JPH0511230A - 光変調装置 - Google Patents
光変調装置Info
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- JPH0511230A JPH0511230A JP18924791A JP18924791A JPH0511230A JP H0511230 A JPH0511230 A JP H0511230A JP 18924791 A JP18924791 A JP 18924791A JP 18924791 A JP18924791 A JP 18924791A JP H0511230 A JPH0511230 A JP H0511230A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高分解能で、かつ、コントラスト比の大きな
光変調像が出力できる光変調装置を得る。 【構成】 散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層
部材を含んで構成されている光変調装置に直線偏光々を
入射させ、変調材層部材で散乱モードでの光変調が行な
われた状態の光が出射させ、この光変調材層部材から出
射された光を、前記した光変調装置へ入射された直線偏
光々の偏光面と直交する偏光面を有する直線偏光々を最
も多く通過させうるような通過特性を示す光学部材を介
して出力光として取出すようにする。それにより光変調
材層部材として高分解能が得られるような厚さの薄いも
のを使用して、光変調材層部材における非散乱部からの
光量と散乱部からの光量とに差がない状態で光変調され
た状態の光変調像が、光変調材層部材から出射された場
合であっても、コントラスト比の高い光変調像を形成さ
せるような光が出力できる。
光変調像が出力できる光変調装置を得る。 【構成】 散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層
部材を含んで構成されている光変調装置に直線偏光々を
入射させ、変調材層部材で散乱モードでの光変調が行な
われた状態の光が出射させ、この光変調材層部材から出
射された光を、前記した光変調装置へ入射された直線偏
光々の偏光面と直交する偏光面を有する直線偏光々を最
も多く通過させうるような通過特性を示す光学部材を介
して出力光として取出すようにする。それにより光変調
材層部材として高分解能が得られるような厚さの薄いも
のを使用して、光変調材層部材における非散乱部からの
光量と散乱部からの光量とに差がない状態で光変調され
た状態の光変調像が、光変調材層部材から出射された場
合であっても、コントラスト比の高い光変調像を形成さ
せるような光が出力できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光変調装置に関する。
【0002】
【従来の技術】被写体の光学像を撮像装置により撮像し
て得た映像信号は、編集、トリミング、その他の画像信
号処理が容易であるとともに、既記録信号を消去できる
可逆性を有する記録部材を使用して記録再生が容易に行
えるという特徴を有しているが、映像信号を発生するた
めに従来から一般的に使用されて来ている撮像装置は、
撮像レンズによって撮像素子における光電変換部に結像
された被写体の光学像を、撮像素子の光電変換部で被写
体の光学像に対応する電気的な画像情報に変換し、その
電気的な画像情報を時間軸上で直列的な映像信号として
出力させうるような構成形態のものであって、撮像装置
の構成に当っては前記した撮像素子として従来から各種
の撮像管や各種の固体撮像素子が使用されていることは
周知のとおりである。
て得た映像信号は、編集、トリミング、その他の画像信
号処理が容易であるとともに、既記録信号を消去できる
可逆性を有する記録部材を使用して記録再生が容易に行
えるという特徴を有しているが、映像信号を発生するた
めに従来から一般的に使用されて来ている撮像装置は、
撮像レンズによって撮像素子における光電変換部に結像
された被写体の光学像を、撮像素子の光電変換部で被写
体の光学像に対応する電気的な画像情報に変換し、その
電気的な画像情報を時間軸上で直列的な映像信号として
出力させうるような構成形態のものであって、撮像装置
の構成に当っては前記した撮像素子として従来から各種
の撮像管や各種の固体撮像素子が使用されていることは
周知のとおりである。
【0003】そして、高画質・高解像度の再生画像を得
るようにするためには、高画質・高解像度の再生画像を
再生させうるような映像信号を発生させることのできる
撮像装置が必要とされるが、撮像素子として撮像管が使
用されている撮像装置においては、撮像管における電子
ビーム径の微小化に限界があるために、電子ビーム径の
微小化による高解像度化が望めないこと、及び、撮像管
のターゲット容量はターゲット面積と対応して増大する
ものであるために、ターゲット面積の増大による高解像
度化も実現することができないこと、また、例えば動画
の撮像装置の場合には高解像度化に伴って映像信号の周
波数帯域が数十MHz〜数百MHz以上にもなるために
S/Nの点で問題になる、等の理由によって、撮像装置
により高画質・高解像度の再生画像を再生させうるよう
な映像信号を発生させることは困難である。
るようにするためには、高画質・高解像度の再生画像を
再生させうるような映像信号を発生させることのできる
撮像装置が必要とされるが、撮像素子として撮像管が使
用されている撮像装置においては、撮像管における電子
ビーム径の微小化に限界があるために、電子ビーム径の
微小化による高解像度化が望めないこと、及び、撮像管
のターゲット容量はターゲット面積と対応して増大する
ものであるために、ターゲット面積の増大による高解像
度化も実現することができないこと、また、例えば動画
の撮像装置の場合には高解像度化に伴って映像信号の周
波数帯域が数十MHz〜数百MHz以上にもなるために
S/Nの点で問題になる、等の理由によって、撮像装置
により高画質・高解像度の再生画像を再生させうるよう
な映像信号を発生させることは困難である。
【0004】それで、前記の点の改善策として本出願人
会社では前記のような問題点を解決できるような撮像装
置として、2つの透明電極Et1,Et2間に少なくとも光
導電層部材PCLと光変調材層部材PMLとを備えて構
成されている図4に例示されているような光ー光変換素
子(空間光変調素子)SLMにおける2つの透明電極E
t1,Et2間に駆動用電圧Vbが供給されている状態にお
いて、被写体の光学像を光ー光変換素子SLMの光導電
層部材PCLに結像させ、その光ー光変換素子SLMに
読出し光を入射させることにより光ー光変換素子SLM
から読出された光学情報を光電変換して高解像度の映像
信号を発生させるようにした撮像装置を提案している。
図4に例示してある撮像装置において、被写体Oからの
光が撮像レンズTLによって光ー光変換素子SLMに書
込み光として光ー光変換素子SLMの光導電層部材に結
像される。前記した光ー光変換素子SLMとしては、例
えば透明基板BP1と透明電極Et1と光導電層部材PC
Lと誘電体ミラーDMLと光変調材層部材PMLと透明
電極Et2と透明基板BP2とを積層して構成されてい
る、所謂、反射型の光ー光変換素子であっても、あるい
は図示されていない透過型の光ー光変換素子であっても
よい。
会社では前記のような問題点を解決できるような撮像装
置として、2つの透明電極Et1,Et2間に少なくとも光
導電層部材PCLと光変調材層部材PMLとを備えて構
成されている図4に例示されているような光ー光変換素
子(空間光変調素子)SLMにおける2つの透明電極E
t1,Et2間に駆動用電圧Vbが供給されている状態にお
いて、被写体の光学像を光ー光変換素子SLMの光導電
層部材PCLに結像させ、その光ー光変換素子SLMに
読出し光を入射させることにより光ー光変換素子SLM
から読出された光学情報を光電変換して高解像度の映像
信号を発生させるようにした撮像装置を提案している。
図4に例示してある撮像装置において、被写体Oからの
光が撮像レンズTLによって光ー光変換素子SLMに書
込み光として光ー光変換素子SLMの光導電層部材に結
像される。前記した光ー光変換素子SLMとしては、例
えば透明基板BP1と透明電極Et1と光導電層部材PC
Lと誘電体ミラーDMLと光変調材層部材PMLと透明
電極Et2と透明基板BP2とを積層して構成されてい
る、所謂、反射型の光ー光変換素子であっても、あるい
は図示されていない透過型の光ー光変換素子であっても
よい。
【0005】前記した光ー光変換素子SLMにおいて前
記した透明電極Et1,Et2は透明導電物質の薄膜で構成
されており、また光導電層部材PCLは使用される光の
波長域において光導電性を示す物質を用いて構成され
る。また、誘電体ミラーDMLとしては所定の波長帯の
光を反射させうるように多層膜として構成された周知形
態のものが使用できる。さらに光変調材層部材PMLと
しては、印加されている電界強度に応じて光の状態を変
化させる光変調材が使用されるが、散乱モードで光変調
動作を行なう光変調材、例えば、液晶あるいは高分子ー
液晶複合膜もしくはPLZTなどが使用される。図4に
おいてVbは透明電極Et1,Et2間に所定の電圧を印加
するための電源である。図4中のWLは被写体Oからの
光が撮像レンズTLを介して光ー光変換素子SLMにお
ける基板BP1側から入射して光導電層部材PCLに集
光される書込み光である。前記のように透明電極Et1,
Et2間に電源Vbから所定の電圧が供給されている状態
の光ー光変換素子SLMにおける透明基板BP1側か
ら、書込み光WLが光導電層部材PCLに集光すると、
光導電層部材PCLの電気抵抗値は集光された被写体O
の光学像の光量に応じて変化し、光導電層部材PCLと
誘電体ミラーDMLとの境界には、被写体Oの光学像と
対応している電荷像が良好に形成され、それにより光ー
光変換素子SLMの光変調材層部材PMLには、光導電
層部材PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に形成され
た被写体Oの光学像と対応している電荷像による電界が
印加される。
記した透明電極Et1,Et2は透明導電物質の薄膜で構成
されており、また光導電層部材PCLは使用される光の
波長域において光導電性を示す物質を用いて構成され
る。また、誘電体ミラーDMLとしては所定の波長帯の
光を反射させうるように多層膜として構成された周知形
態のものが使用できる。さらに光変調材層部材PMLと
しては、印加されている電界強度に応じて光の状態を変
化させる光変調材が使用されるが、散乱モードで光変調
動作を行なう光変調材、例えば、液晶あるいは高分子ー
液晶複合膜もしくはPLZTなどが使用される。図4に
おいてVbは透明電極Et1,Et2間に所定の電圧を印加
するための電源である。図4中のWLは被写体Oからの
光が撮像レンズTLを介して光ー光変換素子SLMにお
ける基板BP1側から入射して光導電層部材PCLに集
光される書込み光である。前記のように透明電極Et1,
Et2間に電源Vbから所定の電圧が供給されている状態
の光ー光変換素子SLMにおける透明基板BP1側か
ら、書込み光WLが光導電層部材PCLに集光すると、
光導電層部材PCLの電気抵抗値は集光された被写体O
の光学像の光量に応じて変化し、光導電層部材PCLと
誘電体ミラーDMLとの境界には、被写体Oの光学像と
対応している電荷像が良好に形成され、それにより光ー
光変換素子SLMの光変調材層部材PMLには、光導電
層部材PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に形成され
た被写体Oの光学像と対応している電荷像による電界が
印加される。
【0006】図4中のRLは読出し光であり、この読出
し光RLは図示されていない読出し光の光源から放射さ
れて、光ー光変換素子SLMの読出し側の透明基板BP
2から入射する。前記のように光ー光変換素子SLMの
透明基板BP2側から入射した読出し光RLは透明基板
BP2→透明電極Et2→光変調材層部材PML→誘電体
ミラーDMLの経路により誘電体ミラーDMLに達し
て、そこで反射した読出し光の反射光RLrは、誘電体
ミラーDML→光変調材層部材PML→透明電極Et2→
透明基板BP2→の経路で光ー光変換素子SLMから出
射する。そして、前記のようにして光ー光変換素子SL
Mから出射した読出し光の光束RLrは被写体の光学像
と対応している電荷像による電界が印加されている光変
調材層部材PMLを往復した光束であるから、その読出
し光の光束RLrは散乱モードで光変調動作を行なう光
変調材層部材によって光強度が変調されている状態の光
になっている。
し光RLは図示されていない読出し光の光源から放射さ
れて、光ー光変換素子SLMの読出し側の透明基板BP
2から入射する。前記のように光ー光変換素子SLMの
透明基板BP2側から入射した読出し光RLは透明基板
BP2→透明電極Et2→光変調材層部材PML→誘電体
ミラーDMLの経路により誘電体ミラーDMLに達し
て、そこで反射した読出し光の反射光RLrは、誘電体
ミラーDML→光変調材層部材PML→透明電極Et2→
透明基板BP2→の経路で光ー光変換素子SLMから出
射する。そして、前記のようにして光ー光変換素子SL
Mから出射した読出し光の光束RLrは被写体の光学像
と対応している電荷像による電界が印加されている光変
調材層部材PMLを往復した光束であるから、その読出
し光の光束RLrは散乱モードで光変調動作を行なう光
変調材層部材によって光強度が変調されている状態の光
になっている。
【0007】また、従来の撮像装置で使用されている撮
像素子は、記録の対象にされる光情報を光電変換して発
生させた電気信号が映像信号として送出された後に、被
写体の新らたな光学像と対応する映像信号が発生されう
るような構成のものであり、順次の被写体像と対応して
発生された電気信号を記憶しておく機能は撮像装置自体
には有していなかったから、従来、撮像によって得た電
気的な情報信号を記録しておくことが必要とされる場合
には、撮像装置によって発生された映像信号を例えば磁
気録画装置を用いるなどして記録しておくようにされて
いたが、撮像内容が記録されていることは種々の点で有
益なために、撮像装置自体に記憶機能を有するような装
置の出現が要望されたので、本出願人会社では前記のよ
うな要望を満たすことができるような装置として、例え
ば図5中に例示されているような構成態様の記録媒体を
使用した撮像記録装置に等についても多くの提案を行な
っている。
像素子は、記録の対象にされる光情報を光電変換して発
生させた電気信号が映像信号として送出された後に、被
写体の新らたな光学像と対応する映像信号が発生されう
るような構成のものであり、順次の被写体像と対応して
発生された電気信号を記憶しておく機能は撮像装置自体
には有していなかったから、従来、撮像によって得た電
気的な情報信号を記録しておくことが必要とされる場合
には、撮像装置によって発生された映像信号を例えば磁
気録画装置を用いるなどして記録しておくようにされて
いたが、撮像内容が記録されていることは種々の点で有
益なために、撮像装置自体に記憶機能を有するような装
置の出現が要望されたので、本出願人会社では前記のよ
うな要望を満たすことができるような装置として、例え
ば図5中に例示されているような構成態様の記録媒体を
使用した撮像記録装置に等についても多くの提案を行な
っている。
【0008】図5に示されている撮像記録装置におい
て、Oは被写体、TLは撮像レンズ、Vbは動作用電
源、WHは書込みヘッド、RMは記録媒体である。前記
の書込みヘッドHは、透明基板BPwに透明電極Etw
と光導電層部材PCLとを積層した構成態様のものであ
り、また前記した記録媒体RMは、例えば基板BPr上
に、透明電極Etrと記録材層部材として用いられる光
変調材層部材PMLととが積層されている構成態様のも
のであって、光変調材層部材PMLとしては、印加され
ている電界強度に応じて光の状態を変化させる光変調材
が使用されるが、散乱モードで光変調動作を行なう光変
調材、例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜もしく
はPLZTなどが使用される。撮像記録動作時には図中
の動作用電源Vbの電圧が書込みヘッドWHの透明電極
Etwと記録媒体RMの透明電極Etrとの間に供給さ
れるようになされている。
て、Oは被写体、TLは撮像レンズ、Vbは動作用電
源、WHは書込みヘッド、RMは記録媒体である。前記
の書込みヘッドHは、透明基板BPwに透明電極Etw
と光導電層部材PCLとを積層した構成態様のものであ
り、また前記した記録媒体RMは、例えば基板BPr上
に、透明電極Etrと記録材層部材として用いられる光
変調材層部材PMLととが積層されている構成態様のも
のであって、光変調材層部材PMLとしては、印加され
ている電界強度に応じて光の状態を変化させる光変調材
が使用されるが、散乱モードで光変調動作を行なう光変
調材、例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜もしく
はPLZTなどが使用される。撮像記録動作時には図中
の動作用電源Vbの電圧が書込みヘッドWHの透明電極
Etwと記録媒体RMの透明電極Etrとの間に供給さ
れるようになされている。
【0009】前記した動作用電源Vbの電圧が書込みヘ
ッドWHの透明電極Etwと記録媒体RMにおける透明
電極Etrとの間に供給している状態で被写体Oの光学
像を撮像レンズTLにより書込みヘッドWHの光導電層
部材PCLに結像させると、前記した被写体Oの光学像
が結像された部分の光導電層部材PCLのインピーダン
スが被写体Oの光学像と対応して変化することにより、
書込みヘッドWHの光導電層部材PCLと記録媒体RM
の光変調材層部材PMLとの間に生じた放電によって、
記録媒体RMの光変調材層部材PMLの表面には被写体
Oの光学像と対応する電荷像パターンが形成される。そ
して、前記した電荷像パターンと対応して生じる電界が
記録媒体RMの光変調材層部材PMLに印加されること
により、記録媒体RMの光変調材層部材PMLには、被
写体の光学像と対応している情報が記録される。そし
て、図5に示されている記録媒体RMに読出し光が照射
された場合には、その読出し光は散乱モードで光変調動
作を行なう光変調材層部材PMLによって光強度が変調
されている状態の光となされて記録媒体RMから出射さ
れる。
ッドWHの透明電極Etwと記録媒体RMにおける透明
電極Etrとの間に供給している状態で被写体Oの光学
像を撮像レンズTLにより書込みヘッドWHの光導電層
部材PCLに結像させると、前記した被写体Oの光学像
が結像された部分の光導電層部材PCLのインピーダン
スが被写体Oの光学像と対応して変化することにより、
書込みヘッドWHの光導電層部材PCLと記録媒体RM
の光変調材層部材PMLとの間に生じた放電によって、
記録媒体RMの光変調材層部材PMLの表面には被写体
Oの光学像と対応する電荷像パターンが形成される。そ
して、前記した電荷像パターンと対応して生じる電界が
記録媒体RMの光変調材層部材PMLに印加されること
により、記録媒体RMの光変調材層部材PMLには、被
写体の光学像と対応している情報が記録される。そし
て、図5に示されている記録媒体RMに読出し光が照射
された場合には、その読出し光は散乱モードで光変調動
作を行なう光変調材層部材PMLによって光強度が変調
されている状態の光となされて記録媒体RMから出射さ
れる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】図4を参照して説明し
た撮像装置、及び図5を参照して説明した撮像記録装置
において、図4に示されている光ー光変調装置SLMに
使用されている光変調材層部材PMLと、図5に示され
ている記録媒体RMに使用されている光変調材層部材P
MLとが、既述のように散乱モードで光変調動作を行な
う光変調材、例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜
もしくはPLZTなどが使用された場合には、光変調材
層部材PMLに照射された読出し光が、光変調材層部材
PMLに記録されていた情報に従って異なった散乱状態
を呈しているものとなって、光変調材層部材PMLによ
って光強度が変調されている状態の光を容易に出射させ
ることができる。図6は一例として高分子ー液晶複合膜
よりなる光変調材層部材PMLにおける液晶の分子の整
列状態が、撮像あるいは記録の対象にされている情報に
応じて異なるものとなされていた場合に、光変調材層部
材PMLを通過する読出し光RLは、撮像あるいは記録
された情報に応じて異なる液晶の分子の整列状態の違い
によって異なる散乱状態になされるために、高分子ー液
晶複合膜よりなる光変調材層部材PMLから出射する光
学像は前記した液晶の分子の整列状態、すなわち撮像あ
るいは記録された情報内容と対応して暗い部分と明るい
部分とを生じている状態になることをモデル化して図示
説明したものである。
た撮像装置、及び図5を参照して説明した撮像記録装置
において、図4に示されている光ー光変調装置SLMに
使用されている光変調材層部材PMLと、図5に示され
ている記録媒体RMに使用されている光変調材層部材P
MLとが、既述のように散乱モードで光変調動作を行な
う光変調材、例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜
もしくはPLZTなどが使用された場合には、光変調材
層部材PMLに照射された読出し光が、光変調材層部材
PMLに記録されていた情報に従って異なった散乱状態
を呈しているものとなって、光変調材層部材PMLによ
って光強度が変調されている状態の光を容易に出射させ
ることができる。図6は一例として高分子ー液晶複合膜
よりなる光変調材層部材PMLにおける液晶の分子の整
列状態が、撮像あるいは記録の対象にされている情報に
応じて異なるものとなされていた場合に、光変調材層部
材PMLを通過する読出し光RLは、撮像あるいは記録
された情報に応じて異なる液晶の分子の整列状態の違い
によって異なる散乱状態になされるために、高分子ー液
晶複合膜よりなる光変調材層部材PMLから出射する光
学像は前記した液晶の分子の整列状態、すなわち撮像あ
るいは記録された情報内容と対応して暗い部分と明るい
部分とを生じている状態になることをモデル化して図示
説明したものである。
【0011】ところで、前記のように散乱モードで光変
調動作を行なう光変調材層部材PMLを含んで構成され
ている光変調装置において、それから出力される光変調
像のコントラスト比は、散乱モードで光変調動作を行な
う光変調材層部材PMLで生じた光の散乱の程度によっ
て定まるために、構成要素として散乱モードで光変調動
作を行なう光変調材層部材PMLを用いている光変調装
置からコントラスト比の高い光変調像を得ようとする場
合には、光変調材層部材PMLとして厚さの大きなもの
を使用することが必要とされる。しかし、光変調装置か
らコントラスト比の高い光変調像を得ようとして厚さの
大きな光変調材層部材PMLを用いて変調装置を構成し
た場合には、既述のように記録の対象にされている情報
と対応して発生された電荷像による電界が光変調材層P
ML中で広がってしまうために、光変調材層部材PML
に高解像度の状態で情報を記録することができないこと
になるから、読出される光変調像も低い解像度のものと
なる。
調動作を行なう光変調材層部材PMLを含んで構成され
ている光変調装置において、それから出力される光変調
像のコントラスト比は、散乱モードで光変調動作を行な
う光変調材層部材PMLで生じた光の散乱の程度によっ
て定まるために、構成要素として散乱モードで光変調動
作を行なう光変調材層部材PMLを用いている光変調装
置からコントラスト比の高い光変調像を得ようとする場
合には、光変調材層部材PMLとして厚さの大きなもの
を使用することが必要とされる。しかし、光変調装置か
らコントラスト比の高い光変調像を得ようとして厚さの
大きな光変調材層部材PMLを用いて変調装置を構成し
た場合には、既述のように記録の対象にされている情報
と対応して発生された電荷像による電界が光変調材層P
ML中で広がってしまうために、光変調材層部材PML
に高解像度の状態で情報を記録することができないこと
になるから、読出される光変調像も低い解像度のものと
なる。
【0012】すなわち、構成要素として散乱モードで光
変調動作を行なう光変調材層部材PMLが用いられてい
る光変調装置において、高解像度の光変調像が得られる
ようにするためには、光変調材層部材PMLとして極め
て薄いものを用いなければならないが、既述のように散
乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材PMLを
含んで構成されている光変調装置から出力される光変調
像のコントラスト比は散乱モードで光変調動作を行なう
光変調材層部材PMLにおける光の散乱の程度によって
定まるために、光変調装置から高解像度の光変調像が出
力されるように厚さの薄い光変調材層部材PMLを用い
た場合には、記録の対象にされていた光学像における最
も明るい部分が記録された透明な状態の非散乱部を透過
した出力光の強度に対して、記録の対象にされていた光
学像における最も暗い部分が記録された非散乱部の散乱
量も少ない状態になされているために、この非散乱部を
透過した出力光の強度も大となって、光変調装置から出
力される光変調像はコントラスト比について全く不満足
なものしか得られないことになる。
変調動作を行なう光変調材層部材PMLが用いられてい
る光変調装置において、高解像度の光変調像が得られる
ようにするためには、光変調材層部材PMLとして極め
て薄いものを用いなければならないが、既述のように散
乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材PMLを
含んで構成されている光変調装置から出力される光変調
像のコントラスト比は散乱モードで光変調動作を行なう
光変調材層部材PMLにおける光の散乱の程度によって
定まるために、光変調装置から高解像度の光変調像が出
力されるように厚さの薄い光変調材層部材PMLを用い
た場合には、記録の対象にされていた光学像における最
も明るい部分が記録された透明な状態の非散乱部を透過
した出力光の強度に対して、記録の対象にされていた光
学像における最も暗い部分が記録された非散乱部の散乱
量も少ない状態になされているために、この非散乱部を
透過した出力光の強度も大となって、光変調装置から出
力される光変調像はコントラスト比について全く不満足
なものしか得られないことになる。
【0013】光変調材層部材PMLの厚さを次第に薄く
して行った場合に、非散乱部における透過光の強度は余
り変化しないが、散乱部における光の散乱量は次第に減
少するために、散乱部の透過光の強度が次第に大きくな
って行くので、厚さを次第に薄くして行った場合に光変
調材層部材PMLから出力される光変調像のコントラス
ト比は次第に小さくなるのであり、例えば1ミクロン程
度の分解能を有する光変調像を出力させるために、光変
調材層部材PMLの厚さを数ミクロン〜1ミクロン程度
にした場合には、光変調材層部材PMLにおける散乱部
では殆ど散乱が生じない状態になる。そして、前記のよ
うに散乱部と非散乱部との間のコントラスト比が小さな
光変調像を例えば図7に例示されているような再生装置
により光電変換して電気信号に変換したところで、S/
Nの良好な画像信号は得られない。図7においてRLは
読出し光、BPrは基板、Etrは透明電極、PMLは
散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材、Lr
は結像レンズ、ISはイメージセンサであり、基板BP
r上に積層されている透明電極Etrと光変調材層部材
PMLとにおける光変調材層部材PMLには、撮像ある
いは記録の対象にされている情報と対応して光の散乱部
と光の非散乱部とが構成されている。
して行った場合に、非散乱部における透過光の強度は余
り変化しないが、散乱部における光の散乱量は次第に減
少するために、散乱部の透過光の強度が次第に大きくな
って行くので、厚さを次第に薄くして行った場合に光変
調材層部材PMLから出力される光変調像のコントラス
ト比は次第に小さくなるのであり、例えば1ミクロン程
度の分解能を有する光変調像を出力させるために、光変
調材層部材PMLの厚さを数ミクロン〜1ミクロン程度
にした場合には、光変調材層部材PMLにおける散乱部
では殆ど散乱が生じない状態になる。そして、前記のよ
うに散乱部と非散乱部との間のコントラスト比が小さな
光変調像を例えば図7に例示されているような再生装置
により光電変換して電気信号に変換したところで、S/
Nの良好な画像信号は得られない。図7においてRLは
読出し光、BPrは基板、Etrは透明電極、PMLは
散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材、Lr
は結像レンズ、ISはイメージセンサであり、基板BP
r上に積層されている透明電極Etrと光変調材層部材
PMLとにおける光変調材層部材PMLには、撮像ある
いは記録の対象にされている情報と対応して光の散乱部
と光の非散乱部とが構成されている。
【0014】図8は前記のように散乱部と非散乱部との
間のコントラスト比が小さな光変調像をイメージセンサ
ISによって光電変換して得た出力信号のレベルの状態
を示している図であって、図8中における縦軸の明は記
録の対象にされていた光学像における最も明るい部分が
記録された透明な状態の非散乱部を透過した出力光と対
応して図7中のイメージセンサISから出力された信号
の信号レベルであり、また、図8中における縦軸の暗は
記録の対象にされていた光学像における最も暗い部分が
記録された散乱部を透過した出力光と対応して図7中の
イメージセンサISから出力された信号の信号レベルを
示している。この図8から明らかなように、散乱部と非
散乱部との間のコントラスト比が小さな光変調像をイメ
ージセンサISによって光電変換した場合には、黒レベ
ルが高い信号レベルまで上がってしまうために、イメー
ジセンサISはそれが本来備えている入出力特性におけ
る極く一部しか使用されない状態で使用され、良好なS
/Nの信号は発生できない。
間のコントラスト比が小さな光変調像をイメージセンサ
ISによって光電変換して得た出力信号のレベルの状態
を示している図であって、図8中における縦軸の明は記
録の対象にされていた光学像における最も明るい部分が
記録された透明な状態の非散乱部を透過した出力光と対
応して図7中のイメージセンサISから出力された信号
の信号レベルであり、また、図8中における縦軸の暗は
記録の対象にされていた光学像における最も暗い部分が
記録された散乱部を透過した出力光と対応して図7中の
イメージセンサISから出力された信号の信号レベルを
示している。この図8から明らかなように、散乱部と非
散乱部との間のコントラスト比が小さな光変調像をイメ
ージセンサISによって光電変換した場合には、黒レベ
ルが高い信号レベルまで上がってしまうために、イメー
ジセンサISはそれが本来備えている入出力特性におけ
る極く一部しか使用されない状態で使用され、良好なS
/Nの信号は発生できない。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は散乱モードで光
変調動作を行なう光変調材層部材を含んで構成されてい
る光変調装置に直線偏光々を入射させる手段と、変調材
層部材において散乱モードでの光変調が行なわれた状態
で出射する光を、前記した光変調装置へ入射された直線
偏光々の偏光面と直交する偏光面を有する直線偏光々を
最も多く通過させうるような通過特性を示す光学部材を
介して出力光として取出すようにした光変調装置、及び
記録層として散乱モードで光変調動作を行なう光変調材
層部材を含んで構成されている記録媒体に直線偏光々に
よる読出し光を入射させる手段と、前記した記録媒体に
おける変調材層部材によって散乱モードでの光変調が行
なわれた状態で出射する読出し光を、前記した記録媒体
へ読出し光として入射させた直線偏光々の偏光面と直交
する偏光面を有する直線偏光々を最も多く通過させうる
ような通過特性を示す光学部材を介して出力光として取
出すようにした光変調装置、ならびに散乱モードで光変
調動作を行なう光変調材層部材を含んで構成されている
光ー光変換素子に書込み光を入射させる手段と、前記し
た光ー光変換素子に対して直線偏光々を読出し光として
入射させる手段と、前記した光ー光変換素子における変
調材層部材において散乱モードでの光変調が行なわれた
状態で出射する読出し光を、前記した光ー光変換素子に
読出し光として入射させた直線偏光々の偏光面と直交す
る偏光面を有する直線偏光々を最も多く通過させうるよ
うな通過特性を示す光学部材を介して出力光として取出
すようにした光変調装置を提供する。
変調動作を行なう光変調材層部材を含んで構成されてい
る光変調装置に直線偏光々を入射させる手段と、変調材
層部材において散乱モードでの光変調が行なわれた状態
で出射する光を、前記した光変調装置へ入射された直線
偏光々の偏光面と直交する偏光面を有する直線偏光々を
最も多く通過させうるような通過特性を示す光学部材を
介して出力光として取出すようにした光変調装置、及び
記録層として散乱モードで光変調動作を行なう光変調材
層部材を含んで構成されている記録媒体に直線偏光々に
よる読出し光を入射させる手段と、前記した記録媒体に
おける変調材層部材によって散乱モードでの光変調が行
なわれた状態で出射する読出し光を、前記した記録媒体
へ読出し光として入射させた直線偏光々の偏光面と直交
する偏光面を有する直線偏光々を最も多く通過させうる
ような通過特性を示す光学部材を介して出力光として取
出すようにした光変調装置、ならびに散乱モードで光変
調動作を行なう光変調材層部材を含んで構成されている
光ー光変換素子に書込み光を入射させる手段と、前記し
た光ー光変換素子に対して直線偏光々を読出し光として
入射させる手段と、前記した光ー光変換素子における変
調材層部材において散乱モードでの光変調が行なわれた
状態で出射する読出し光を、前記した光ー光変換素子に
読出し光として入射させた直線偏光々の偏光面と直交す
る偏光面を有する直線偏光々を最も多く通過させうるよ
うな通過特性を示す光学部材を介して出力光として取出
すようにした光変調装置を提供する。
【0016】
【作用】散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部
材を含んで構成されている光変調装置に直線偏光々を入
射させると、変調材層部材からは散乱モードでの光変調
が行なわれた状態の光が出射される。前記した光変調材
層部材から出射された光を、前記した光変調装置へ入射
された直線偏光々の偏光面と直交する偏光面を有する直
線偏光々を最も多く通過させうるような通過特性を示す
光学部材を介して出力光として取出す。それにより光変
調装置からはコントラスト比の大きな光変調像が得られ
る。
材を含んで構成されている光変調装置に直線偏光々を入
射させると、変調材層部材からは散乱モードでの光変調
が行なわれた状態の光が出射される。前記した光変調材
層部材から出射された光を、前記した光変調装置へ入射
された直線偏光々の偏光面と直交する偏光面を有する直
線偏光々を最も多く通過させうるような通過特性を示す
光学部材を介して出力光として取出す。それにより光変
調装置からはコントラスト比の大きな光変調像が得られ
る。
【0017】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の光変調装
置の具体的な内容を詳細に説明する。図1は本発明の光
変調装置の構成原理及び動作原理を説明するための図で
あり、また図2及び図3はそれぞれ本発明の光変調装置
の各異なる実施例を示す側面図である。図1においてP
Lは偏光子であり、またALは前記した偏光子PLを最
も良く通過する直線偏光の偏光面と直交する偏光面を有
する直線偏光を最も良く通過させる検光子であって、図
1中の矢印Xによって示されている方向Xと、矢印Yに
よって示されている方向Yとによって、前記した偏光子
PLと検光子ALとが、所謂、クロスニコルの状態に配
置されていることを示している。また、図1においてB
Pは基板であり、この基板上BP上には透明電極Etと
散乱モードで光変調動作を行なう光変調材、例えば、液
晶あるいは高分子ー液晶複合膜もしくはPLZTなどを
用いて構成された光変調材層部材PMLが積層されてい
る。前記した基板BP上に設けられている透明電極Et
は、図4,図5等を参照して既述したような撮像動作時
または撮像記録動作時に、光導電層部材や光変調材層部
材PMLなどに電界を印加するために用いられる。
置の具体的な内容を詳細に説明する。図1は本発明の光
変調装置の構成原理及び動作原理を説明するための図で
あり、また図2及び図3はそれぞれ本発明の光変調装置
の各異なる実施例を示す側面図である。図1においてP
Lは偏光子であり、またALは前記した偏光子PLを最
も良く通過する直線偏光の偏光面と直交する偏光面を有
する直線偏光を最も良く通過させる検光子であって、図
1中の矢印Xによって示されている方向Xと、矢印Yに
よって示されている方向Yとによって、前記した偏光子
PLと検光子ALとが、所謂、クロスニコルの状態に配
置されていることを示している。また、図1においてB
Pは基板であり、この基板上BP上には透明電極Etと
散乱モードで光変調動作を行なう光変調材、例えば、液
晶あるいは高分子ー液晶複合膜もしくはPLZTなどを
用いて構成された光変調材層部材PMLが積層されてい
る。前記した基板BP上に設けられている透明電極Et
は、図4,図5等を参照して既述したような撮像動作時
または撮像記録動作時に、光導電層部材や光変調材層部
材PMLなどに電界を印加するために用いられる。
【0018】図1において、任意の光源から放射された
入射光が偏光子PLによって特定な偏向面を有する直線
偏光々となされて基板BPを介して、散乱モードで光変
調動作を行なう光変調材を用いて構成された光変調材層
部材PMLに入射される。前記した光変調材層部材PM
Lには、図4,図5等を参照して既述したような撮像動
作または撮像記録動作等により、撮像または記録の対象
にされている情報の内容と対応して、光に対する散乱部
と非散乱部とが形成されているものとすると、前記した
偏光子PLから出射した直線偏光々は、前記した光変調
材層部材PMLにおける非散乱部では散乱しないので、
もとの直線偏光々の状態で光変調材層部材PMLの非散
乱部を透過するが、前記した光変調材層部材PMLの散
乱部では、それに入射した直線偏光々が散乱した状態で
光変調材層部材PMLから出射するから、この場合に光
変調材層部材PMLから出射する光は、楕円偏光々、あ
るいは円偏光々の状態になっている。
入射光が偏光子PLによって特定な偏向面を有する直線
偏光々となされて基板BPを介して、散乱モードで光変
調動作を行なう光変調材を用いて構成された光変調材層
部材PMLに入射される。前記した光変調材層部材PM
Lには、図4,図5等を参照して既述したような撮像動
作または撮像記録動作等により、撮像または記録の対象
にされている情報の内容と対応して、光に対する散乱部
と非散乱部とが形成されているものとすると、前記した
偏光子PLから出射した直線偏光々は、前記した光変調
材層部材PMLにおける非散乱部では散乱しないので、
もとの直線偏光々の状態で光変調材層部材PMLの非散
乱部を透過するが、前記した光変調材層部材PMLの散
乱部では、それに入射した直線偏光々が散乱した状態で
光変調材層部材PMLから出射するから、この場合に光
変調材層部材PMLから出射する光は、楕円偏光々、あ
るいは円偏光々の状態になっている。
【0019】ところで、前記のように光変調材層部材P
MLから出射した光は、検光子ALを介して光変調装置
の出力光として出射されるが、既述のように検光子AL
と前記した偏光子PLとはクロスニコルの状態になされ
ているから、光変調装置から出力される出力光は図1中
に例示されているように、光変調材層部材PMLにおけ
る非散乱部と対応する光出力は0、すなわち、黒レベル
の状態となされ、また光変調材層部材PMLにおける散
乱部と対応する光出力は明るい状態となされている。す
なわち、光変調装置からの前記のような出力光の状態
は、光変調材層部材PMLから出射された光の状態に対
して明暗の状態が反転された状態になされているが、検
光子ALから出射した出力光はコントラスト比の高い光
変調像を形成させるような光となっている。このよう
に、本発明の光変調装置では散乱モードで光変調動作を
行なう光変調材層部材PMLとして、高分解能の光変調
像が得られるように厚さの薄いものを使用して、光変調
材層部材PMLにおける非散乱部からの光量と散乱部か
らの光量とに差がない状態で光変調された状態の光変調
像が、光変調材層部材PMLから出射された場合でも、
検光子ALから出射される出力光としては黒レベルが充
分に黒であるようなコントラスト比の高い光変調像を形
成できるような出射光が得られる。なお、光変調装置か
らの光出力が黒白反転している状態になっていても、そ
れを光電変換して得た電気信号の極性を反転するように
すれば、容易に正常な画像情報が得られるし、また、前
記した光変調材層部材PMLに対して例えばネガの状態
の画像情報と対応して非散乱部と散乱部とを形成させる
ようにしておけば、光変調装置からは正常な画像情報を
得るようにすることができる。
MLから出射した光は、検光子ALを介して光変調装置
の出力光として出射されるが、既述のように検光子AL
と前記した偏光子PLとはクロスニコルの状態になされ
ているから、光変調装置から出力される出力光は図1中
に例示されているように、光変調材層部材PMLにおけ
る非散乱部と対応する光出力は0、すなわち、黒レベル
の状態となされ、また光変調材層部材PMLにおける散
乱部と対応する光出力は明るい状態となされている。す
なわち、光変調装置からの前記のような出力光の状態
は、光変調材層部材PMLから出射された光の状態に対
して明暗の状態が反転された状態になされているが、検
光子ALから出射した出力光はコントラスト比の高い光
変調像を形成させるような光となっている。このよう
に、本発明の光変調装置では散乱モードで光変調動作を
行なう光変調材層部材PMLとして、高分解能の光変調
像が得られるように厚さの薄いものを使用して、光変調
材層部材PMLにおける非散乱部からの光量と散乱部か
らの光量とに差がない状態で光変調された状態の光変調
像が、光変調材層部材PMLから出射された場合でも、
検光子ALから出射される出力光としては黒レベルが充
分に黒であるようなコントラスト比の高い光変調像を形
成できるような出射光が得られる。なお、光変調装置か
らの光出力が黒白反転している状態になっていても、そ
れを光電変換して得た電気信号の極性を反転するように
すれば、容易に正常な画像情報が得られるし、また、前
記した光変調材層部材PMLに対して例えばネガの状態
の画像情報と対応して非散乱部と散乱部とを形成させる
ようにしておけば、光変調装置からは正常な画像情報を
得るようにすることができる。
【0020】図2は光ー光変換素子SLMを使用して構
成している装置、例えば、図4を参照して既述したよう
な撮像装置に本発明の光変調装置を適用した場合の実施
例であり、また、図3は反射電極を備えて構成されてい
る記録媒体を用いて本発明の光変調装置を構成した場合
の実施例を示したものであり、まず、図2においてWL
は書込み光、SLMは透明基板BP1と透明電極Et1と
光導電層部材PCLと誘電体ミラーDMLと光変調材層
部材PMLと透明電極Et2と透明基板BP2とを積層し
て構成されている、所謂、反射型の光ー光変換素子であ
る。
成している装置、例えば、図4を参照して既述したよう
な撮像装置に本発明の光変調装置を適用した場合の実施
例であり、また、図3は反射電極を備えて構成されてい
る記録媒体を用いて本発明の光変調装置を構成した場合
の実施例を示したものであり、まず、図2においてWL
は書込み光、SLMは透明基板BP1と透明電極Et1と
光導電層部材PCLと誘電体ミラーDMLと光変調材層
部材PMLと透明電極Et2と透明基板BP2とを積層し
て構成されている、所謂、反射型の光ー光変換素子であ
る。
【0021】前記した光ー光変換素子SLMにおいて透
明電極Et1,Et2は透明導電物質の薄膜で構成されてお
り、光導電層部材PCLは使用される光の波長域におい
て光導電性を示す物質を用いて構成される。また、誘電
体ミラーDMLとしては所定の波長帯の光を反射させう
るように多層膜として構成された周知形態のものが使用
できる。さらに光変調材層部材PMLとしては、印加さ
れている電界強度に応じて光の状態を変化させる光変調
材の内で、散乱モードで光変調動作を行なう光変調材、
例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜もしくはPL
ZTなどが使用される。透明電極Et1,Et2間に電源V
bから所定の電圧が供給されている状態の光ー光変換素
子SLMにおける透明基板BP1側から、書込み光WL
を光導電層部材PCLに集光させると、光導電層部材P
CLの電気抵抗値が前記の集光された被写体Oの光学像
の光量に応じて変化して、光導電層部材PCLと誘電体
ミラーDMLとの境界には、被写体Oの光学像と対応し
ている電荷像が良好に形成され、それにより光ー光変換
素子SLMの光変調材層部材PMLには、光導電層部材
PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に形成された被写
体Oの光学像と対応している電荷像による電界が印加さ
れ、それにより光変調材層部材PMLは前記した電荷像
による電界と対応して光に与える散乱の程度が変化して
いる状態になされる。
明電極Et1,Et2は透明導電物質の薄膜で構成されてお
り、光導電層部材PCLは使用される光の波長域におい
て光導電性を示す物質を用いて構成される。また、誘電
体ミラーDMLとしては所定の波長帯の光を反射させう
るように多層膜として構成された周知形態のものが使用
できる。さらに光変調材層部材PMLとしては、印加さ
れている電界強度に応じて光の状態を変化させる光変調
材の内で、散乱モードで光変調動作を行なう光変調材、
例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜もしくはPL
ZTなどが使用される。透明電極Et1,Et2間に電源V
bから所定の電圧が供給されている状態の光ー光変換素
子SLMにおける透明基板BP1側から、書込み光WL
を光導電層部材PCLに集光させると、光導電層部材P
CLの電気抵抗値が前記の集光された被写体Oの光学像
の光量に応じて変化して、光導電層部材PCLと誘電体
ミラーDMLとの境界には、被写体Oの光学像と対応し
ている電荷像が良好に形成され、それにより光ー光変換
素子SLMの光変調材層部材PMLには、光導電層部材
PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に形成された被写
体Oの光学像と対応している電荷像による電界が印加さ
れ、それにより光変調材層部材PMLは前記した電荷像
による電界と対応して光に与える散乱の程度が変化して
いる状態になされる。
【0022】図2中のRLは読出し光であり、この読出
し光RLは図示されていない読出し光の光源から放射さ
れて偏光ビームスプリッタPBSに入射されると、偏光
ビームスプリッタPBSからは、S偏光々が読出し光と
して光ー光変換素子SLMの読出し側の透明基板BP2
から入射する。前記のように光ー光変換素子SLMの透
明基板BP2側から入射したS偏光々の読出し光は透明
基板BP2→透明電極Et2→光変調材層部材PML→誘
電体ミラーDMLの経路により誘電体ミラーDMLに達
して、そこで反射した後に誘電体ミラーDML→光変調
材層部材PML→透明電極Et2→透明基板BP2→の経
路で光ー光変換素子SLMから出射する。前記のように
して光ー光変換素子SLMから出射した読出し光は、散
乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材PMLに
おける散乱部と非散乱部の存在と対応して光強度が変調
されている状態の光になっているとともに、光変調材層
部材PMLにおける散乱部と非散乱部とによる光の散乱
の状態の変化と対応して偏光面の状態が変化している光
になっている。
し光RLは図示されていない読出し光の光源から放射さ
れて偏光ビームスプリッタPBSに入射されると、偏光
ビームスプリッタPBSからは、S偏光々が読出し光と
して光ー光変換素子SLMの読出し側の透明基板BP2
から入射する。前記のように光ー光変換素子SLMの透
明基板BP2側から入射したS偏光々の読出し光は透明
基板BP2→透明電極Et2→光変調材層部材PML→誘
電体ミラーDMLの経路により誘電体ミラーDMLに達
して、そこで反射した後に誘電体ミラーDML→光変調
材層部材PML→透明電極Et2→透明基板BP2→の経
路で光ー光変換素子SLMから出射する。前記のように
して光ー光変換素子SLMから出射した読出し光は、散
乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材PMLに
おける散乱部と非散乱部の存在と対応して光強度が変調
されている状態の光になっているとともに、光変調材層
部材PMLにおける散乱部と非散乱部とによる光の散乱
の状態の変化と対応して偏光面の状態が変化している光
になっている。
【0023】それで、光ー光変換素子SLMから出射し
た読出し光が偏光ビームスプリッタPBSに入射する
と、偏光ビームスプリッタPBSに入射した読出し光の
内のP偏光々成分が出力光RLrとして出力される。前
記のようにして偏光ビームスプリッタPBSから出射し
た出力光RLrによる光変調像は、光ー光変換素子SL
Mから出射した読出し光における光変調像に対して明暗
の状態が反転された状態になされているが、偏光ビーム
スプリッタPBSから出射した出力光RLrがコントラ
スト比の高い光変調像を形成させるような光となってい
ることは図1について既述したところから明らかであ
る。
た読出し光が偏光ビームスプリッタPBSに入射する
と、偏光ビームスプリッタPBSに入射した読出し光の
内のP偏光々成分が出力光RLrとして出力される。前
記のようにして偏光ビームスプリッタPBSから出射し
た出力光RLrによる光変調像は、光ー光変換素子SL
Mから出射した読出し光における光変調像に対して明暗
の状態が反転された状態になされているが、偏光ビーム
スプリッタPBSから出射した出力光RLrがコントラ
スト比の高い光変調像を形成させるような光となってい
ることは図1について既述したところから明らかであ
る。
【0024】次に、図3は図5を参照して既述したよう
な撮像記録装置によって情報を記録させてある状態の記
録媒体RMからの記録情報の読出しに本発明の光変調装
置を適用した場合の実施例であり、図3に例示してある
記録媒体RMは基板BPに例えばアルミニウム膜のよう
な光反射膜Erefと散乱モードで光変調動作を行なう
光変調材、例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜も
しくはPLZTなどを使用して構成した光変調材層部材
PMLとを積層した構成のものとして示されているが、
この記録媒体RMの光変調材層部材PMLは既述したよ
うな記録手段の適用によって、読出し光に与える散乱の
程度が記録情報と対応するものとなされるような状態で
の情報記録が行なわれているものとなされている。
な撮像記録装置によって情報を記録させてある状態の記
録媒体RMからの記録情報の読出しに本発明の光変調装
置を適用した場合の実施例であり、図3に例示してある
記録媒体RMは基板BPに例えばアルミニウム膜のよう
な光反射膜Erefと散乱モードで光変調動作を行なう
光変調材、例えば、液晶あるいは高分子ー液晶複合膜も
しくはPLZTなどを使用して構成した光変調材層部材
PMLとを積層した構成のものとして示されているが、
この記録媒体RMの光変調材層部材PMLは既述したよ
うな記録手段の適用によって、読出し光に与える散乱の
程度が記録情報と対応するものとなされるような状態で
の情報記録が行なわれているものとなされている。
【0025】図3中のRLは読出し光であり、この読出
し光RLは図示されていない読出し光の光源から放射さ
れて偏光ビームスプリッタPBSに入射されると、偏光
ビームスプリッタPBSからはS偏光々が読出し光とし
て記録媒体RLの光変調材層部材PMLに入射される。
記録媒体RLの光変調材層部材PMLに入射した読出し
光は光変調材層部材PMLを通過した後に光反射膜Er
efに反射して、再び光変調材層部材PMLを通過して
記録媒体RMから出射する。前記のようにして記録媒体
RMから出射した読出し光は、散乱モードで光変調動作
を行なう光変調材層部材PMLにおける散乱部と非散乱
部の存在と対応して光強度が変調されている状態の光に
なっているとともに、光変調材層部材PMLにおける散
乱部と非散乱部とによる光の散乱の状態の変化と対応し
て偏光面の状態が変化している光になっている。
し光RLは図示されていない読出し光の光源から放射さ
れて偏光ビームスプリッタPBSに入射されると、偏光
ビームスプリッタPBSからはS偏光々が読出し光とし
て記録媒体RLの光変調材層部材PMLに入射される。
記録媒体RLの光変調材層部材PMLに入射した読出し
光は光変調材層部材PMLを通過した後に光反射膜Er
efに反射して、再び光変調材層部材PMLを通過して
記録媒体RMから出射する。前記のようにして記録媒体
RMから出射した読出し光は、散乱モードで光変調動作
を行なう光変調材層部材PMLにおける散乱部と非散乱
部の存在と対応して光強度が変調されている状態の光に
なっているとともに、光変調材層部材PMLにおける散
乱部と非散乱部とによる光の散乱の状態の変化と対応し
て偏光面の状態が変化している光になっている。
【0026】それで、記録媒体RMから出射した読出し
光が偏光ビームスプリッタPBSに入射すると、偏光ビ
ームスプリッタPBSに入射した読出し光の内のP偏光
々成分が出力光RLrとして出力される。前記のように
して偏光ビームスプリッタPBSから出射した出力光R
Lrによる光変調像は、記録媒体RMから出射した読出
し光における光変調像に対して明暗の状態が反転された
状態になされているが、偏光ビームスプリッタPBSか
ら出射した出力光RLrがコントラスト比の高い光変調
像を形成させるような光となっていることは明らかであ
る。
光が偏光ビームスプリッタPBSに入射すると、偏光ビ
ームスプリッタPBSに入射した読出し光の内のP偏光
々成分が出力光RLrとして出力される。前記のように
して偏光ビームスプリッタPBSから出射した出力光R
Lrによる光変調像は、記録媒体RMから出射した読出
し光における光変調像に対して明暗の状態が反転された
状態になされているが、偏光ビームスプリッタPBSか
ら出射した出力光RLrがコントラスト比の高い光変調
像を形成させるような光となっていることは明らかであ
る。
【0027】
【発明の効果】以上、詳細に説明したところから明らか
なように本発明の光変調装置は、散乱モードで光変調動
作を行なう光変調材層部材を含んで構成されている光変
調装置に直線偏光々を入射させて、変調材層部材で散乱
モードでの光変調が行なわれた状態の光が出射させ、こ
の光変調材層部材から出射された光を、前記した光変調
装置へ入射された直線偏光々の偏光面と直交する偏光面
を有する直線偏光々を最も多く通過させうるような通過
特性を示す光学部材を介して出力光として取出すように
したものであるから、本発明の光変調装置では光変調材
層部材として高分解能が得られるような厚さの薄いもの
を使用して、光変調材層部材における非散乱部からの光
量と散乱部からの光量とに差がない状態で光変調された
状態の光変調像が、光変調材層部材から出射された場合
であっても、前記した光変調装置へ入射された直線偏光
々の偏光面と直交する偏光面を有する直線偏光々を最も
多く通過させうるような通過特性を示す光学部材検光子
から出射した出力光は黒レベルが充分に黒であるような
コントラスト比の高い光変調像を形成させるような光と
なっているから、本発明の光変調装置では散乱モードで
光変調動作を行なう光変調材層部材を用いて構成した既
述の従来の光変調装置における問題点、すなわち、解像
度の高い光変調像を得るために光変調材層部材として厚
さの薄いものを用いた場合にはコントラスト比の大きな
光変調像が得られず、そのために解像度とコントラスト
比との双方がほどほどに満足できるような光変調像が得
られるような厚さの光変調材層部材を用いて光変調装置
を構成しなければならなかっために、高い解像度でコン
トラスト比の大きな光変調像が得られるような光変調装
置が構成できなかった点を解消できる他に、散乱モード
で光変調動作を行なう光変調材層部材であっても厚さの
薄いものが使用できるために、散乱モードで光変調動作
を行なう光変調材層部材で生じることがある分散むらに
よる粒状ノイズの発生を低減できるのであり、また、従
来、散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材と
して例えば高分子ー液晶複合膜を使用する場合には、で
きるだけコントラスト比の高い光変調像を出力させるこ
とができるようにするために、高分子膜の構成材料と液
晶とを、それらの両者における屈折率がなるべく大きく
異なるものとなるように前記の両者を選択使用していた
が、本発明の光変調装置では既述のように散乱モードで
光変調動作を行なう光変調材層部材における非散乱部か
らの光量と散乱部からの光量とに差がない状態で光変調
された状態の光変調像が出射された場合であっても光変
調装置からはコントラスト比の大きな光変調像が出力で
きるから、散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層
部材として使用される高分子ー液晶複合膜における高分
子膜の構成材料と液晶とを屈折率が大きく異ならないも
のでも使用できるという利点も得られる。
なように本発明の光変調装置は、散乱モードで光変調動
作を行なう光変調材層部材を含んで構成されている光変
調装置に直線偏光々を入射させて、変調材層部材で散乱
モードでの光変調が行なわれた状態の光が出射させ、こ
の光変調材層部材から出射された光を、前記した光変調
装置へ入射された直線偏光々の偏光面と直交する偏光面
を有する直線偏光々を最も多く通過させうるような通過
特性を示す光学部材を介して出力光として取出すように
したものであるから、本発明の光変調装置では光変調材
層部材として高分解能が得られるような厚さの薄いもの
を使用して、光変調材層部材における非散乱部からの光
量と散乱部からの光量とに差がない状態で光変調された
状態の光変調像が、光変調材層部材から出射された場合
であっても、前記した光変調装置へ入射された直線偏光
々の偏光面と直交する偏光面を有する直線偏光々を最も
多く通過させうるような通過特性を示す光学部材検光子
から出射した出力光は黒レベルが充分に黒であるような
コントラスト比の高い光変調像を形成させるような光と
なっているから、本発明の光変調装置では散乱モードで
光変調動作を行なう光変調材層部材を用いて構成した既
述の従来の光変調装置における問題点、すなわち、解像
度の高い光変調像を得るために光変調材層部材として厚
さの薄いものを用いた場合にはコントラスト比の大きな
光変調像が得られず、そのために解像度とコントラスト
比との双方がほどほどに満足できるような光変調像が得
られるような厚さの光変調材層部材を用いて光変調装置
を構成しなければならなかっために、高い解像度でコン
トラスト比の大きな光変調像が得られるような光変調装
置が構成できなかった点を解消できる他に、散乱モード
で光変調動作を行なう光変調材層部材であっても厚さの
薄いものが使用できるために、散乱モードで光変調動作
を行なう光変調材層部材で生じることがある分散むらに
よる粒状ノイズの発生を低減できるのであり、また、従
来、散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層部材と
して例えば高分子ー液晶複合膜を使用する場合には、で
きるだけコントラスト比の高い光変調像を出力させるこ
とができるようにするために、高分子膜の構成材料と液
晶とを、それらの両者における屈折率がなるべく大きく
異なるものとなるように前記の両者を選択使用していた
が、本発明の光変調装置では既述のように散乱モードで
光変調動作を行なう光変調材層部材における非散乱部か
らの光量と散乱部からの光量とに差がない状態で光変調
された状態の光変調像が出射された場合であっても光変
調装置からはコントラスト比の大きな光変調像が出力で
きるから、散乱モードで光変調動作を行なう光変調材層
部材として使用される高分子ー液晶複合膜における高分
子膜の構成材料と液晶とを屈折率が大きく異ならないも
のでも使用できるという利点も得られる。
【図1】本発明の光変調装置の構成原理及び動作原理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図2】本発明の光変調装置の実施例を示す側面図であ
る。
る。
【図3】本発明の光変調装置の実施例を示す側面図であ
る。
る。
【図4】撮像装置を説明するための図である。
【図5】撮像記録装置を説明するための図である。
【図6】散乱モードで光変調動作を行なう光変調材から
の情報読出しの際の問題点の説明のための図である。
の情報読出しの際の問題点の説明のための図である。
【図7】再生装置の一例構成のブロック図である。
【図8】散乱モードで光変調動作を行なう光変調材から
の情報読出しの際の問題点の説明のための特性曲線図で
ある。
の情報読出しの際の問題点の説明のための特性曲線図で
ある。
O…被写体、TL…撮像レンズ、Vb…動作用電源、R
M…記録媒体、BP,BP1…基板、Et1,Et2…第
1,第2の透明電極、PCL…光導電層部材、PML…
光変調材層部材、Vb…動作用電源、SLM…光ー光変
換素子、WL…書込み光、PL…偏光子、AL…検光
子、
M…記録媒体、BP,BP1…基板、Et1,Et2…第
1,第2の透明電極、PCL…光導電層部材、PML…
光変調材層部材、Vb…動作用電源、SLM…光ー光変
換素子、WL…書込み光、PL…偏光子、AL…検光
子、
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 古屋 正人
神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番
地日本ビクター株式会社内
(72)発明者 小山 剛久
神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番
地日本ビクター株式会社内
(72)発明者 内山 裕治
神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番
地日本ビクター株式会社内
(72)発明者 盆出 博幸
神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番
地日本ビクター株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】 散乱モードで光変調動作を行なう光変調
材層部材を含んで構成されている光変調装置に直線偏光
々を入射させる手段と、変調材層部材において散乱モー
ドでの光変調が行なわれた状態で出射する光を、前記し
た光変調装置へ入射された直線偏光々の偏光面と直交す
る偏光面を有する直線偏光々を最も多く通過させうるよ
うな通過特性を示す光学部材を介して出力光として取出
すようにした光変調装置。 - 【請求項2】 記録層として散乱モードで光変調動作を
行なう光変調材層部材を含んで構成されている記録媒体
に直線偏光々による読出し光を入射させる手段と、前記
した記録媒体における変調材層部材によって散乱モード
での光変調が行なわれた状態で出射する読出し光を、前
記した記録媒体へ読出し光として入射させた直線偏光々
の偏光面と直交する偏光面を有する直線偏光々を最も多
く通過させうるような通過特性を示す光学部材を介して
出力光として取出すようにした光変調装置。 - 【請求項3】 散乱モードで光変調動作を行なう光変調
材層部材を含んで構成されている光ー光変換素子に書込
み光を入射させる手段と、前記した光ー光変換素子に対
して直線偏光々を読出し光として入射させる手段と、前
記した光ー光変換素子における変調材層部材において散
乱モードでの光変調が行なわれた状態で出射する読出し
光を、前記した光ー光変換素子に読出し光として入射さ
せた直線偏光々の偏光面と直交する偏光面を有する直線
偏光々を最も多く通過させうるような通過特性を示す光
学部材を介して出力光として取出すようにした光変調装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18924791A JPH0511230A (ja) | 1991-07-03 | 1991-07-03 | 光変調装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18924791A JPH0511230A (ja) | 1991-07-03 | 1991-07-03 | 光変調装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0511230A true JPH0511230A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=16238094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18924791A Pending JPH0511230A (ja) | 1991-07-03 | 1991-07-03 | 光変調装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0511230A (ja) |
-
1991
- 1991-07-03 JP JP18924791A patent/JPH0511230A/ja active Pending
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