を，同図(f) は青表示用の
発光膜の成膜およびパターンニング工程を含めＥＬ表示
パネルの完成状態をそれぞれ示す断面図
１ ＥＬ表示パネルの基板 ２ 透明電極膜 ３ 絶縁膜 4b 青表示用の発光膜部分 4g 緑表示用の発光膜部分 4r 赤表示用の発光膜部分 ５ 絶縁膜 ６ 裏面電極膜 10 マスク板 11 窓パターン
Claims (3)
- 【請求項１】表示面内にカラー表示画素がマトリックス
配置されるＥＬ表示パネルにカラー表示用の発光膜を成
膜する方法であって、同じ表示カラーの画素用の発光膜
部分に対応して開口された窓パターンを備えるマスク板
をパネル面にほぼ接して配設した状態で同じ表示カラー
の発光膜部分を各窓パターンの位置に選択的にかつ一斉
に成膜し、表示カラーの異なる発光膜部分を表示カラー
ごとに位置をずらせて順次に成膜することを特徴とする
ＥＬ表示パネルのカラー表示用発光膜の成膜方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の成膜方法において、表示
カラーが異なる発光膜部分を周縁部が互いに重なり合う
ように成膜することを特徴とするカラー表示用発光膜の
成膜方法。 - 【請求項３】請求項１に記載の成膜方法において、発光
膜部分をスパッタ法により成膜することを特徴とするカ
ラー表示用発光膜の成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3266577A JPH05108014A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | Ｅｌ表示パネルのカラー表示用発光膜の成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3266577A JPH05108014A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | Ｅｌ表示パネルのカラー表示用発光膜の成膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05108014A true JPH05108014A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17432744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3266577A Pending JPH05108014A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | Ｅｌ表示パネルのカラー表示用発光膜の成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05108014A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1991
- 1991-10-16 JP JP3266577A patent/JPH05108014A/ja active Pending
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