JPH05114171A - 光学読出し可能読出し専用媒体の製造方法 - Google Patents

光学読出し可能読出し専用媒体の製造方法

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JPH05114171A
JPH05114171A JP9833992A JP9833992A JPH05114171A JP H05114171 A JPH05114171 A JP H05114171A JP 9833992 A JP9833992 A JP 9833992A JP 9833992 A JP9833992 A JP 9833992A JP H05114171 A JPH05114171 A JP H05114171A
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JP
Japan
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dry film
film
layer
photosensitive dry
master
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Application number
JP9833992A
Other languages
English (en)
Inventor
P Shvartsman Felix
ピー. シユバーツマン フエリツクス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
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Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPH05114171A publication Critical patent/JPH05114171A/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光学媒体の複製方法を提供することを目的と
する。 【構成】 屈折率変調感光性乾燥フィルムの表面を、不
透明および透明を対比させかつ光学読出し可能な情報を
表す凹領域および凸領域を有するレリーフ像フォトマス
クーマスターに接触させてフォトマスクーマスターの表
面を前記感光性乾燥フィルムの露出面に等写する。化学
線照射をフォトマスクーマスターの透明領域を介して通
して、感光性乾燥フィルムの露出領域を硬化させ屈折率
を少なくとも0.01変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、情報含有素子(inf
ormation−containingcompon
ent)として屈折率変調重合体層を用いた光学読出し
可能読出し専用媒体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】より信頼性が高くかつデータ記憶容量が
大きい検索システムの要求に対応して多数の光学的記憶
システムが開発されてきた。光学的記憶システムまたは
媒体の望ましい特性は(1)高感度、(2)高SN比、
(3)材料の変化、汚染物質および他の欠点に対する許
容限界の大きさ、および(4)記憶および/または記録
の拡張後および読出し後のアーカイバル(archiv
al)の高安定性である(Bartolini,J.V
ac.Sci.Technology,Vol.18,
No.1,January/February198
1,p.70を参照のこと)。これらの基準をベースと
して、大量の研究がなされ、これらの研究は最も可能の
ある媒体材料を得ることに主眼を置いて実行されるべく
継続している。
【0003】これらのシステムのいくつかはレーザービ
ーム等、高度に焦点合わせをした変調光を利用する。こ
の変調光は実質的な量の光を吸収することのできる記憶
層に向けられる。ビームによって発生した熱は高度に焦
点合わせをしたビームによって照らされた領域の光吸収
材料に化学的および/または物理的変化を起こさせる。
これにより、作用領域において例えば透過性または反射
性の光学的特性における付随した変化を生じる。読出し
に関し、吸収層の非作用部分から透過あるいは反射され
た光の量と、当該層のマークされた領域からの透過ある
いは反射された光の量との間の対比が測定される。その
ような記憶システムの例は米国特許公報から研究報告ま
でに、および米国特許第3,314,073号明細書お
よび同第3,474,457号明細書に開示されてい
る。最も簡易な光ディスク媒体は、ほとんど金属層等の
光吸収性材料の薄い層が被覆された寸法的に安定な固体
基体のみからなるものである。光吸収性層がレーザー光
源などからのコヒーレント光の強いビームによって照ら
されたとき、その光吸収性材料は蒸発するか、および/
または熱的に減成する。これによって、隣接するマーク
されていない層に比べて異なる透過性または反射性を示
す非常に小さいマークされた領域を生じる。より進歩し
たレーザー記録媒体はナム(Nam)による米国特許第
4,410,581号明細書に開示されている。当該米
国特許は、単一の記録層が透明基体上に形成された溶媒
耐性プラスチック材料の中間層と上記記録層上に形成さ
れた保護用溶媒系プラスチック層との間に完全に内包さ
れている。この例では、内包された記録層には透明な基
体を通過するレーザービームによって像が描かれて上記
層中に存在する非常に小さな孔が焼き抜かれる。
【0004】磁気光学的現象を基礎としたいくつかの他
のシステムはカー効果を利用して、局在化した領域上に
平行光とされかつ偏光された光を向ける。ここで、磁場
はバックグランドの方向と反対の方向を有する。磁気光
学システムの他の例は米国特許第3,224,333号
明細書、同第3,472,575号明細書、同第4,6
70,316号明細書、同第4,684,454号明細
書および同第4,693,943号明細書他多数に記述
されている。
【0005】他のカテゴリーのシステムは写真技術を基
礎としたものであって、より好ましくは露光された分子
が化学的に不活性となり、さらに投光に対して透明とな
るポジ作用の染料漂白剤およびジアゾ系を基礎としてい
る。これらのシステムは、ハウら(D.G.Howe
et al)による論文「Replicationof
Very High−Density Video
Disk Master Recordings Vi
a Contact Printing,pp.370
−374,Vol.3,No.6,November/
December 1979」に記述されているよう
に、密着印画によって複製することができる。
【0006】方法が選択されてコンパクトディスク等の
単一システム又は媒体が作製されているにもかかわら
ず、正確な方法でディバイスを再生するためのマスター
ピースの複製は複雑でかつ高価であった。
【0007】米国特許第4,201,581号明細書他
多数と同様に、上述の論文中の試みは複製方法の複雑さ
を減少させるためになされているが、成功していない。
【0008】1980年5月6日付け発行のトーマスら
(Thomas et al)の米国特許第4,20
1,581号明細書は、密着印画の方法を開示する。こ
こで、真空引きまたは圧力付与などの、先の方法におけ
るある工程はマスターディバイスと複製ディバイスとの
間の液体の薄層の導入工程に置き換えられる。特に、機
械的な圧力を付与するか、または真空ポンプを使用して
マスターディバイスと複製ディバイスとの間から空気を
除去することなしに、相対的に大きい領域上にも拘わら
ず、マスターディバイスと複製ディバイスとの間の精密
なコンタクトを得る方法が提供されている。好適な実施
例によれば、マスターディバイスと複製ディバイスは両
者間の液体で重ね合わされてマスター複製コンビネーシ
ョンを形成する。その後、マスター複製コンビネーショ
ンは引き延ばされて、上記液体にマスターディバイスと
複製ディバイスとの間に薄層を形成させる。真空効果
は、結果として、マスターディバイスおよび複製ディバ
イスを精密なコンタクトの状態に維持する。
【0009】真空、圧力または他の類似工程によって成
し遂げられた複雑化は米国特許第4,201,581号
明細書の開示内容中で否定されているが、マスターディ
バイスと複製ディバイスとの間に液体の薄層を導入する
付加工程は方法を複雑にする。液体は初期に過剰につけ
られなくてはならず、その後過剰の液体はスピニングな
どの手段によって除去されなければならないからであ
る。このように、一つの問題の解決は新しいものを創造
することになる。
【0010】米国特許第4,296,158号明細書に
は、ポリアクリレート単量体と不飽和末端基のヘテロサ
イクリック基含有オリゴマーとの混合物がスタンパーの
上に広げられ、同時に圧力ロールによって重合フィルム
で覆われることが記載されている。そのフィルムはディ
スク基板となる。
【0011】米国特許第4,354,988号明細書に
は、光ディスクを製造する方法が記述されている。この
方法は、スタンパー上に光硬化可能な樹脂を広げる工
程、基板フィルムで被覆する工程、硬化させる工程、中
心の孔を開ける工程、およびトリミングする工程を組み
合せて全て連続して行う。
【0012】米国特許第4,482,511号明細書
は、単量体、オリゴマーまたはこれらの混合物からなる
放射線感受性液体組成物を用いた類似のアプローチを開
示する。1Kg/cm2 未満の圧力を必要とし、かつ忠
実度の高いガラスマスターオリジナルを用いることがで
きる。薄いフッ素ポリマー剥離層をスタンパー表面に塗
布する手段も開示されている。
【0013】米国特許第4,510,593号明細書に
は、可溶性フィルム形成重合体バインダーを含む単一不
飽和単量体および多不飽和単量体の重合可能な混合物が
開示されている。その混合物は基体に塗布され、その後
圧力ロールにより可とう性スタンパーと接触させられ
る。バインダーの存在は情報輸送層の特性を改善するた
めであると述べられている。米国特許第4,430,3
63号明細書には、基体に類似の放射線感受性混合物を
塗布するスクリーン印刷方法が記述されている。これら
両特許では、硬化は化学線透過性スタンパーを介して露
光することによって達成される。
【0014】米国特許第4,582,885号明細書で
は、組成を変えて生産物の最終用途の物理特性を制御す
る、ハードおよびソフトセグメントを含む液状でかつ重
合可能なオリゴマー組成物が、光ディスクを含む種々の
情報輸送物を製造するのに用いられることが記載されて
いる。
【0015】上記特許および技術文献に記述された液状
組成物は室温で圧縮成形に要求されるよりも低い圧力下
において情報輸送スタンパーレリーフパターンに従わせ
るに十分な流動性を有し得るが、それらは本質的に実用
的な制限を有している。その制限とは、(1)液状組成
物は液体を包含するために正確な成形を要求すること、
および(2)厚さの均一性および他の光ディスクとの寸
法の均一性を維持するために、各サイクル毎に加えられ
た液量の注意深い制御が要求されることをいう。
【0016】他方、ワトキンス(Watkins)に付
与された米国特許第4,790,893号明細書はCD
のような情報輸送体を製造する方法を開示する。その製
造方法とは、熱可塑性材料層をその材料の軟化点を越え
る温度でパターン化された金属製マスター上に押し出し
て形成するものである。圧力は、冷却された上記層にか
けられ、その冷却層は上記金属製マスターから分離され
る。パターン化された層上には薄い金属フィルムがつけ
られ、パターン化層は基体に積層される。
【0017】光硬化可能な組成物が、スタンパーによっ
て刻印される前に、一つの層として基体上につけられる
か、あるいはスタンパーにつけられたなら、その後基体
に接触させて基体上につけられるという先行技術の要素
では、適当な基体接着を保証するために放射硬化工程に
注意が払われなければない。硬化し過ぎは、情報層の過
度の収縮、変化しやすい情報を歪める内部ストレスまた
は非生産的な長時間露光時間につながり得る。その選択
肢は、受け入れ可能であり互換性のある、基体と硬化可
能な組成物との組み合せの選択上において厳しい制限と
なるであろう。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの問
題を多少とも解消し、有益でかつ高価でない光媒体を複
製する方法を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明は概ねユニークな
読出し専用光学記録媒体の製造方法に係わる。その記録
媒体の基本的な構造は、(1)積層した寸法的に安定な
透明基体、(2)光硬化した屈折率変調重合体からなる
情報層、(3)この情報層の表面を覆う反射層、および
(4)上記情報層を覆う保護層からなる。そのような光
学的に読み出し可能な媒体の構造を考慮して、本発明の
方法は多様の基本工程および配列を用いて異なる方法で
実施され得る。
【0020】以上要するに、請求項1の発明は、(1)
保護用の支持フィルムの表面上に反射層を形成する工
程、(2)前記保護用支持フィルムの反射層側に屈折率
変調感光性乾燥フィルムを積層する工程、(3)前記感
光性乾燥フィルムの前記表面を、不透明および透明を対
比させかつ光学的に読出し可能な情報を表す凹領域およ
び凸領域を有するレリーフ像フォトマスクーマスターに
接触させ、これによって前記レリーフ像フォトマスクー
マスターの前記表面を前記感光性乾燥フィルムの前記露
出した表面に等写させる工程、(4)化学線照射を前記
フォトマスクーマスターの透明領域を介して通し、これ
によって前記感光性乾燥フィルムの前記露出した領域を
硬化させかつ前記感光性乾燥フィルムの前記露出した領
域の屈折率の少なくとも0.01の変化をもたらす工
程、(5)前記感光性乾燥フィルムの前記フォトマスク
ーマスターを等写している表面から前記フォトマスクー
マスターを除去する工程、(6)化学線照射で前記感光
性乾燥フィルムを強く露光して前記感光性乾燥フィルム
の先に露出していなかった領域の硬化をもたらす工程、
(7)前記光硬化した乾燥フィルムの表面または寸法的
に安定で透明な基体のいずれかに光硬化可能な光接着剤
の一層を塗布する工程、(8)前記光硬化した乾燥フィ
ルムの利用可能な表面を前記基体にこれらの間にサンド
イッチされた前記光接着剤で積層する工程、および
(9)前記光接着剤を硬化させる工程を含む光学読出し
可能読出し専用記録媒体の製造方法に係わるものであ
る。
【0021】また、請求項2の発明は、(1)寸法的に
安定で透明な基体に屈折率変調感光性乾燥フィルムを積
層する工程、(2)前記感光性乾燥フィルムの前記表面
を、不透明および透明を対比させかつ光学的に読出し可
能な情報を表す凹領域および凸領域を有するレリーフ像
フォトマスクーマスターに接触させ、これによって前記
レリーフ像フォトマスクーマスターの前記表面を前記感
光性乾燥フィルムの前記露出した表面に等写させる工
程、(3)化学線照射を前記フォトマスクの透明領域を
介して通し、これによって前記感光性乾燥フィルムの前
記露出した領域を硬化させかつ前記感光性乾燥フィルム
の前記露出した領域の屈折率の少なくとも0.01の変
化をもたらす工程、(4)前記像の描かれた前記感光性
乾燥フィルムの表面から前記フォトマスクを除去する工
程、(5)化学線照射で前記感光性乾燥フィルムを強く
露光して前記感光性乾燥フィルムの先に露出していなか
った領域の硬化をもたらす工程、(6)前記像の描かれ
た感光性乾燥フィルムの表面上に反射層を形成する工
程、および(7)前記反射層または保護用支持フィルム
の表面のいずれかに硬化可能な接着剤の一層を塗布する
工程、(8)前記反射層を前記保護用支持フィルムにこ
れらの間にサンドイッチされた前記硬化可能な接着剤で
積層する工程、および(9)前記接着剤を硬化させる工
程を含む光学読出し可能読出し専用記録媒体の製造方法
に係わるものである。
【0022】ここで、次のようにすることができる。
【0023】すなわち、請求項1または2の方法におい
て、前記屈折率変調感光性乾燥フィルムの厚さは0.5
−3マイクロメータであってもよい。
【0024】また、請求項1または2の方法において、
前記感光性乾燥フィルムの屈折率は高くしたものであっ
てもよい。
【0025】さらに、請求項1または2の方法におい
て、前記光学記録媒体はディスクの形態であってもよ
い。
【0026】次に、本発明の方法に係る基体、屈折率変
調光感度受性層、反射層および保護支持フィルム、積
層、硬化可能な接着剤について説明する。
【0027】A.基体 基体は、光硬化された情報輸送層のための寸法的に安定
な支持体として第一義的に機能する。基体は硬くても柔
軟性のあるものでもよい。適当な基体として機能するこ
とはディスクまたはシートが(1)スキャナーシステム
の照射に対して実質的に透明であるべきであり、(2)
全表面領域における厚さ、すなわち複屈折が均一である
べきであり、(3)光硬化された層にマッチした屈折率
を有するべきであり、(4)予定された最終産物に適し
た外形を有するべきである。
【0028】ブランクの基体は、適した光学標準が合え
ば種々の重合材料から公式化され得る。そのような重合
材料の代表例としては、ポリ(メチル メタクリレー
ト)、ポリカーボネート他を挙げることができる。これ
らのうち、ポリカーボネートは環境変化を通じてより寸
法安定性のものが好ましい。例えば、ガラス、石英また
は他の透明な無機材料は基体として用いられ得る。重合
材料の代表例としては、低コストおよびディスクの制作
容易のものが好ましい。
【0029】ブランクのディスク状基体は、射出成形ま
たは射出/圧縮成形などの従来の成形方法によって形成
されてもよいし、あるいは上記ディスク状基体は予備形
成された基体材料のシートから切断され、あるいは刻印
されてもよい。本発明の一実施例では、基体の外形は光
硬化可能な層の積層前に形成される。変形例では、光硬
化可能な層がシートに積層された後、基体の外形は基体
材料のシートから切断され、あるいは刻印される。その
変形例では、工程を経た積層シートからディスクを切り
出すか、あるいは刻印する前の全ての製造工程を実施す
ることが可能である。
【0030】この出願における主眼点は固定されたレー
ザー読出しビーム下で回転中に読み出されるディスク形
状の媒体に置かれるが、本発明が他の形状の媒体にも有
効であることは当該技術分野の当業者にとって明らかで
あろう。その他の形状の媒体には、固定された位置で、
層をスキャニングする読出しビームによって読み出され
るものも含まれる。
【0031】B.屈折率変調光感受性層 ここで用いられるように、「屈折率変調光感受性層」と
いう語は実質的に無溶媒で、光感受性、固体状の有機重
合層を意味する。この重合層は化学線照射に露光した際
に硬化と、少なくとも0.01、好ましくは0.05−
0.07の屈折率変化とを受ける。この層の必須成分は
(a)熱可塑性固体重合バインダー、(b)摂氏100
度を超える沸点を有しかつ付加重合可能なエチレン的に
不飽和な液状の単量体、および(c)化学線照射に露光
した際に不飽和単量体の重合を活性化する光開始系であ
る。
【0032】本発明に用いるに適したタイプの屈折率変
調光感受性の乾燥層は先行技術の分野においては広く知
られている。しかしながら、特に好ましい屈折率変調光
感受性の乾燥層フィルム材料はハーフ(Haugh)に
付与された米国特許第3,658,526号明細書、キ
ース(Keys)に付与された米国特許第4,942,
102号明細書およびモンローら(Monroe et
al)に付与された米国特許第4,942,112号
明細書に開示されている。化学線照射に露光した際に、
そのような材料の硬化が付加重合の作用機作か、重合体
鎖間の架橋か、あるいは両方によるものであるかもしれ
ないと、光重合体の技術分野の当業者によって認識され
るであろう。それらは、上記材料の溶媒分散物をキャス
ティングするか、またはスピンコーティングするなどの
手段によって基体に適用される。以下に、詳細に説明さ
れるように、本発明に用いられるべき屈折率変調光感受
性層は液状の不飽和単量体および固体の重合バインダー
のうち少なくともいずれか一方を含まなければならな
い。しかしながら、上記層は必須の液状の単量体および
固体のバインダー成分の双方が存在する限りにおいて、
一つの単量体より多く、および/または一つのバインダ
ーより多く含めることができる。例えば、バインダー成
分は単独の固体バインダー重合体からなるか、あるいは
固体状および液状のバインダーの混合物、または異なる
固体状のバインダーの混合物であってもよい。同様に、
単量体成分単独の液状単量体からなるか、あるいは固体
状および液状の単量体の混合物、または異なる液状の単
量体の混合物からなるものでもよい。
【0033】単量体およびバインダーの屈折率(RI)
は広く変化してもよい。例えば、上記層は、上記ハーフ
特許で言及されているようにRIの小さい単量体および
RIの小さいバインダーから構成してもよい。他方、上
記層は、上記キース特許およびモンロー特許に開示され
ているように、RIの小さい単量体およびRIの大きい
バインダーから構成してもよく、またはRIの大きい単
量体およびRIの小さいバインダーから構成してもよ
い。いずれにしても、上記層を硬化させる際にはRIシ
フトが少なくとも0.01、好ましくは0.05−0.
07であることが重要である。屈折率シフトは、米国特
許第号明細書のカラム6の33行からカラム7の54行
までに表された手順によって、ミリメートル当たり約1
000ラインの空間周波数を有する透過格子からの63
2.8nmの照射で決められている。
【0034】本発明において光感受性層が有効であると
いう精確なメカニズムは十分に理解されていないが、本
発明の実施可能性に重要なRIの相違性は「内部大量輸
送(internal mass transpor
t)」の結果であると信じられている。その内部大量輸
送は化学線照射に対するフィルムの初期露光中に発生
し、乾燥フィルム層の露光領域と非露光領域との間に成
分の勾配を形成する。特に、初期の像形成工程中に、単
量体が、被照光(lightstruck)されていな
い領域から、重合および/または架橋が起こっている被
照光領域に向けて拡散すると信じられている。この単量
体の拡散は、投光による露光に際して固定されるように
なるフィルムの露光領域と非露光領域との間にマークを
つけられた成分勾配を形成する。これらの領域はRIの
違いによってその後永久に検出可能である。このメカニ
ズムは、ワップシェルら(Wopschall et
al)によるAppl.Opt.11.2096(19
72)、トムリンソンら(Tomlinson et
al)によるAdv.in Photochem.,V
ol.12,J.N.Pitts et al.,Wi
ley−Interscience,New Yor
k,1980,pp.201−281およびビー.エ
ム.モンロー(B.M.Monroe)によるJ.Im
ag.Sci.に、より一層十分に議論されている。
【0035】ここで用いられるように、「光硬化可能な
乾燥フィルム」または「光硬化可能な乾燥層」という語
は、平行板レオメーター(parallel plat
erheometer)で測定して約20メガポイズ以
上、好ましくは約100メガポイズと200メガポイズ
との間のクリープ粘度を有する実質的に無溶媒の重合層
に帰する。そのような「光硬化可能な乾燥層」は、約数
百ポイズ以下の粘度を有する従来の液状の光硬化可能な
層とは著しい対照をなす。この発明の目的のために、粘
度はデュポンモデル1090温度分析器を用いて平行板
レオメーターでクリープ粘度として測定される。この手
順では、0.036インチ厚のサンプルを2つの平坦な
ディスク(直径:約0.25インチ)間に接触した状態
で配置する。付加重量の受け入れが可能であるクオーツ
プローブは、上側のディスクの頂部に位置し、そのクオ
ーツプローブ/ディスク部品は、測定を通じて一定の摂
氏40度および相対湿度44%に維持される。クリープ
粘度は平衡状態とされた条件下でのサンプル厚の減少率
から算出される。0.036インチ厚のサンプルは、テ
ストフィルムの十分な厚さの層を一緒に積層して所望の
厚さとすることによって作製される。
【0036】C.反射層および保護支持フィルム エンボス加工された情報トラックが従来のレーザービー
ムプレイバックシステムにおいて有用であるためには、
入射プレイバック照射はレリーフトラック部分から検出
器に向けて反射されなければならない。これは、反射材
料、通常は金属または反射染料の層を上記エンボス加工
された情報輸送表面の近傍につけることによって達成さ
れる。
【0037】エンボス工程前に、上記情報層が透明基体
によって支持される媒体形状では、反射層はエンボス工
程の前後のいずれかに上記情報層に直接つけられる。し
かしながら、反射層はエンボス工程前には基体につけら
れない。反射層は、保護層および反射層用の支持体とし
て寄与する補助的な層につけられる。
【0038】補助層は、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−プロピレン共重合体、PET等のポリエ
ステル類、ポリイミド類等の、環境的におよび寸法的に
安定ないかなる材料から作製され得る。マイラー(My
lar:登録商標)ポリエステルフィルムが好適であ
る。
【0039】反射コーティングは従来の手段によって保
護層の支持体につけられる。例えば、金属性の反射層
は、この層の表面上に、Al,CuおよびAg等の金属
の蒸発によってつけられ得る。銀の反射層は、例えば無
電着性金属析出法によって堆積させられ得る。この無電
着性金属析出法は、ドナルド ティー.リビー(Don
ald T.Levy)によるTechnical P
roceedings51th Annual Con
vention American Electrop
later’s Society,June,196
4,pp.139−149および米国特許第4,63
9,382号明細書に開示されている。反射染料層は、
スピンコーティング等の従来のコーティング技術を用い
て溶液から塗布されてもよい。他の、そのような技術は
コーティング分野における当業者に公知であろう。
【0040】D.積層 光硬化可能な層は上記反射層または上記基体の表面に従
来のいかなる積層システムを用いても積層され得る。基
体に乾燥フィルムをつける適当なシステムはホットロー
ルラミネーターまたは加熱されたプラテンあるいはシュ
ーを備えたラミネーターを含む。これらのラミネーター
は、参照によってここに組み込まれた米国特許第3,4
69,982号明細書、同第3,547,730号明細
書、同第3,649,268号明細書および同第4,1
27,436号明細書に開示されている。液体が接着力
を高めるために用いられる有益な積層システムは、参照
によってここに組み込まれた米国特許第3,629,0
36号明細書、同第4,069,076号明細書、同第
4,405,394号明細書および同第4,378,2
64号明細書に開示されている。特に、有益なものとし
ては、例えばデュポンクロマリン(Cromalin:
登録商標)ラミネーター、デュポンリストン(Rist
on:登録商標)ホットロールラミネーターおよびラミ
ネーターモデル100などの市販のホットロールラミネ
ーターがある。
【0041】本発明における積層工程では、保護用カバ
ーシートまたは存在する場合には間紙は最初に上記光硬
化可能な層から除去される。この層は、圧力下であっ
て、典型的には加熱を伴って基体の表面につけられる。
その結果、界面の空気が排除され、かつ基体と上記層と
の間の無接着力の回避が成し遂げられる。無接着力の回
避を成し遂げるために、ホットロールラミネーターが用
いられることが好ましい。
【0042】例えば、ブランクシートなどの予備形成さ
れた基体が用いられる例では、各予備形成された基体ま
たは基体のアレイをラミネーターの把持部に運びかつ把
持部を通過させて各基体の裏面の汚染を防止するために
キャリアシートを用いてもよい。通常のペーパーシート
またはウエブは、それらが糸屑の発生のないものおよび
同様に汚染物質のないものであれば、キャリアシートと
して適している。適したキャリアシートとしては、クロ
マリン(Cromalin:登録商標)マスタープルー
フコマーシャルレセプタ、すなわちデュポン製品CM/
CRなどの材料がある。また、予備形成された基体が用
いられる場合の例では、光硬化可能な層の余分な領域
は、積層された基体の縁部から、例えば積層され予備形
成されたディスクであればその縁部および孔から切り出
される。接着力/粘着力が慎重にバランスされている場
合の例では、積層物からの余分な光硬化可能な材料のト
リミングは、過剰の材料を上記積層物に接着している状
態で上記積層物から支持シートを剥すことによって成し
遂げられ得る。
【0043】E.コンフォーミング 仮の支持体を除去した後、光硬化可能な層の表面は、ラ
ンドおよび穴の形態の情報トラックのネガを表面に押し
付けているフォトマスク−マスターに室温で圧力をかけ
ることによって情報トラックと等写させられる。
【0044】フォトマスク−マスター表面を光硬化可能
な層に埋め込むには単純な腕による圧力で十分である
が、圧縮機の使用は、上記フォトマスク−マスターに対
する上記層表面の等写を完全に確実なものとするため
に、上記表面を介した均一な高圧が瞬間的にかけられ得
る場合に好ましい。同様に、フォトマスクーマスター
は、アラインメントされた積層物/フォトマスクを圧力
ロールラミネーターの把持部に通過させ、その後圧縮機
を使用することによって光硬化可能な層に均一に埋め込
まれ得る。フォトマスクーマスターの像が光硬化可能な
層に均一に埋め込まれた後、圧力は緩和され、または除
去され、その後、光硬化可能な層は透明基対を通過する
化学線照射に露光される。代わりに、圧力は化学線照射
による露光中は維持されてもよい。
【0045】なお,光硬化可能な層をフォトマスクーマ
スターに等写させる工程では、「bosses」すなわ
ち突起部がフィルム中に等写操作によって形成される程
度のエンボス工程が考慮され得るべきである。上記光硬
化可能な層の表面レリーフの外観は、本発明による生産
物の光学的特性が乾燥フィルムの屈折率(RI)特性か
らであって、整合された層の三次元形状から導き出され
たものではないので、重要ではない。
【0046】ここで用いられているように、「フォトマ
スクーマスター」という語は、ガラスまたはクオーツ等
の基体上に支持された従来の不透明なクロム等の金属層
を有する高分解能フォトマスクに関係している。このマ
スターは、ボーデンら(Bowden et al)に
よるJ.Electrochem.Soc.,Soli
d−State Science & Technol
ogy,Vol.,128,No.6,pp.1304
−1313に記述されているように、ポジ作用の電子ビ
ームレジスト材料等を用いることによって従来の方法で
製造される。
【0047】F.硬化可能な接着剤 いくつかの重合体層の限定された接着特性のために、本
発明の実施には、そのような重合体層と近傍の基体との
間に硬化可能な接着剤層を挿入することが好ましい。例
えば、請求項1に記載されている本発明の実施には、光
硬化可能な活性層と近傍の基体との間に硬化可能な接着
剤を挿入することが好ましい。この例では、接着剤が良
好な光学的特性を有しており、基体から活性層への光の
通過を妨げないことが重要である。
【0048】そのような光学的接着剤としては、通常光
学的に透明で、無溶媒であり、粘液状の種々の重合体が
ある。この重合体には、本発明における光重合体層に用
いられるものに類似したアクリレートおよびメタクリレ
ート等の光感受性重合体が含まれる。従って、一部の接
着剤は、紫外光に露光した際に数秒で厚くなり、数分で
硬化するものであることが好ましい。
【0049】適当な光学的接着剤の例としては、ノーラ
ンドオプティカルアドヒーシブ(Norland Op
tical Adhesives)という商品名でNo
rland Products,Inc.,New B
runswick,NJによって製造されたものを挙げ
ることができる。これらの接着剤は連邦仕様MIL−A
−3902Cの要件を満たす。結合されるべき表面に塗
布された後、上記接着剤は2つの段階を経て硬化する。
その第1段階は上記結合を固定するに十分な時間の紫外
光による短期間の予備硬化であり、第2段階は上記接着
剤における完全な架橋および溶媒耐性を得るため、紫外
光による長期間の硬化である。上記ノーランドオプティ
カルアドヒーシブは300から5000cpsの範囲の
粘度を有している。他方、請求項2に記載の方法のよう
に、接着剤が反射層と保護層との間に用いられるとき
は、接着剤がいかなる光学的特性を有していたとして
も、それは重要ではない。両方の例では、勿論、接着剤
が結合された両方の層に対する良好な永久的な結合特性
を有することが重要である。
【0050】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。
【0051】図1はフォトマスクーマスター10の形態
のマスターを示す。このフォトマスクーマスター10
は、化学線照射、特に以下に記述される本発明の方法に
用いられる光の波長範囲の照射を透過する本体12を含
む。適当な材料の例としては、照射される光の波長範囲
に依存して決められるが、例えばガラスおよびシリカな
どがある。上記透明本体12は上表面14および下表面
16を有する。これら表面14および16は好ましくは
互いに平行であり、光学的に平坦である。両表面間の距
離は本発明を考慮する場合には重要な要素ではない。そ
の距離の好ましい範囲は1と10ミリメータとの間であ
り、さらに好ましくは3と5ミリメータの間である。
【0052】下表面16はある厚さを有する不透明材1
8によってパターン化されている。上記不透明材18
は、不透明性、強度、腐食耐性およびエッチングの受容
量などの多くの望ましい特性を有するので、しばしばク
ロムである。しかしながら、不透明材18がフォトマス
クに用いられる照射マスキング材料として合理的な特性
を有している限り、その不透明材18の性質は本発明の
実施には重要な因子ではないと理解されるべきである。
不透明材の層18の厚さは通常70から150ナノメー
タまでの範囲であり、好ましくは90から120ナノメ
ータまでの範囲である。その厚さが150ナノメータを
超えると、解像度が悪化する。その厚さが70ナノメー
タを下回ると、フィルムの完全性、強度および不透明性
は悪化する。
【0053】多数の領域22は上記不透明層の部分を除
去することによって開いていて被覆されていない状態が
維持されている。実施では、不透明材18の完全なフィ
ルムが好ましくは本体12の全表面16上に置かれ、そ
のフィルムの所定部分が、通常、フォトマスク製造の分
野では公知の選択エッチング技術によって除去される。
フィルムに残る部分18はマスクの表面上に突起する領
域を示すが、エッチングにより取り去ることが透明な凹
部領域22を形成することになる。
【0054】複製されるべき光学媒体が光ディスクであ
れば、透明凹領域22は、一定の幅、好ましくは350
と750ナノメータの間、さらに好ましくは450と6
50ナノメータの間の幅を有する横長の形状であっても
よい。図1に示された断面は幅に沿っている。不透明凸
部領域内の各横長領域の長さは所望の光学的情報に対応
している。これらの横長領域は、円形トラック内に配さ
れることが好ましい。上記円形トラックのトラック間距
離は、好ましくは1−2のナノメータであり、さらに好
ましくは1.4−1.8ナノメータである。
【0055】また、図1は屈折率−変調光感受性乾燥フ
ィルム26を示す。このフィルム26は上表面28と下
表面30とを有している。屈折率−変調重合体の厚さ
(上表面28と下表面30との距離)が3マイクロメー
タより少なく、好ましくは1.5と2.5マイクロメー
タとの間であることが重要である。
【0056】また、乾燥光感受性重合体フィルムは上記
マスターすなわちフォトマスク10の下表面の凹凸領域
の形状に等写可能であることが重要である。
【0057】図2はフォトマスク10上に圧縮され、凸
部18と凹領域22との形状に等写する光感受性乾燥フ
ィルム26を示す。また、図2は、平行とされ、実質的
に直線の光路34としてホログラフィックフィルム26
を貫通する化学線照射ビーム32を示す。上記光感受性
フィルムの等写性のために、例えば角縁部36および3
8などの照射散乱源からのいかなる散乱も高度に減少す
る。
【0058】他方、図3は光感受性フィルムが凸部およ
び凹領域に等写していない配置を示す。図3中に矢印で
示すように、角縁部36および38が余分な散乱を顕出
させている。これは像の解像度を悪化させるので、非常
に望ましくない。
【0059】図4および5はそれぞれ本発明に従って光
ディスクなどの読出し可能な光学媒体を形成する方法の
工程を示す。
【0060】図4では、保護フィルム142はラベルが
添付された一面144を有し、他面には反射層140が
配されている。ラベル144は特定のディバイスを確認
するために有益であり、また見当合わせおよび位置合わ
せの目的のためにも有益である。保護層は、例えばポリ
エステル、ポリカーボネートその他いかなるフレキシブ
ルフィルムであってもよい。その厚さには臨界値はな
い。しかしながら、名目上、このタイプへの適用品のほ
とんどにおいて、その厚さは50と200マイクロメー
タの間、好ましくは75と100マイクロメータの間で
ある。反射層は例えばアルミニウムなどの薄い金属層で
あってもよい。その厚さには臨界値はないが、50ー1
00ナノメータの範囲が好ましい。
【0061】光感受性屈折率ー変調乾燥フィルム126
は反射層140の頂部につけられいる。乾燥フィルム1
26は上記光ディスクの第1の基礎構造を完成させるも
のである。そして、この乾燥フィルム126は、湿式コ
ーティング、カーテンコーティング、またはスピンコー
ティングなどの従来の方法によってつけられ得る。
【0062】上記光感受性乾燥フィルム126上に光学
的情報を制御可能に記録するために、フォトマスクーマ
スター110を接触させ、上記フィルム126上に押し
付ける。上記フォトマスク−マスターは不透明な突起部
118と透明な凹部領域122とを有する。特に角縁部
136および138などにおける照射光の散乱を回避す
るために、フォトマスクーマスターの突起領域および凹
部領域の形状に等写させ得ることが重要である。平行と
された化学線照射光132は直線的な光路134の形態
で透明な凹部領域122を通過し、その透過光が通過し
たフィルムの各々の領域の単量体を重合させることがで
きる。
【0063】この選択的な露光の後、上記フィルムのう
ち照射領域と非照射領域との間の屈折率変化が最大とな
るように、上記フィルムを処理する。好ましいアプロー
チには、フォトマスクーマスターの除去後に投光方法で
の付加的な露光も含まれている。確実性をもって知られ
ていないが、上記光路134中に含まれている単量体が
重合化されるときには周囲の領域から重合していない新
しい単量体がその光路に向けて重合化を弱めると信じら
れている。例えば、投光による露光に際して、上記フィ
ルム126の初期的におよび選択的に照射された部分
は、非照射部分よりも多くの重合化された単量体を含
む。バインダーと比較して高い屈折率を有する重合体を
生成するように上記単量体を選択するので、最終的に
は、照射された部分の屈折率はその周囲の領域のそれよ
りも高いと仮定される。
【0064】光感受性乾燥フィルムの厚さは3マイクロ
メータより薄く、好ましくは0.5と3マイクロメータ
の間、さらに好ましくは1.5と2.0マイクロメータ
の間である。これは読出しノイズを減らすためである。
上記厚さが3マイクロメータを超えれば、上記反射層1
40からの平行光とされた反射光を介して行われる上記
読出しは、直線的な光路134によって実際に規定され
ている光導波路の長さが3マイクロメータより大きくな
るという欠点をもつ。上記フォトマスクの除去後に、屈
折率の変化の形態で光学情報を制御可能に記録するのに
用いられる技術にかかわらず、図4に示された基礎構造
は完全構造に拡張される。
【0065】図5は本発明に従う完全構造の一例を描く
ものである。図4に示された上記マスターまたはフォト
マスク100の除去後、透明接着層150(図5)は例
えば積層によって光パターン化された層126上につけ
られる。光パターン化層126では、この層のうち既に
照射された部分146が非照射部分148と異なる屈折
率を有している。上記光学接着層の厚さには臨界値はな
い。好ましい範囲は1と25マイクロメータの間であ
り、さらに好ましくは2と12マイクロメータの間であ
り、またさらに好ましくは7と9マイクロメータの間で
ある。
【0066】上記接着層150の頂部上には、焦点ボカ
シ(defocusing)層または基体152が好ま
しくは積層によって上記構造を完全にするためにつけら
れる。上記基体152は透明であるべきである。その基
体は上記構造物のいかなる他の層よりもかなり厚いこと
が好ましい。0.5mmと5mmの間の厚さが好まし
く、さらに好ましくは1と2mmの間、またさらに好ま
しくは1と1.5mmの間である。他の要素の間での基
体152の重要な機能は、レーザービーム154などの
光学手段での読出し中に、上記構造物の全体に合理的な
柔軟性を備えた剛性を与え、かつ上記光重合層126上
の情報領域にダストなどのいかなる粒子の焦点が合わな
いようにする。
【0067】図6は、コンパクトディスクを効率的にか
つ安価に製造する装置の一例を示す。その説明および作
用を以下に記述する。
【0068】図6には、図7の(a)に詳細に示されて
いる多層フィルム261を保持するロール260が示さ
れている。多層フィルム261はラベルが貼られた一面
を有する保護フィルム242と、他面上に配置された反
射層240とを含む。ラベル244は同一性の確認、見
当合わせおよび位置合わせの目的に有益である。屈折率
−変調乾燥フィルム226は反射層240と仮の支持フ
ィルム262との間にサンドイッチされている。層22
6、240、242および244の特性は、前述しかつ
図4に示したように、層126、140、142および
144の特性にそれぞれ類似している。上記フィルム2
61はロール260から解かれるとき、上記仮の支持体
262がその残りから離れ、ロール266に巻きとられ
る。図7の(b)に詳細に示される上記の残った構造物
243はP1の位置で案内ロール266の周囲を通過す
る。また、その構造物243はフォトマスクーマスター
210の上を通過する。ここで、構造物243は光学的
に位置合わせされ、その後フォトマスクーマスター21
0に向けてローラー270によって押しつけられる。そ
のローラー270は近傍の矢印によって示される経路を
たどる。圧縮工程が完了した後、フィルム基礎構造体2
43に対するフォトマスクーマスターの関係は上側を下
としてみた場合の図4に示されている。100のマルチ
プルによって異なる数は実質的に同一の要素を示す。
【0069】上記フィルムはその後、所望の光学ディス
ク情報に従って適当なUVランプ272からの平行光と
された化学線照射232に対しイメージ通り露光され、
一対のニップロール286および286’に向かう経路
をたどる。把持ロール286および286’では、他の
基礎構造物285と積層される。基礎構造物285は、
図5に示されたフィルム150に類似の接着フィルム2
50を用いた図5に示された基体152に類似の透明な
基体252の積層によりつくられたものである。接着フ
ィルム250は初期において、図7の(c)に示されて
いるように保護フィルム280と282の間にサンドイ
ッチされた形態251でロール274に巻きとられてい
る。サンドイッチされた形態251は、第2の一対のニ
ップロール284および284’に向けて経路をたどる
ので、保護フィルム280を分離し、ロール276に巻
きとる。接着フィルム250のフリーとなった表面はそ
の後ニップロール284および284’によって透明基
体252上に積層される。この時点において、残った保
護フィルム282は分離され、ロール278上に巻きと
られる。このようにして作製された積層物285は、上
述したように、ニップロール286および286’によ
って露光フィルム243と積層されるべく、さらに前進
する。P2の位置において新しい積層物291は図6に
示されている。新しい積層物291は適当なランプ28
8によって提供される化学線照射290の投光によって
露光される。この段階で、先に作製された異なる屈折率
の光学像が固定される。次に、積層物291はパンチス
テーションにおいてパンチングされ、光コンパクトディ
スク294が製造される。
【0070】本発明は、次なる実施例を参照することに
よって示され、かつより一層理解されるであろう。
【0071】実施例1 本実施例は反射型の光学素子の製法を示す。ここでの光
学素子は光ディスクである。そのような光ディスクは2
つの消耗部品から組み立てられる。その部品とは、予備
的に積層された乾燥光重合接着層を有する予備形成ディ
スク基体と、金属被覆されたプラスチックフィルム基体
である。後者のフィルム基体は、その反射面上に、予備
被覆された乾燥光重合層中の屈折率の変化としてフォト
リソグラフィック露光によって記録された光ディジタル
情報を輸送するものである。
【0072】ダスト遮断(dust−defocusi
ng)層として機能し、かつ機械的支持を与えるディス
ク基体は、1.2mm厚であり、内径15mmの同心円
状のセンターホールを有する射出成形された直径120
mmのポリカーボネートディスクであった。接着剤層を
乾燥フィルムの形態の基体に熱ロールラミネーションに
よりつけた。乾燥フィルム光重合要素を後述する光重合
可能な組成物を12.7マイクロメータ厚のポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に機械被覆することによっ
て製造した。25.4マイクロメータ厚のポリエチレン
フィルムを間紙として用いた。乾燥した光重合可能接着
剤層は8.0mm厚であった。
【0073】乾燥光重合接着剤層の組成は次の通りであ
る。
【0074】
【表1】
【0075】Brij(登録商標)30,Brij(登
録商標):ポリオキシエチレン(4)ラウリルエーテル
についてのICIの登録商標 Cyasorb(登録商標)UV−24,2−ハイドロ
キシ−4−メトキシ−フェニルについてのアメリカンシ
アナミド社(ニュージャージー州,ウェイン)の登録商
標 Elvacite(登録商標)2051,ポリ(メチル
メタクリレート),分子量350,000についてのイ
ー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパ
ニー,デラウエア州ウィルミントンの登録商標 −Cl−HABI:1,1′−ビイミダゾール,2,
2′−ビス[オルト−クロロフェニル]4,4′,5,
5′−テトラフェニル TAOBN:1,4,4−トリメチル−2,3−ジアゾ
シクロ(3,2,2)−ノン−2−エン−2,3−ジオ
キシド TEOTA:エトキシル化トリメチロールプロパンのト
リアクリレートエステル Tinopal(登録商標)PCR,2−(スティビル
−4″)−(ナフト−1′,2′,4,5)−1,2,
3−トリアゾール−2″−スルホン酸フェニルエステ
ル,ベンゼンスルホン酸、5−(2H−ナフト<1,2
−D>−トリアゾール−2−1y)−2−(2−フェニ
ルエチル),フェニルエステルについてのチバガイギ
社,ニューヨーク州ホートンの登録商標 Tinopal(登録商標)SFG:3−フェニル−7
−[2′−(4′−N,N−ジエチルアミノ−6′−ク
ロロ−1′,3′,5−トリアジニルアミノ]−クマリ
ン;チバガイギ社 Vinac(登録商標)B−15,ポリ(ビニルアセテ
ート),分子量90,000についてのエアプロダクト
ツ・アンド・ケミカルズ社,ペンシルバニア州アレンタ
ウンの登録商標 積層中にディスクを支持するために、ディスクは市販の
カラープルーフィングレセプタ(クロマリン(CROM
ALIN:登録商標)マスタープルーフコマーシャルレ
セプタ、製品No.CM/CR,イー.アイ.デュポ
ン.ドウ.ヌムール.アンド.カンパニー,アメリカ合
衆国、デラウエア州、ウイルミントン)の仮のキャリア
シート上に配置される。乾燥フィルムは、摂氏115度
ー124度のロール表面温度で操作するクロマリン(C
ROMALIN:登録商標)ラミネーター(デュポン、
デラウエア州、ウイルミントン)を用いて、上記基体に
積層される。上記ディスク表面に積層物を均一に被せ、
ディスクの周縁部に沿って積層物を上記キャリアシート
にシールする。ディスクをレザー刃で切り出し、積層フ
ィルムをセンターホールから切り取った。
【0076】ディジタル光学情報を輸送する反射フィル
ム基体は、マイラー(Mylar:登録商標)フィルム
の反射側に予備的にスピンコティングし、1.5−2.
0マイクロメータ厚の乾燥光重合層を備えた127マイ
クロメータ厚の市販のアルミナ処理マイラー(Myla
r:登録商標)フィルムであった。
【0077】乾燥光重合層の組成は次の通りである。
【0078】
【表2】
【0079】MMT:4−メチル−4H−1,2,4−
トリアゾール−3−チオールディスク Photomer 4039:フェノール エトキシレ
ート モノアクリレート (ディスク基体への接着剤層の積層)積層中にディスク
を支持するために、ディスクは市販のカラープルーフィ
ングレセプタ(クロマリン(CROMALIN:登録商
標)マスタープルーフコマーシャルレセプタ、製品N
o.CM/CR,イー.アイ.デュポン.ドウ.ヌムー
ル.アンド.カンパニー,アメリカ合衆国、デラウエア
州、ウイルミントン)の仮のキャリアシート上に配置さ
れる。乾燥フィルムは、摂氏115度ー124度のロー
ル表面温度で操作するクロマリン(CROMALIN:
登録商標)ラミネーター(デュポン、デラウエア州、ウ
イルミントン)を用いて、上記基体に積層される。上記
ディスク表面に積層物を均一に被せ、ディスクの周縁部
に沿って積層物を上記キャリアシートにシールする。デ
ィスクをレザー刃で切り出し、積層フィルムをセンター
ホールから切り取った。
【0080】(金属被覆されたフィルムへの光重合層の
コーティング)この実施例では、既に説明された処方の
光重合体の溶液を、127マイクロメータ厚の市販のマ
イラー(Mylar:登録商標)フィルムのアルミナ処
理した側にスピンコートした。このスピンコートには、
市販のフォトレジストスピンナーモデル1−EC101
D−CB15(Headway Research,I
nc.,テキサス州、ガーランド)が用いられた。スピ
ンコーティングのパラメータを挙げると、速度−450
0回転/分、時間−60秒間である。この時間には光重
合フィルムの乾燥時間が含まれている。乾燥した光重合
体層の厚さは1.5−2.0マイクロメータであった。
スピンコーティングおよび乾燥の各工程はアルゴン雰囲
気で行われる。
【0081】(光ディスクのフォトリソグラフィ記録)
光学ディジタル情報を、フォトリソツールとして従来の
記録済光学ディジタル情報を備えたクロムマスターフォ
トマスクを用いて行った紫外フォトリソ露光によって予
備的に被覆された乾燥光重合層における屈折率の変化と
して記録した。予備的に被覆されかつ乾燥されたHPP
層を備えた金属被覆マイラー(Mylar:登録商標)
フィルムを、マスターフォトマスクのクロム表面に対向
する光重合層を備えたマスターフォトマスクにフォトグ
ラフィックローラーを用いて手で積層した。上記光重合
層の実質的な厚さのために、良好な積層の品質を得た。
積層されたフィルムーマスクを、アルゴンを満たし、か
つ高強度UV露光装置(5kW可変強度OLITE P
rinting Light,model AL53−
M,Olec Corp.,カリフォルニア州、アービ
ン)中のUV源から約20cm(8インチ)離れたチャ
ンバー内に配置した。6秒のUV露光を900W(60
mJ/cm2 )に固定した後、光学的に像形成された光
重合層を有する金属被覆マイラー(Mylar:登録商
標)フィルムを上記フォトマスクとの積層状態を解除
し、まだアルゴン雰囲気中で光重合層を、5000W
(320mJ/cm2 )に設定したUV光に対してさら
に15秒のオーバー露光を行った。良好なマスターフォ
トマスクの品質を光重合層中における屈折率の変化とし
て記録した。0.057と0.074の各屈折率におけ
る径方向および接線方向の変化をHe−Neレーザー源
を用いて633nmで測定した。0.051と0.06
9の各屈折率をIRレーザー源を用いて860nmで測
定した。
【0082】(光学的に像形成された光ディスクの組み
立て)像形成され定着された光重合層を、予備コートし
た接着剤層に対向するポリカーボネートディスク基体上
に同心的に位置合わせした。像形成された光重合層を有
する金属被覆マイラー(Mylar:登録商標)フィル
ムを、上記ポリカーボネートディスク基体の接着剤層に
圧力ロールで圧縮することによってサンドイッチを作製
した。積層されたサンドイッチを、前述した装置におけ
る付加的なUV露光に曝した。そのUV露光を5000
W(320mJ/cm2)に設定したUV光で10秒間
行って、光ディスクなどの反射型の光学読出し媒体を製
造する手順を完了した。
【図面の簡単な説明】
【図1】フォトマスクおよび光硬化可能な屈折率変調重
合体層を示す概略図である。
【図2】本発明に従うエンボス工程中のフォトマスクと
屈折率変調重合体層との間の等写する関係を示す概略図
である。
【図3】屈折率変調重合体層がフォトマスクと十分に等
写しないエンボス工程中のフォトマスクと屈折率変調重
合体層との間の関係を示す概略図である。
【図4】本発明の方法におけるパターン化後の露光工程
を示す概略図である。
【図5】本発明の方法によって製造された読出し専用光
学記録媒体の記録済みの情報がレーザービームによって
読み出される方法を示す概略図である。
【図6】本発明の方法における複数工程の主要な装備を
示す概略図である。
【図7】本発明の方法における種々の工程を通じて処理
される光学的要素を示す概略図である。
【符号の説明】
10,110 フォトマスクーマスター 12 本体 14 上表面 16 下表面 18,118 不透明材 22,122 凹部領域 26,126,226 屈折率一変調光感受性乾燥フィ
ルム 28 上表面 30 下表面 34,134 光路 36,136 角縁部 38,138 角縁部 140 反射層 142 保護フィルム 144 一面 150 透明接着層 152 基体 154 レーザービーム 240 反射層 242 保護フィルム 243 フィルム基礎構造体 244 ラベル 250 接着フィルム 260 ロール 261 多層フィルム 262 仮の支持フィルム 266 ロール 270 ローラー 276 ロール 280,282 保護フィルム 285 積層物 284,286 ニップロール 288 ランプ 291 積層物 294 光コンパクトディスク

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)保護用の支持フィルムの表面上に
    反射層を形成する工程、 (2)前記保護用支持フィルムの反射層側に屈折率変調
    感光性乾燥フィルムを積層する工程、 (3)前記感光性乾燥フィルムの前記表面を、不透明お
    よび透明を対比させかつ光学的に読出し可能な情報を表
    す凹領域および凸領域を有するレリーフ像フォトマスク
    ーマスターに接触させ、これによって前記レリーフ像フ
    ォトマスクーマスターの前記表面を前記感光性乾燥フィ
    ルムの前記露出した表面に等写させる工程、 (4)化学線照射を前記フォトマスクーマスターの透明
    領域を介して通し、これによって前記感光性乾燥フィル
    ムの前記露出した領域を硬化させかつ前記感光性乾燥フ
    ィルムの前記露出した領域の屈折率の少なくとも0.0
    1の変化をもたらす工程、 (5)前記感光性乾燥フィルムの前記フォトマスクーマ
    スターを等写している表面から前記フォトマスクーマス
    ターを除去する工程、 (6)化学線照射で前記感光性乾燥フィルムを強く露光
    して前記感光性乾燥フィルムの先に露出していなかった
    領域の硬化をもたらす工程、 (7)前記光硬化した乾燥フィルムの表面または寸法的
    に安定で透明な基体のいずれかに光硬化可能な光接着剤
    の一層を塗布する工程、 (8)前記光硬化した乾燥フィルムの利用可能な表面を
    前記基体にこれらの間にサンドイッチされた前記光接着
    剤で積層する工程、および (9)前記光接着剤を硬化させる工程を含む光学読出し
    可能読出し専用記録媒体の製造方法。
  2. 【請求項2】 (1)寸法的に安定で透明な基体に屈折
    率変調感光性乾燥フィルムを積層する工程、 (2)前記感光性乾燥フィルムの前記表面を、不透明お
    よび透明を対比させかつ光学的に読出し可能な情報を表
    す凹領域および凸領域を有するレリーフ像フォトマスク
    ーマスターに接触させ、これによって前記レリーフ像フ
    ォトマスクーマスターの前記表面を前記感光性乾燥フィ
    ルムの前記露出した表面に等写させる工程、 (3)化学線照射を前記フォトマスクの透明領域を介し
    て通し、これによって前記感光性乾燥フィルムの前記露
    出した領域を硬化させかつ前記感光性乾燥フィルムの前
    記露出した領域の屈折率の少なくとも0.01の変化を
    もたらす工程、 (4)前記像の描かれた前記感光性乾燥フィルムの表面
    から前記フォトマスクを除去する工程、 (5)化学線照射で前記感光性乾燥フィルムを強く露光
    して前記感光性乾燥フィルムの先に露出していなかった
    領域の硬化をもたらす工程、 (6)前記像の描かれた感光性乾燥フィルムの表面上に
    反射層を形成する工程、および (7)前記反射層または保護用支持フィルムの表面のい
    ずれかに硬化可能な接着剤の一層を塗布する工程、 (8)前記反射層を前記保護用支持フィルムにこれらの
    間にサンドイッチされた前記硬化可能な接着剤で積層す
    る工程、および (9)前記接着剤を硬化させる工程を含む光学読出し可
    能読出し専用記録媒体の製造方法。
JP9833992A 1991-04-18 1992-04-17 光学読出し可能読出し専用媒体の製造方法 Pending JPH05114171A (ja)

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