JPS60227253A - 高密度記録体の製造法 - Google Patents
高密度記録体の製造法Info
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- JPS60227253A JPS60227253A JP8469584A JP8469584A JPS60227253A JP S60227253 A JPS60227253 A JP S60227253A JP 8469584 A JP8469584 A JP 8469584A JP 8469584 A JP8469584 A JP 8469584A JP S60227253 A JPS60227253 A JP S60227253A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 4
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 3
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 3
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 3
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 3
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC#N AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNWNNQTUZYVQRK-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1h-pyrrolo[2,3-c]pyridine-2-carboxylic acid Chemical compound BrC1=NC=C2NC(C(=O)O)=CC2=C1 NNWNNQTUZYVQRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002574 CR-39 Polymers 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 poly(4-methylpentene-1) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の極する技術分野〕
本発明は透明なプラスチックフィルムに、該フィルムと
屈折率の異なる部分からなるパターンを形成させること
を特徴とする尚蜜碇把録停に関するものである。
屈折率の異なる部分からなるパターンを形成させること
を特徴とする尚蜜碇把録停に関するものである。
従来、光を用いた高答＃記録媒停としてＣ。
ビデオディスクやオーディオディスク等のシステムがあ
る。この高密度記録体悴は大きく分けて不可逆記録と可
逆記燥に分’４−ｆＬ 、不可逆記録は集束した光線の
加熱作用にエフ材料を水久汲化させて記録させるのに対
しｈ ｏＪ逆記録は光照射にＬる材料の物理的性質の変
化を利用し記録さぜる０これらのうち不発明に係るのａ
不可逆記録に関するものである。
る。この高密度記録体悴は大きく分けて不可逆記録と可
逆記燥に分’４−ｆＬ 、不可逆記録は集束した光線の
加熱作用にエフ材料を水久汲化させて記録させるのに対
しｈ ｏＪ逆記録は光照射にＬる材料の物理的性質の変
化を利用し記録さぜる０これらのうち不発明に係るのａ
不可逆記録に関するものである。
主な不可逆記録としてσ、ビットと祢する八を形成する
もの、およびガス？営んだバブルを形成するもの等があ
る。こｎらのビットやバブルを生成させるための２イル
ム媒捧ｕ２Ｊ曽ないし６層以上の構造を有している。
もの、およびガス？営んだバブルを形成するもの等があ
る。こｎらのビットやバブルを生成させるための２イル
ム媒捧ｕ２Ｊ曽ないし６層以上の構造を有している。
例えはビット形成法としては第２図に示すＬうな６層構
造金属薄膜記録ディスクがある。これにアルミニウムの
反射膜４を設け７ｃ基板５に透ＢＡな肪奄俸膚３を設け
さらにその上にスパッタリングによって形成したテルル
合金層２にビット６を設けて記録を行う方式である０１
に銖謹膜であって透明なプラスチック２イルムからなっ
ている。
造金属薄膜記録ディスクがある。これにアルミニウムの
反射膜４を設け７ｃ基板５に透ＢＡな肪奄俸膚３を設け
さらにその上にスパッタリングによって形成したテルル
合金層２にビット６を設けて記録を行う方式である０１
に銖謹膜であって透明なプラスチック２イルムからなっ
ている。
もう１つの代表的なビット形成法として第６図に示すエ
ラな金輌含浸膜記録ディスクがある。
ラな金輌含浸膜記録ディスクがある。
こｆＬｒ［ポリエステルフィルム族の基板５に有機コロ
イドＬｖなる下地層７忙重ね、その上に鉄粒子ｒ含んだ
反射層８ｒ設け、この部分にレーザ光葡照射することｌ
ｌ′ｉ：Ｌｖ銀粒子ｒ宮んだ反射層８か熱のため給与ビ
ット６を形成する。本力式は第２囚の金＾薄膜記録ディ
スク法と同じく表層は保護膜１でおおわれる。またバブ
ル記録ディスクに、第４図に示したように金′またに白
金薄膜層９およびプラスチック基板５でガス発生ポリマ
層１０【挾みこみ、レーザ等でガス発生ポリマ層＋（Ｉ
ａ：／Ｊｌ］ｆｌ’ｌすることにＬクバプルを形ｂｙＬ
せしめ記録するものである。
イドＬｖなる下地層７忙重ね、その上に鉄粒子ｒ含んだ
反射層８ｒ設け、この部分にレーザ光葡照射することｌ
ｌ′ｉ：Ｌｖ銀粒子ｒ宮んだ反射層８か熱のため給与ビ
ット６を形成する。本力式は第２囚の金＾薄膜記録ディ
スク法と同じく表層は保護膜１でおおわれる。またバブ
ル記録ディスクに、第４図に示したように金′またに白
金薄膜層９およびプラスチック基板５でガス発生ポリマ
層１０【挾みこみ、レーザ等でガス発生ポリマ層＋（Ｉ
ａ：／Ｊｌ］ｆｌ’ｌすることにＬクバプルを形ｂｙＬ
せしめ記録するものである。
し〃）シ、これらの記録媒体σビット法にしてもバブル
法にしてもフィルム構成が多ノ曽栴造であり、ｍ造かａ
雑となる。
法にしてもフィルム構成が多ノ曽栴造であり、ｍ造かａ
雑となる。
葦たピット筐たにバブルというフィルム形状の全体的な
１化ｔＬＬって記録塗付うものであるため、ビットの周
辺部の盛り上かりあるいに。
１化ｔＬＬって記録塗付うものであるため、ビットの周
辺部の盛り上かりあるいに。
バブル周辺部のシールの確保等のため、ビットあるいけ
バブル間あるいけトラック間にこれらビットやバブルの
ない間ｙＪ１．部を設ける必資がある沈め記録密度か１
限されるといつπ問題かある。
バブル間あるいけトラック間にこれらビットやバブルの
ない間ｙＪ１．部を設ける必資がある沈め記録密度か１
限されるといつπ問題かある。
不発明に〃）＼る状況に鑑み鋭意検討の結末なされたも
のでめっゝて構造か簡単でしかも記録密度の高い元記録
俸を提供することｔ目的とする。
のでめっゝて構造か簡単でしかも記録密度の高い元記録
俸を提供することｔ目的とする。
か＼る目的に不発明ｒＣよれは貞曾佐の屈折率カヘース
フイルムと異なるＭ廿性七ツマ−ｋｆ有する透明プラス
チック製ベース２イルムにマスクを介しであるいは＠接
に光’ｉ＊は電子線を照射することによＶ前記モノマー
ｒ選択的に重台させた佼、未反応モノマーを除去するこ
とにＬｒ）ベースフィルム中に屈折率の異なる微細パタ
ーンを形成すること［Ｌ９遍地さｎる□本発明に怖る島
密ＩＷ記録捧の製法の似１資にベースフィルムとなるポ
リマーと重合性の屈折率が前６己ポリマーと異なる重合
性率電停ｔａｍ性のよい低沸点溶媒に俗解したものｔ流
延成形したのち溶媒ｔとはしてフィルム化するのか一般
的であるか１台性モノマー葡含まないポリマーからフィ
ルムｒ作Ｖ俊から１甘性モノマーを拡散させる寺の＋段
で作成する０然るのち第１図（ａ）に示すようにλきさ
か１０μｍ以上好１しくに１μｍ以上０ドツトあるいけ
微細パターンを焼付けたフォトマスク１６紫のせ光重た
に電子祿葡照射するか、あるいに大きさか１０μｍ以下
好１しくけ１μｍ以Ｔ［牧Ｖこんた尤またに電子線１４
ｉ直接照射することＫよ、り照射されπ部位の七ツマ−
だけｋＭ台させる〇 然ゐ佐兵窒加熱寺の力演で未反応上ツマ−を除去するこ
とＶＣＬｖ記１図（ｂ）に示すようにベースフィルムと
屈折率か異なる部位１５がフィルム中にｔＩ！！Ｉ定さ
れる。上Ｂ已のようにして１故したフィルムに鹿常別の
基板に貼竹し補強する。
フイルムと異なるＭ廿性七ツマ−ｋｆ有する透明プラス
チック製ベース２イルムにマスクを介しであるいは＠接
に光’ｉ＊は電子線を照射することによＶ前記モノマー
ｒ選択的に重台させた佼、未反応モノマーを除去するこ
とにＬｒ）ベースフィルム中に屈折率の異なる微細パタ
ーンを形成すること［Ｌ９遍地さｎる□本発明に怖る島
密ＩＷ記録捧の製法の似１資にベースフィルムとなるポ
リマーと重合性の屈折率が前６己ポリマーと異なる重合
性率電停ｔａｍ性のよい低沸点溶媒に俗解したものｔ流
延成形したのち溶媒ｔとはしてフィルム化するのか一般
的であるか１台性モノマー葡含まないポリマーからフィ
ルムｒ作Ｖ俊から１甘性モノマーを拡散させる寺の＋段
で作成する０然るのち第１図（ａ）に示すようにλきさ
か１０μｍ以上好１しくに１μｍ以上０ドツトあるいけ
微細パターンを焼付けたフォトマスク１６紫のせ光重た
に電子祿葡照射するか、あるいに大きさか１０μｍ以下
好１しくけ１μｍ以Ｔ［牧Ｖこんた尤またに電子線１４
ｉ直接照射することＫよ、り照射されπ部位の七ツマ−
だけｋＭ台させる〇 然ゐ佐兵窒加熱寺の力演で未反応上ツマ−を除去するこ
とＶＣＬｖ記１図（ｂ）に示すようにベースフィルムと
屈折率か異なる部位１５がフィルム中にｔＩ！！Ｉ定さ
れる。上Ｂ已のようにして１故したフィルムに鹿常別の
基板に貼竹し補強する。
このようにして伯られ罠記録停に１０μｍ以下に較９Ｃ
んだ光ｔあてることＫより、屈衝率差を検知し記録の読
出し７行なうことか可能になる。
んだ光ｔあてることＫより、屈衝率差を検知し記録の読
出し７行なうことか可能になる。
不発明において使用されるベースフィルムの材料として
け均負性および無色透明性牙考慮してポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン。
け均負性および無色透明性牙考慮してポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン。
ポリカーボネート、ポリ４−メチルペンテン−１お工ひ
アリルジグライコールカーボネートなどか使用できる。
アリルジグライコールカーボネートなどか使用できる。
また屈折率差針設けるための年輩体としては、光またけ
電子線による反応性に優れ、屈折率がフィルム材料と異
なり、ざらにンイルム制科との相浴性かよいもの、例え
はアクリル歌メチル、メタクリル版メチル、アクリル閤
エテル、アクリル敵イソブチル、アクリルば２−ハイド
ロキシエチル、アク１ＪＡＩＷ２−ハイドロキシプロピ
ル、アクリル取２−シアノエチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸エチルなどが使用される。
電子線による反応性に優れ、屈折率がフィルム材料と異
なり、ざらにンイルム制科との相浴性かよいもの、例え
はアクリル歌メチル、メタクリル版メチル、アクリル閤
エテル、アクリル敵イソブチル、アクリルば２−ハイド
ロキシエチル、アク１ＪＡＩＷ２−ハイドロキシプロピ
ル、アクリル取２−シアノエチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸エチルなどが使用される。
以下実施？１ｌＶＬエク史に祝明丁ゐ。
突施例１
塩化メチレン１００部に対し、ビスフェノール２ポリカ
ーボネート（三菱ガス化学社製、屈折率１．５９）７部
、アクリλばメチル（屈折率１．４９）４都お工ひ光増
感剤としてベンゾインエチルエーテルα２ｓの割合で混
会した浴欧ｔ１５ｇ秤駕し、紙間が２０ｃｍ角の容器に
そそさ。
ーボネート（三菱ガス化学社製、屈折率１．５９）７部
、アクリλばメチル（屈折率１．４９）４都お工ひ光増
感剤としてベンゾインエチルエーテルα２ｓの割合で混
会した浴欧ｔ１５ｇ秤駕し、紙間が２０ｃｍ角の容器に
そそさ。
こみ、厚さ２０μｍのプラスチックフィルムを侍た。侍
られたプラスチックフィルムに、記録同各を多数の１０
μｍ径のパターンで表わしたフォトマスクｔ（Ｉ）ぜ、
紫外様’ｚ １０分間照射するＣとにＬｖフォトマスク
のパターン以外の部分のアクリル敵メチルｔ、塩せした
。さらに９０℃によけた真空乾燥機で５時間禾反応モノ
マを除去したのち透明なフィルム基＊’ｒ貼付は補強し
た。以上に工９屈折率の異なる微細パターン以外、これ
に１０μｍ程度のスポットに枚りこんだレーザ光ｔあて
走査させることによ！ｌｌ油竹率走で検出し七の１８号
を笈候装置を逍し記録を再生することがでさた。
られたプラスチックフィルムに、記録同各を多数の１０
μｍ径のパターンで表わしたフォトマスクｔ（Ｉ）ぜ、
紫外様’ｚ １０分間照射するＣとにＬｖフォトマスク
のパターン以外の部分のアクリル敵メチルｔ、塩せした
。さらに９０℃によけた真空乾燥機で５時間禾反応モノ
マを除去したのち透明なフィルム基＊’ｒ貼付は補強し
た。以上に工９屈折率の異なる微細パターン以外、これ
に１０μｍ程度のスポットに枚りこんだレーザ光ｔあて
走査させることによ！ｌｌ油竹率走で検出し七の１８号
を笈候装置を逍し記録を再生することがでさた。
夷＃？ｌＪ２
塩化メチレン１００ｓに対し、ビスフェノールｚｔ１部
、アクリル鍍メチルτ０，６部および光増感剤としてベ
ンゾインエチルエーテルｔｏ。
、アクリル鍍メチルτ０，６部および光増感剤としてベ
ンゾインエチルエーテルｔｏ。
０６部混曾した浴欣【６ｇ秤量し底口が２ＱＣｍ角の容
器に江きこみ、厚さ２μｍのプラスチックフィルム７を
侍た◎得られπプラスチックフィルムに、記録同各を多
数の１μｍ径のパターンで衣わしたフォトマスクｔの一
＋！：、紫外ｍｋ１分間照射することにＬクフォトマス
クのパターン以外の部分のアクリル取メチルｒＭ台した
。さらに９０℃によけ？ＣＡ窒乾保磯で１時間禾反応単
量体【除去した俊虚明なンイルム基似を貼付は補強した
。以上にＬり屈折率の異なる微細パターンを侍、ｃｎに
１μｍ程岐に絞りＣんだレーザ光ｔあて走査させること
にＬｒ）Ｍ竹率差τ検出しその信号を汲候装置を逍し記
録を再生することかできた。
器に江きこみ、厚さ２μｍのプラスチックフィルム７を
侍た◎得られπプラスチックフィルムに、記録同各を多
数の１μｍ径のパターンで衣わしたフォトマスクｔの一
＋！：、紫外ｍｋ１分間照射することにＬクフォトマス
クのパターン以外の部分のアクリル取メチルｒＭ台した
。さらに９０℃によけ？ＣＡ窒乾保磯で１時間禾反応単
量体【除去した俊虚明なンイルム基似を貼付は補強した
。以上にＬり屈折率の異なる微細パターンを侍、ｃｎに
１μｍ程岐に絞りＣんだレーザ光ｔあて走査させること
にＬｒ）Ｍ竹率差τ検出しその信号を汲候装置を逍し記
録を再生することかできた。
上記説明〃為ら明らかなＬつに本発明にＬｆＬは透明な
プラスチックフィルム中に屈折率の異なる部位を設ける
ことにＬりｔＦｔ ＠ ’ｃ記録するようにしたもので
あり、従来のビットあるいはバブル形成のように記録媒
体に機械的な変形を起させて記録するものでにないため
記録密度【飛躍的に尚めること’ｃｅｆｌ能とするとと
もに簡単な構造のため経隣性、信頼性にすぐｆ′した高
密度記録かり能になった。
プラスチックフィルム中に屈折率の異なる部位を設ける
ことにＬりｔＦｔ ＠ ’ｃ記録するようにしたもので
あり、従来のビットあるいはバブル形成のように記録媒
体に機械的な変形を起させて記録するものでにないため
記録密度【飛躍的に尚めること’ｃｅｆｌ能とするとと
もに簡単な構造のため経隣性、信頼性にすぐｆ′した高
密度記録かり能になった。
第１崗は本弁明の工程の一部を示す模式断面図、第２図
乃至第４図ａ従来例の記録媒体を示すもので第２図は金
楓薄膜記録ディスクの資都断面図、第４図はバブル記録
ディスクの景都断面図である。 符号の説明 １２、ベースフィルム １＆ フォトマスク１４、光重
たσ電子源 １５、モノマー重合部位代理人弁理士 若
林 邦 彦 第１図 （ａ） （ｂ） 第２図 第３図
乃至第４図ａ従来例の記録媒体を示すもので第２図は金
楓薄膜記録ディスクの資都断面図、第４図はバブル記録
ディスクの景都断面図である。 符号の説明 １２、ベースフィルム １＆ フォトマスク１４、光重
たσ電子源 １５、モノマー重合部位代理人弁理士 若
林 邦 彦 第１図 （ａ） （ｂ） 第２図 第３図
Claims (1)
- １、重会佼の屈？ｒ率がベースフィルムと異なるｍ台性
％／マーを含有するベースフィルムにマスク紫介しであ
るい０＠接に光またに電子線を照射することにより前記
モノマーを辿択的にＮ曾さぜ、その故未及応モノマーを
除去することにＬｖベースフィルムと屈！ｊｒ率が異な
る部位からなる１０μｍ以下の大きさの倣細パターンを
形成せしめることｔ誉倣とする＾密朋記録体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8469584A JPS60227253A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 高密度記録体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8469584A JPS60227253A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 高密度記録体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60227253A true JPS60227253A (ja) | 1985-11-12 |
Family
ID=13837800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8469584A Pending JPS60227253A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 高密度記録体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60227253A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0509472A3 (en) * | 1991-04-18 | 1992-12-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making read-only optically readable media |
| US5248990A (en) * | 1987-04-16 | 1993-09-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing optical recording medium for optical data recording and reproduction |
-
1984
- 1984-04-26 JP JP8469584A patent/JPS60227253A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5248990A (en) * | 1987-04-16 | 1993-09-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing optical recording medium for optical data recording and reproduction |
| EP0509472A3 (en) * | 1991-04-18 | 1992-12-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making read-only optically readable media |
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