JPH0511018A - Probe card - Google Patents

Probe card

Info

Publication number
JPH0511018A
JPH0511018A JP16051191A JP16051191A JPH0511018A JP H0511018 A JPH0511018 A JP H0511018A JP 16051191 A JP16051191 A JP 16051191A JP 16051191 A JP16051191 A JP 16051191A JP H0511018 A JPH0511018 A JP H0511018A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
probe card
semiconductor chip
temperature
metal ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP16051191A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Fujiwara
和雄 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP16051191A priority Critical patent/JPH0511018A/en
Publication of JPH0511018A publication Critical patent/JPH0511018A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は高温下で半導体チップの試験を行う
試験装置に使用されるプローブカードに関し、温度に応
じてプローブ先端位置を変化させて単一のカードで広い
温度範囲の温度試験を可能とすることを目的とする。 【構成】 プローブ3に湾曲部3aを形成し、薄板2に
絶縁樹脂4aにより固定する。そして、湾曲部3aの内
側に熱膨張率の大きい金属リング5を位置させ、プロー
ブ3に絶縁樹脂4cにより絶縁させながら固定する。
(57) [Summary] [Object] The present invention relates to a probe card used in a test device for testing a semiconductor chip at a high temperature, in which a single card has a wide temperature range by changing the probe tip position according to the temperature. The purpose is to enable the temperature test of. [Structure] A curved portion 3a is formed on a probe 3 and fixed to a thin plate 2 with an insulating resin 4a. Then, the metal ring 5 having a large coefficient of thermal expansion is positioned inside the curved portion 3a and fixed to the probe 3 while being insulated by the insulating resin 4c.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高温下で半導体チップ
の試験を行う試験装置に使用されるプローブカードに関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe card used in a test device for testing a semiconductor chip under high temperature.

【0002】近年、半導体デバイスの高密度化、微小化
により半導体チップ上のパッドが小さくなる傾向にあ
る。この半導体チップのパッケージング前に行う温度試
験では、高温のために該半導体チップが熱膨張し、試験
装置のプローブカードに取付けられているプローブとパ
ッドの位置がずれる。従って、広い温度範囲で使用可能
なプローブカードが望まれている。
In recent years, the pads on a semiconductor chip have tended to become smaller due to the higher density and smaller size of semiconductor devices. In the temperature test performed before packaging of the semiconductor chip, the semiconductor chip thermally expands due to the high temperature, and the positions of the probe and the pad attached to the probe card of the test apparatus are displaced. Therefore, a probe card that can be used in a wide temperature range is desired.

【0003】[0003]

【従来の技術】図4に、従来のプローブカードによる試
験を説明するための図を示す。図4(A)は正面図、図
4(B)は底面図を示したものである。図4(A),
(B)において、プローブカード30は、中央部が四角
形状に穿孔された薄板31に、例えば16本のプローブ
32が4本ずつ組を形成して配設され、絶縁樹脂33に
より固定されたものである。このプローブ32の配設
は、試験される半導体チップ34上のパッド35の配
置、数に対応されている。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a diagram for explaining a test using a conventional probe card. 4A shows a front view and FIG. 4B shows a bottom view. FIG. 4 (A),
In (B), the probe card 30 is one in which, for example, 16 probes 32 are arranged in groups of 4 each on a thin plate 31 having a rectangular hole at the center, and fixed by an insulating resin 33. Is. The arrangement of the probes 32 corresponds to the arrangement and number of pads 35 on the semiconductor chip 34 to be tested.

【0004】また、薄板31のプローブ32の反対面に
はコンタクト部材36、導体37を介してテスタ(図示
せず)に接続される。そして、高温加熱されるステージ
38上に載置された半導体チップ34上のパッド35
に、該プローブ32の先端が接触し、試験される。
Further, a thin plate 31 is connected to a tester (not shown) on the surface opposite to the probe 32 via a contact member 36 and a conductor 37. Then, the pad 35 on the semiconductor chip 34 placed on the stage 38 which is heated to a high temperature
Then, the tip of the probe 32 is contacted and tested.

【0005】上述の半導体チップ34の温度試験を行う
場合、ステージ38を加熱することにより、半導体チッ
プ34を加熱して行う。この場合、半導体チップ34が
熱膨張してパッド35の位置が外側にずれることから、
プローブカード30のプローブ32との位置を合わせる
ために、該パッド35を多少大きく形成して対処してい
る。
When performing the temperature test of the semiconductor chip 34 described above, the semiconductor chip 34 is heated by heating the stage 38. In this case, since the semiconductor chip 34 is thermally expanded and the position of the pad 35 is displaced to the outside,
In order to match the position of the probe card 30 with the probe 32, the pad 35 is formed to be slightly larger.

【0006】ところで、半導体デバイスの高密度化、微
小化よりパッド35の数が増えると共に、形状が小さく
形成される。従って、高温試験を行う場合、温度専用の
該半導体チップ34の熱膨張に応じたプローブ32を配
設したプローブカード30を複数用意することにより対
処していた。
By the way, the number of pads 35 is increased and the shape is reduced due to the higher density and smaller size of semiconductor devices. Therefore, when performing a high temperature test, a plurality of probe cards 30 each having a probe 32 corresponding to the thermal expansion of the semiconductor chip 34 dedicated for temperature are prepared.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のよう
に、温度専用のプローブカード34を用意する場合、試
験温度が変更されると新たなプローブカード30を作製
しなければならず、コスト高になるという問題がある。
However, as described above, when the probe card 34 dedicated to the temperature is prepared, a new probe card 30 has to be prepared when the test temperature is changed, which increases the cost. There is a problem of becoming.

【0008】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、温度に応じてプローブ位置を変化させて単一の
カードで広い温度範囲の温度試験を可能にするプローブ
カードを提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a probe card capable of performing a temperature test in a wide temperature range with a single card by changing the probe position according to the temperature. And

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題は、高温試験さ
れる半導体チップ上のパッドに接触するプローブを所定
数配設されるプローブカードにおいて、前記所定数のプ
ローブの所定部分に湾曲部を形成すると共に、該プロー
ブの湾曲部の湾曲度合を温度に応じて変化させ、該プロ
ーブのパッド接触先端の位置を変化させる熱変位部材を
設け、適宜、前記熱変位部材を黒色とし、または、前記
熱変位部材に吸熱板を設け、若しくはその変位を制御す
る加熱手段を設けることにより解決される。
In a probe card in which a predetermined number of probes that come into contact with pads on a semiconductor chip to be tested at high temperature are arranged, a curved portion is formed at a predetermined portion of the predetermined number of probes. In addition, a thermal displacement member that changes the bending degree of the curved portion of the probe according to the temperature to change the position of the pad contact tip of the probe is provided, and the thermal displacement member is appropriately black, or The problem can be solved by providing a heat absorbing plate on the displacement member or by providing a heating means for controlling the displacement thereof.

【0010】[0010]

【作用】上述のように、所定数のプローブの所定部分を
湾曲させ、その湾曲の度合を熱変位部材により変化さ
せ、プローブのパッド接触先端の位置を変化させる。す
なわち、熱変位部材が温度に応じてプローブの先端位置
を変化させ、熱膨張した半導体チップにより位置ずれし
たパッド上に該プローブ先端を位置させるものである。
As described above, a predetermined portion of a predetermined number of probes is bent, the degree of the bending is changed by the thermal displacement member, and the position of the pad contact tip of the probe is changed. That is, the thermal displacement member changes the tip position of the probe according to the temperature, and the probe tip is positioned on the pad displaced due to the thermally expanded semiconductor chip.

【0011】これにより、加熱温度が変化してもプロー
ブ先端をパッド上に常に位置させることが可能となり、
単一のプローブカードで広い温度範囲の温度試験が可能
となる。
As a result, even if the heating temperature changes, the probe tip can always be positioned on the pad,
A single probe card enables temperature testing over a wide temperature range.

【0012】[0012]

【実施例】図1に、本発明の一実施例の構成図を示す。
図1(A)は正面断面図であり、図1(B)は底面図で
ある。なお、試験装置(テスタ)への接続、ステージ上
の半導体チップ位置は図4と同様であり、図示を省略す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a block diagram of an embodiment of the present invention.
FIG. 1A is a front sectional view, and FIG. 1B is a bottom view. The connection to the test apparatus (tester) and the position of the semiconductor chip on the stage are the same as those in FIG.

【0013】図1(A),(B)において、プローブカ
ード1は、中央部分が四角形状の孔2aが穿設されたも
ので、例えばタングステンの薄板2の表面に所定のパタ
ーンが形成されており(図示せず)、該パターンのそれ
ぞれにプローブ3が接着されて絶縁樹脂4aにより固定
される。プローブ3は、例えばタングステンで絶縁樹脂
4aの内側位置に湾曲部3aが形成され、先端3bが尖
頭状に形成される。この先端3bが図示しない半導体チ
ップ上の電極パッドに接触する(図2(B),図4参
照)。
In FIGS. 1A and 1B, a probe card 1 is provided with a square hole 2a at the center, and a predetermined pattern is formed on the surface of a thin tungsten plate 2, for example. A cage (not shown), the probe 3 is adhered to each of the patterns and is fixed by the insulating resin 4a. The probe 3 has, for example, tungsten, a curved portion 3a formed inside the insulating resin 4a, and a tip 3b formed in a pointed shape. The tip 3b contacts an electrode pad on a semiconductor chip (not shown) (see FIGS. 2B and 4).

【0014】一方、プローブ3の湾曲部3aの内側部分
であって、プローブ3と絶縁樹脂4bにより絶縁される
と共に、絶縁樹脂4cに固定された熱変位部材である金
属リング5が設けられる。この金属リング5は、タング
ステンのプローブ3に比べて熱膨張率が極めて高い材
質、例えばアルミニウム等で形成される。そして、金属
リング5がプローブ3の湾曲部3aを押しつける状態
で、先端3bの位置決めを行っている。
On the other hand, inside the curved portion 3a of the probe 3, there is provided a metal ring 5 which is a thermal displacement member fixed to the insulating resin 4c while being insulated from the probe 3 by the insulating resin 4b. The metal ring 5 is made of a material having a coefficient of thermal expansion extremely higher than that of the tungsten probe 3, such as aluminum. The tip 3b is positioned while the metal ring 5 presses the curved portion 3a of the probe 3.

【0015】次に、図2に、図1のプローブの位置状態
を説明するための図を示す。図2(A)の状態は、金属
リング5に熱が影響していない状態である。いま、図2
(B)に示すように、ステージ6上に載置された半導体
チップ7が、該ステージ6より加熱されると、該半導体
チップ7が外側に熱膨張し、該半導体チップ6上の電極
パッド8が外側に位置ずれを生じる。
Next, FIG. 2 shows a diagram for explaining the position state of the probe of FIG. The state of FIG. 2A is a state in which heat does not affect the metal ring 5. Figure 2 now
As shown in (B), when the semiconductor chip 7 mounted on the stage 6 is heated by the stage 6, the semiconductor chip 7 thermally expands outward, and the electrode pad 8 on the semiconductor chip 6 is expanded. Is displaced to the outside.

【0016】このとき、金属リング5もステージ6から
の輻射熱により外側に熱膨張し、プローブ3の湾曲部3
aを押しつけて湾曲度が小さくなるように縮める。これ
によりプローブ3の先端3bは外側に移動してその位置
を変化させるものである。従って、半導体チップ3の電
極パッド8の位置ずれに沿ってプローブ3の先端3bも
移動することとなり先端3bの電極パッド8への接触を
確実ならしめることができる。このように、単一(1
枚)のプローブカード1で広い温度範囲の測定に使用す
ることができる。
At this time, the metal ring 5 is also thermally expanded outward by the radiant heat from the stage 6, and the curved portion 3 of the probe 3 is expanded.
Press a and shrink it so that the degree of curvature is small. As a result, the tip 3b of the probe 3 moves outward and changes its position. Therefore, the tip 3b of the probe 3 also moves along with the positional displacement of the electrode pad 8 of the semiconductor chip 3, so that the contact of the tip 3b with the electrode pad 8 can be ensured. Thus, a single (1
The number of probe cards 1 can be used for measurement in a wide temperature range.

【0017】なお、金属リング5の熱吸収効率を向上さ
せるために、図示しないが該金属リング5の表面を黒色
に塗装し、又は、該金属リング5に別に吸熱板を設けて
もよい。
In order to improve the heat absorption efficiency of the metal ring 5, although not shown, the surface of the metal ring 5 may be painted black, or the metal ring 5 may be provided with a heat absorbing plate separately.

【0018】次に、図3に、本発明の他の実施例の構成
図を示す。図3のプローブカード1は、図1のプローブ
カード1の金属リング5に、例えばニクロム線9を巻き
付け、該ニクロム線9を加熱制御部10により制御する
ものである。このニクロム線9及び加熱制御部10によ
り加熱手段を構成する。
Next, FIG. 3 shows a block diagram of another embodiment of the present invention. The probe card 1 of FIG. 3 is one in which, for example, a nichrome wire 9 is wound around the metal ring 5 of the probe card 1 of FIG. 1, and the nichrome wire 9 is controlled by the heating controller 10. The nichrome wire 9 and the heating controller 10 constitute a heating means.

【0019】このようなプローブカード1は、加熱制御
部10がニクロム線9を駆動して金属リング5を強制的
に加熱するもので、試験される半導体チップ7の熱膨張
に応じて該金属リング5を所望の温度とする。すなわ
ち、金属リング5の熱膨張を半導体チップ7の熱膨張に
追従させて、より高精度にプローブ3の先端3bの位置
決めをさせることができる。
In such a probe card 1, the heating controller 10 drives the nichrome wire 9 to forcibly heat the metal ring 5, and the metal ring 5 is heated according to the thermal expansion of the semiconductor chip 7 to be tested. Bring 5 to the desired temperature. That is, the thermal expansion of the metal ring 5 can be made to follow the thermal expansion of the semiconductor chip 7, and the tip 3b of the probe 3 can be positioned with higher accuracy.

【0020】この場合、加熱制御部10は、予め設定さ
れたデータでニクロム線9を制御してもよく、また、図
示しないが金属リング5や半導体チップ7に温度センサ
を設け、該温度センサの検出値をもとにニクロム線9を
制御してもよい。
In this case, the heating control section 10 may control the nichrome wire 9 with preset data. Further, although not shown, a temperature sensor is provided on the metal ring 5 or the semiconductor chip 7, and the temperature sensor The nichrome wire 9 may be controlled based on the detected value.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、プローブ
に湾曲部を形成し、この湾曲部の湾曲度合を温度により
変化させる熱変位部材を設けることにより、温度に応じ
てプローブ先端位置を変化させることができることか
ら、単一のカードで半導体チップの広い温度範囲の温度
試験を行うことができ、温度試験の効率化、低コスト化
を図ることができる。
As described above, according to the present invention, the bending portion is formed on the probe, and the thermal displacement member for changing the bending degree of the bending portion according to the temperature is provided. Since the temperature can be changed, the temperature test of the semiconductor chip in a wide temperature range can be performed with a single card, and the efficiency and cost of the temperature test can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】図1のプローブの位置状態を説明するための図
である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a positional state of the probe of FIG.

【図3】本発明の他の実施例の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of another embodiment of the present invention.

【図4】従来のプローブカードによる試験を説明するた
めの図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a test using a conventional probe card.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プローブカード 3 プローブ 3a 湾曲部 3b 先端 4a 絶縁樹脂 5 金属リング 6 ステージ 7 半導体チップ 8 電極パッド 9 ニクロム線 10 加熱制御部 1 probe card 3 probes 3a curved part 3b tip 4a insulating resin 5 metal rings 6 stages 7 semiconductor chips 8 electrode pads 9 Nichrome wire 10 Heating controller

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高温試験される半導体チップ(7)上の
パッド(8)に接触するプローブ(3)を所定数配設さ
れるプローブカードにおいて、 前記所定数のプローブ(3)の所定部分に湾曲部(3
a)を形成すると共に、 該プローブ(3)の湾曲部(3a)の湾曲度合を温度に
応じて変化させ、該プローブ(3)のパッド接触先端
(3b)の位置を変化させる熱変位部材(5)を設ける
ことを特徴とするプローブカード。
1. A probe card in which a predetermined number of probes (3) contacting pads (8) on a semiconductor chip (7) to be subjected to a high temperature test are arranged, in a predetermined portion of the predetermined number of probes (3). Curved part (3
(a) is formed, and the degree of bending of the bending portion (3a) of the probe (3) is changed according to the temperature to change the position of the pad contact tip (3b) of the probe (3) ( 5) A probe card characterized by being provided.
【請求項2】 前記熱変位部材(5)を吸熱のために黒
色とすることを特徴とする請求項1記載のプローブカー
ド。
2. The probe card according to claim 1, wherein the thermal displacement member (5) is black for absorbing heat.
【請求項3】 前記熱変位部材(5)に、吸熱板を設
け、または該熱変位部材(5)の変位を制御する加熱手
段(9,10)を設けることを特徴とする請求項1又は
2記載のプローブカード。
3. The heat displacing member (5) is provided with a heat absorbing plate or heating means (9, 10) for controlling the displacement of the heat displacing member (5). The probe card described in 2.
JP16051191A 1991-07-01 1991-07-01 Probe card Withdrawn JPH0511018A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16051191A JPH0511018A (en) 1991-07-01 1991-07-01 Probe card

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16051191A JPH0511018A (en) 1991-07-01 1991-07-01 Probe card

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0511018A true JPH0511018A (en) 1993-01-19

Family

ID=15716532

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16051191A Withdrawn JPH0511018A (en) 1991-07-01 1991-07-01 Probe card

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0511018A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010197306A (en) * 2009-02-26 2010-09-09 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Probe card, method for manufacturing the probe card, and prober device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010197306A (en) * 2009-02-26 2010-09-09 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Probe card, method for manufacturing the probe card, and prober device
US8305102B2 (en) 2009-02-26 2012-11-06 International Business Machines Corporation Probe card, method for manufacturing probe card, and prober apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3066784B2 (en) Probe card and manufacturing method thereof
US7319337B2 (en) Method and apparatus for pad aligned multiprobe wafer testing
TW263558B (en) Probe card for high temperature application
US4520314A (en) Probe head arrangement for conductor line testing with at least one probe head comprising a plurality of resilient contacts
US6043671A (en) Semiconductor inspection device with guide member for probe needle for probe card and method of controlling the same
US7812627B2 (en) Test device
JP2001210683A (en) Chucking mechanism of prober
JP3096197B2 (en) Probe card
JPH0511018A (en) Probe card
US6580282B1 (en) Machine for testing electronic chips
US5691651A (en) Device for testing integrated circuits
JP2000138268A (en) Inspection method and inspection device of semiconductor circuit
JPH0766252A (en) Probe card
JP2000028641A (en) Probe card
JP2022096153A (en) Electronic device inspection equipment and inspection method
JPH07321168A (en) Probe card
JP7596496B1 (en) Temperature Detection System
JP2976322B2 (en) Probe device
JPH0758167A (en) Probe device
JPH088455Y2 (en) Probe card suitable for heating or cooling test
JP2601408B2 (en) High temperature measurement probe card and motherboard used for it
JPH0653294A (en) Probing device
KR20020046055A (en) Apparatus for testing electrical character of semiconductor device
JP3218389B2 (en) Temperature measurement device for heated surface in heating furnace
JPH0623965Y2 (en) Probe card

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19981008